陳宏胤 楊莎
摘 要 本文發(fā)明了一種玻璃燒結(jié)后的GPP硅片氧化層的新型處理方法,包括:取燒結(jié)后的硅片,在混合酸溶液中處理4~10min,流動(dòng)水沖洗14~16min,超聲波超聲清洗180~300min。本方法在不破壞玻璃的前提下快速的去除氧化層,使硅片鎳層更加均勻,產(chǎn)品質(zhì)量更加穩(wěn)定,提升了機(jī)械良率,縮短了生產(chǎn)周期,降低了生產(chǎn)成本。
關(guān)鍵詞 玻璃燒結(jié);去除氧化層;玻璃
序言
目前市場(chǎng)上GPP硅片玻璃燒結(jié)后去氧化層的方式是利用噴砂機(jī)去除硅片燒結(jié)后的氧化層,此方式操作效率很低且噴砂時(shí)的壓力對(duì)硅片造成機(jī)械損傷,噴砂機(jī)噴砂時(shí)噴槍的出砂量很難均勻的控制,導(dǎo)致氧化層去除不均勻,玻璃容易被破壞,噴完砂的硅片鍍鎳前清洗清洗方式比較復(fù)雜。我們對(duì)GPP硅片玻璃燒結(jié)后去氧化層的方式進(jìn)行了改進(jìn),在硅片制作過(guò)程中采用了混合酸溶液代替噴砂機(jī)去除燒結(jié)后硅片的氧化層,對(duì)硅片的損傷很小,提升了硅片的機(jī)械良率,氧化層去除均勻,效率高,鍍鎳前清洗簡(jiǎn)單,生產(chǎn)周期短,生產(chǎn)成本低。此方法使硅片鎳層更加均勻,產(chǎn)品質(zhì)量更加穩(wěn)定,提升了機(jī)械良率,縮短了生產(chǎn)周期,降低了生產(chǎn)成本[1]。
1GPP硅片氧化層去除的新技術(shù)方案
新型技術(shù)方案如下:取GPP玻璃燒結(jié)后的硅片,將硅片放在鐵氟龍花籃里,混酸槽中配制好混酸,將裝有硅片的花籃放進(jìn)混合酸溶液中處理4~10min,當(dāng)時(shí)間到達(dá)規(guī)定時(shí)間后,將裝有硅片的花籃拿出酸槽,放入第一級(jí)水中后迅速提起,硅片P面晶粒脫水合格后放入第二級(jí)水槽中沖洗14~16min。最后將裝有硅片的花籃放入裝有純水的超聲波中超聲清洗180~300min。將GPP硅片溝槽內(nèi)的浮動(dòng)的玻璃粉和雜質(zhì)超聲出來(lái)。
在上述技術(shù)方案基礎(chǔ)上,新型處理工藝還可以做如下改進(jìn)。
所用的混合酸為氫氟酸、氟化銨、純水體積比1~2∶2~4∶1~3混合而成的溶液。氫氟酸是氟化氫氣體的水溶液,無(wú)色,具有強(qiáng)烈的腐蝕性,去硅表面的氧化物;氟化銨為離子化合物,主要提供氟離子。純水指的是不含雜質(zhì)的H2O。
使用新工藝取得了有益效果:現(xiàn)有技術(shù)GPP硅片玻璃燒結(jié)后利用噴砂機(jī)去除硅片燒結(jié)后的氧化層,此方式操作效率很低且噴砂時(shí)的壓力對(duì)硅片造成機(jī)械損傷,降低機(jī)械良率,噴砂機(jī)噴砂時(shí)噴槍的出砂量很難均勻的控制,導(dǎo)致氧化層去除不均勻,玻璃容易被破壞,噴完砂的硅片鍍鎳前清洗清洗方式比較復(fù)雜。新型處理工藝在硅片制作過(guò)程中采用了混合酸溶液代替噴砂機(jī)去除氧化層,此方式對(duì)硅片的損傷很小,提升了硅片的機(jī)械良率,氧化層去除均勻,效率高,鍍鎳前清洗簡(jiǎn)單,縮短了生產(chǎn)周期[2]。
下面舉兩個(gè)實(shí)例說(shuō)明新型處理工藝的原理和特征。
實(shí)施例1:
取GPP玻璃燒結(jié)后的硅片,將硅片擺放在鐵氟龍花籃里后,在混酸槽中配制好混酸,將裝有硅片的花籃放進(jìn)混合酸溶液中處理8min,當(dāng)時(shí)間到達(dá)規(guī)定時(shí)間后,將裝有硅片的花籃拿出酸槽,放入第一級(jí)水中后迅速提起, GPP硅片P面晶粒脫水合格后放入第二級(jí)沖水槽中流動(dòng)水沖洗14min后,將裝有硅片的花籃放入裝有純水的超聲波中超聲清洗180min。
實(shí)施例2:
取GPP玻璃燒結(jié)后的硅片,將硅片擺放在鐵氟龍花籃里后,在混酸槽中配制好混酸,將裝有硅片的花籃放進(jìn)混合酸溶液中處理10min,當(dāng)時(shí)間到達(dá)規(guī)定時(shí)間后,將裝有硅片的花籃拿出酸槽,放入第一級(jí)水中后迅速提起, GPP硅片P面晶粒脫水合格后放入第二級(jí)沖水槽中流動(dòng)水沖洗16min后,將裝有硅片的花籃放入裝有純水的超聲波中超聲清洗300min[3]。
2原工藝和新工藝的實(shí)驗(yàn)比較
采用噴砂去氧化層工藝,收集4000片的數(shù)據(jù),硅片的機(jī)械良率為95.0%,而采用新的工藝,同樣投入4000片硅片,硅片的機(jī)械良率為96.8%。良率得到了較大幅度的提升。電性良率也得到了較大幅度的提升,電性良率由97%提升到98.5%,在可靠性方面,具體請(qǐng)見(jiàn)表1[4]。
3結(jié)束語(yǔ)
采用新型處理工藝解決了原有工藝去氧化層效率低,機(jī)械良率低,氧化層去除不均勻,玻璃容易被破壞,鍍鎳前清洗清洗方式比較復(fù)雜,成本高的問(wèn)題,使硅片鎳層更加均勻,產(chǎn)品質(zhì)量更加穩(wěn)定。
參考文獻(xiàn)
[1] (美)施敏,李明逵.半導(dǎo)體器件物理與工藝[M].蘇州:蘇州大學(xué)出版社,2014:73.
[2]《半導(dǎo)體器件制造技術(shù)叢書(shū)》編寫(xiě)組.硅平面器件工藝基礎(chǔ)[M].北京:國(guó)防工業(yè)出版社,1971:59.
[3] 任繼棟,高榮杰,張宇,等.混酸刻蝕-氟化處理制備X80管線(xiàn)鋼雙疏表面及其耐蝕性研究[J].中國(guó)腐蝕和防護(hù)學(xué)報(bào):自然科學(xué)版,2017,3(8):233-240.
[4] 孔德平,周榮勛.高壓臺(tái)面功率晶體管的工藝分析[J].半導(dǎo)體技術(shù),1991,6(12):42-44.