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        X射線熒光光譜在硅酸鹽全分析中的應(yīng)用

        2019-05-13 01:09:06李永玲索也兵劉偉趙旭東
        建材發(fā)展導(dǎo)向 2019年8期
        關(guān)鍵詞:光譜儀硅酸鹽二氧化硅

        李永玲,索也兵,劉偉,趙旭東

        (中國(guó)建筑材料工業(yè)規(guī)劃研究院 北京 100035)

        0 引言

        硅酸鹽全分析項(xiàng)目為 SiO2、Al2O3、Fe2O3、FeO、 MnO、 MgO、 CaO、 Na2O、 K2O、 TiO2、P2O5、H2O+、H2O-、LOl等14項(xiàng)。眾所周知,硅酸鹽全分析的常規(guī)檢測(cè)方法是化學(xué)法,包括滴定法、紫外分光光度法、原子吸收法等多個(gè)檢測(cè)手段?;瘜W(xué)法每個(gè)項(xiàng)目都是單獨(dú)做,而且大部分都是使用滴定法,檢測(cè)步驟繁瑣,耗時(shí)較長(zhǎng),一般來(lái)說(shuō),一個(gè)全分析從溶解樣品到發(fā)出檢測(cè)報(bào)告需要一周的時(shí)間。常規(guī)檢測(cè)方法工作量大,耗時(shí)長(zhǎng),效率較低,急需新的技術(shù)補(bǔ)充或替代分析。

        研究的X射線熒光光譜儀檢測(cè)硅酸鹽項(xiàng)目,檢測(cè)樣品包括但不限于硅酸鹽巖石,也可以是陶瓷、耐火材料等建材材料。目前研究的硅酸鹽標(biāo)準(zhǔn)曲線可測(cè)定 SiO2、Al2O3、Fe2O3、MgO、CaO、Na2O、K2O、TiO2、P2O5、MnO10個(gè)項(xiàng)目,經(jīng)過(guò)多次試驗(yàn)論證,這10項(xiàng)檢測(cè)結(jié)果數(shù)據(jù)在要求的誤差范圍之內(nèi),檢測(cè)結(jié)果可靠。

        X射線熒光光譜檢測(cè)硅酸鹽中的SiO2、Al2O3、Fe2O3、 MgO、 CaO、 Na2O、 K2O、 TiO2、 P2O5、MnO10項(xiàng)僅需要幾分鐘,加上熔融樣品的時(shí)間也不到半小時(shí),而且X射線熒光光譜儀一次性可以測(cè)試多個(gè)樣品,大大提高了工作效率。因此,研究用XRF測(cè)定硅酸鹽全分析中的部分項(xiàng)目對(duì)提高檢測(cè)效率有著顯著意義。

        1 儀器設(shè)備與材料

        (1) X-射線熒光光譜儀(AdvantXP),美國(guó)熱電公司,測(cè)定二氧化硅的儀器工作條件見(jiàn)表1。

        (2) 高溫爐:XRF高頻熔樣爐。

        表1 儀器工作條件

        (3) 電子天平:1/100 000天平。

        (4)坩堝:鉑金和黃金合金坩堝。

        (5) 溶劑:67Li2B4O7:33LiBO2 X熒光專(zhuān)用溶劑。

        (6)脫模劑為飽和溴化鋰。

        2 熔片的制備與測(cè)量

        準(zhǔn)確稱(chēng)取 5.4g(±0.0002g)67Li2B4O7:33LiBO2 X熒光專(zhuān)用熔劑,稱(chēng)取0.6g(±0.0002g) 試樣,攪拌均勻,加入10滴飽和溴化鋰脫模劑,放入XRF高頻熔樣爐,按照不同的試樣設(shè)置合理的熔樣加熱功率、成型加熱功率、氧化時(shí)間、升溫時(shí)間、恒溫時(shí)間、轉(zhuǎn)擺時(shí)間、成型時(shí)間,設(shè)置完畢后點(diǎn)擊確定按鈕,儀器自動(dòng)升溫開(kāi)始工作。一般樣品整個(gè)熔解過(guò)程需要10分鐘,熔解完畢,熔樣爐發(fā)出報(bào)警,將溶液倒入已加熱的鉑—黃合金成型模具中,自然冷卻三分鐘后樣品成玻璃片狀且與模具自動(dòng)剝離,取出,貼好標(biāo)簽,放入X射線光譜儀裝樣盒內(nèi)待測(cè)定。

        創(chuàng)建一個(gè)批處理,選擇已經(jīng)完成的工作標(biāo)準(zhǔn)曲線,輸入樣品名稱(chēng)和編號(hào),點(diǎn)擊測(cè)試后自動(dòng)分析。每個(gè)樣品大約需要10分鐘分析完畢,儀器會(huì)自動(dòng)分析下一個(gè)樣品。

        3 工作曲線的制作

        3.1 標(biāo)準(zhǔn)曲線的制作

        工作曲線的制作是本次討論的重點(diǎn),工作曲線的微小差異也會(huì)導(dǎo)致檢測(cè)數(shù)據(jù)超出誤差范圍,因此,標(biāo)準(zhǔn)樣品的選擇至關(guān)重要。下面以二氧化硅為例展開(kāi)討論。為了保證曲線的覆蓋范圍盡量廣泛,按照二氧化硅含量的不同,從低到高,選擇了28個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品,經(jīng)過(guò)不斷的實(shí)驗(yàn)論證和標(biāo)準(zhǔn)樣品的比對(duì),選定9個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品制作了二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)曲線,為了避免誤差,曲線采用的是一次曲線,其它個(gè)別元素在特殊情況選擇二次曲線。下面以二氧化硅為例制作標(biāo)準(zhǔn)曲線,見(jiàn)表2和圖1。

        表2 二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)值和測(cè)試值

        表2 同一樣品的多次檢測(cè)對(duì)比

        圖1 二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)曲線

        本標(biāo)準(zhǔn)曲線X軸是二氧化硅的濃度,Y軸是二氧化硅K線的凈強(qiáng)度。

        3.2 數(shù)學(xué)模型

        在X熒光光譜儀設(shè)定好的條下測(cè)定標(biāo)準(zhǔn)樣品的熒光強(qiáng)度(I),然后根據(jù)其含量與相對(duì)強(qiáng)度呈線性關(guān)系,建立如下數(shù)學(xué)模型:

        I:各標(biāo)準(zhǔn)樣品測(cè)量的相對(duì)熒光強(qiáng)度

        a:工作曲線的截距

        b:工作曲線的斜率

        C:各標(biāo)準(zhǔn)樣品的濃度

        4 樣品的檢測(cè)與結(jié)果的分析

        樣品的熔融過(guò)程和標(biāo)準(zhǔn)樣品的熔融過(guò)程相同,在具體的試驗(yàn)過(guò)程中,根據(jù)樣品成分的不同,熔融時(shí)間有一定的變化,但是整個(gè)過(guò)程步驟相同,因成分含量不同,熔片顏色和深度也不盡相同,只要顏色均勻,沒(méi)有未熔融的雜質(zhì),樣片就是合格的。

        樣片在空氣中自然冷卻后,放入X射線光譜儀裝樣盒內(nèi)待測(cè)。創(chuàng)建一個(gè)批處理,選擇已經(jīng)完成的工作標(biāo)準(zhǔn)曲線,輸入樣品名稱(chēng)和編號(hào),點(diǎn)擊測(cè)試后自動(dòng)分析。

        一般來(lái)說(shuō),為了保證結(jié)果的準(zhǔn)確,同一樣品做三次就可以了,選擇最接近的兩個(gè)數(shù)據(jù)取平均值,如果3個(gè)數(shù)據(jù)差距較大,超出誤差范圍,就需要重新檢測(cè)了。本示例為了更加準(zhǔn)確,共做了6次,GBW07427、GBW07404、GBW07310這三個(gè)樣品所有檢測(cè)數(shù)據(jù)均在誤差范圍之內(nèi),所以直接取平均值,只有GBW07407其中一個(gè)數(shù)據(jù)超過(guò)了誤差范圍,其余五個(gè)數(shù)據(jù)很接近,且在誤差范圍之內(nèi),所以舍棄超范圍的數(shù)據(jù),取五個(gè)數(shù)的平均值。舍棄的數(shù)據(jù)考慮是在熔解樣品的過(guò)程中有損失,所以導(dǎo)致含量偏低。

        5 結(jié)語(yǔ)

        通過(guò)以上檢測(cè)數(shù)據(jù)可以看出,X-熒光光譜儀檢測(cè)樣品結(jié)果準(zhǔn)確度高,數(shù)據(jù)均在誤差范圍之內(nèi),且檢測(cè)時(shí)間短,可操作性強(qiáng),很大程度的提高了工作效率,能很好的滿足硅酸鹽全分析的需求。

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