據(jù)韓國《中央日報》報道，三星電子已成功研發(fā)出5納米（nm）半導體工藝，并于4月正式量產(chǎn)首個利用極紫外光刻（EUV）的7納米芯片。

三星電子宣布成功開發(fā)的5納米精密工藝采用了比現(xiàn)有的ArF更優(yōu)越的EUV技術。與ArF工藝相比，EUV短波長，能夠更加準確地畫出精密半導體的電路。半導體的電路越設計越薄，芯片的尺寸變小，耗電量也同時減小，發(fā)熱也降低，因此精密工藝尤為重要。

三星電子方面表示，此次開發(fā)的“5納米工藝”通過最優(yōu)化的單元儲存設計，將比已有的7納米減少25%的面積大小，同時電量使用率提高20%，性能提高10%。