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        SEM&EDS技術(shù)在集成電路失效分析中的應(yīng)用和實(shí)例分析

        2018-12-27 07:01:54周金成李亞斌李習(xí)周
        電子工業(yè)專用設(shè)備 2018年6期
        關(guān)鍵詞:分析

        周金成,李亞斌,李習(xí)周

        (天水華天科技股份有限公司,甘肅 天水 741000)

        集成電路失效分析在提高集成電路的可靠性方面有著至關(guān)重要的作用,通過對(duì)集成電路進(jìn)行失效分析可以促進(jìn)企業(yè)糾正設(shè)計(jì)、實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)過程中的問題,實(shí)施控制和改進(jìn)措施,防止和減少同樣的失效模式和失效機(jī)理的重復(fù)出現(xiàn),預(yù)防同類失效現(xiàn)象再次發(fā)生。失效分析即為判斷失效的模式,查找失效原因,弄清失效機(jī)理,并且預(yù)防類似失效情況再次發(fā)生[1]。我國(guó)是集成電路的消費(fèi)大國(guó),集成電路產(chǎn)業(yè)增長(zhǎng)迅速(每年增長(zhǎng)30%),塑料封裝中的不良問題、失效原因種類繁多,如何采用正確的分析方法,有效確定失效問題的原因,對(duì)于封裝技術(shù)、失效分析技術(shù)的提升具有現(xiàn)實(shí)意義,也是集成電路向高可靠性領(lǐng)域發(fā)展的關(guān)鍵。

        SEM(ScanningElectronMicroscope)掃描式電子顯微鏡的制造依據(jù)的是電子與物質(zhì)的相互作用。當(dāng)一束高能的入射電子轟擊物質(zhì)表面時(shí),被激發(fā)的區(qū)域?qū)a(chǎn)生二次電子、俄歇電子、特征X射線和連續(xù)譜X射線、背散射電子、透射電子,以及在可見、紫外、紅外光區(qū)域產(chǎn)生的電磁輻射。同時(shí),也可產(chǎn)生電子-空穴對(duì)、晶格振動(dòng)(聲子)、電子振蕩(等離子體)。原則上講,利用電子和物質(zhì)的相互作用,可以獲取被測(cè)樣品本身的各種物理、化學(xué)性質(zhì)的信息,如形貌、組成、晶體結(jié)構(gòu)、電子結(jié)構(gòu)和內(nèi)部電場(chǎng)或磁場(chǎng)等等。掃描電子顯微鏡正是根據(jù)上述不同信息產(chǎn)生的機(jī)理,采用不同的信息檢測(cè)器,使選擇檢測(cè)得以實(shí)現(xiàn)。

        1 樣品描述

        產(chǎn)品為批量生產(chǎn)產(chǎn)品,通常FT(Function Test:功能測(cè)試)良率為99.7%以上,但個(gè)別批次產(chǎn)品良率未達(dá)標(biāo),主要不良項(xiàng)為S(short)超標(biāo),不良比例大于0.50%,經(jīng)開短路測(cè)試(開短路測(cè)試的原理,是基于產(chǎn)品本身管腳的ESD防靜電保護(hù)二極管的正向?qū)▔航档脑磉M(jìn)行測(cè)試[2]),發(fā)現(xiàn)短路管腳不固定,沒有任何規(guī)律。經(jīng)確認(rèn)樣品封裝工藝、材料,沒有做任何變化,在FT測(cè)試時(shí),還是發(fā)現(xiàn)部分樣品失效。因此可以認(rèn)為器件是封裝過程中的缺陷引起,同時(shí)測(cè)試I-V曲線表明,失效器件的不固定管腳有短路現(xiàn)象。

        1.1 外觀檢查

        在外觀檢查中,主要在45倍顯微鏡下檢查是否有明顯的缺陷,如塑封體是否開裂,管腳是否接觸良好等。對(duì)不良樣品,檢查正反面、前后端面、左右端面,未發(fā)現(xiàn)封裝缺陷及異常,如圖1所示。

        圖1 樣品外觀檢查圖

        1.2 X-ray(X射線透視)檢查

        X-ray透視技術(shù)的原理與醫(yī)用完全相同,此方法主要用于電子器件的內(nèi)引線斷裂、變形等問題的觀察。對(duì)不良樣品進(jìn)行X-ray檢查,如圖2所示,由圖片可以看出樣品焊線完整,焊點(diǎn)與焊盤接觸良好,焊線無變形、斷開和與其它焊線接觸短路的現(xiàn)象,符合壓焊圖規(guī)范。

        圖2 樣品X-ray檢查圖

        1.3 SAM掃描

        C-SAM(C-modeScanningAcousticMicroscope:C型掃描聲學(xué)顯微鏡)利用超聲脈沖探測(cè)樣品內(nèi)部空隙等缺陷,其工作原理是:應(yīng)用超聲波與不同密度材料的反射速率不同的特性來進(jìn)行分析。采用超聲掃描顯微鏡對(duì)樣品進(jìn)行掃描,來檢測(cè)塑封體內(nèi)不同粘接界面的粘接情況。檢測(cè)內(nèi)容包括:塑粉與芯片粘接界面、塑粉與引線框架載體的粘接界面、塑粉與引線框架管腳粘接界面。參考IPC/JEDECJ-STD-035標(biāo)準(zhǔn)中的相關(guān)內(nèi)容,判定結(jié)果是否合格,如圖3所示。

        圖3 樣品SAM掃描結(jié)果

        從圖3中可以看出,在塑封體內(nèi)不同界面聚焦后掃描,均未發(fā)現(xiàn)分層。說明各界面結(jié)合是非常緊密的,排除封裝過程中分層造成的異常。X-ray透視和掃描聲學(xué)顯微鏡等儀器,主要用于封裝缺陷和引線斷裂的失效定位,屬于無損失效分析技術(shù),具有不必打開封裝的優(yōu)點(diǎn)[3]。

        1.4 DECAP(DECAP:開封)前探針測(cè)試管腳

        微探針的作用是測(cè)量?jī)?nèi)部器件上的電參數(shù)值,如工作點(diǎn)電壓、電流、I-V曲線等。微探針檢測(cè)技術(shù)一般是伴隨電路分析配合使用的,兩者的結(jié)合可以較快的確認(rèn)失效器件的問題。對(duì)不良樣品用萬用表進(jìn)行如下探針測(cè)試:I-V曲線顯示管腳33與34短路;如圖4顯示。

        圖4 樣品管腳33對(duì)管腳34測(cè)試IV曲線圖

        1.5 DECAP分析

        對(duì)不良樣品通過化學(xué)腐蝕方法,去除塑粉材料,再經(jīng)過超聲波清洗,觀察芯片焊線情況。通過顯微鏡檢查,發(fā)現(xiàn)樣品芯片表面,焊球焊點(diǎn)、焊線均良好,無異常。其中管腳33與管腳34焊點(diǎn)焊線良好,無焊線、焊球等質(zhì)量缺陷,如圖5所示。

        圖5 樣品開封檢查圖片

        1.6 腐球分析

        對(duì)不良樣品繼續(xù)通過化學(xué)腐蝕的方法,腐蝕掉芯片上焊線、焊球,觀察焊線區(qū)的質(zhì)量情況。通過顯微鏡檢查,各壓焊區(qū)良好,無破損等異常,如圖6所示。

        圖6 樣品腐球后檢查圖片

        1.7 DECAP后探針測(cè)試芯片

        打開封裝塑封體,裸露出芯片,并采用硝酸腐蝕掉焊線,采用機(jī)械探針測(cè)試,在失效Pin對(duì)應(yīng)的PAD上進(jìn)行測(cè)試,配合I-V曲線,發(fā)現(xiàn)曲線不再短路,與良品的I-V曲線重合,證明芯片自身無電性失效,如圖7所示。通過比較好壞芯片的電壓或波形進(jìn)行失效定位,也可對(duì)測(cè)試波形與正常樣品的波形進(jìn)行比較[3],來確認(rèn)芯片質(zhì)量。

        1.8 DECAP后探針測(cè)試管腳

        用萬用表及探針測(cè)試確認(rèn)已經(jīng)開封的樣品管腳33、34,萬用表數(shù)據(jù)及I-V曲線顯示管腳33、34仍然短路。因此可以判定,不良現(xiàn)象與焊線、芯片沒有關(guān)系。在集成電路失效分析中,電測(cè)試有著非常重要的作用。合理的對(duì)定位測(cè)試應(yīng)用,可以簡(jiǎn)化集成電路失效分析的過程,使分析變得更加準(zhǔn)確[4]。

        圖7 樣品管腳33、34對(duì)應(yīng)芯片焊區(qū)測(cè)試的I-V曲線圖

        1.9 SEM&EDS

        SEM&EDS(ScanningElectronMicroscope:掃描式電子顯微鏡;EnergyDispersiveSpectrometer:能量散射光譜儀)組合是應(yīng)用最廣的顯微分析儀器,它能快速、同時(shí)對(duì)各種試樣的微區(qū)內(nèi)的所有元素進(jìn)行定性、定量分析。SEM&EDS在定性、定量分析時(shí),是利用束徑(10~1)μm范圍的高能電子束,激發(fā)出試樣微米范圍的各種信息,進(jìn)行成份、形貌等分析[5]。采用此儀器,來檢測(cè)管腳33、34之間材料成分,發(fā)現(xiàn)管腳33、34之間存在錫(Sn)金屬元素,其它無短路管腳間無金屬元素。作為分析對(duì)比,同時(shí)檢測(cè)良品樣品,管腳33、34之間不存在金屬元素。如圖8、圖9所示。

        圖8 不良品管腳33與34之間分析結(jié)果圖

        圖9 良品管腳33與34之間分析結(jié)果圖

        2 分析結(jié)論

        由于集成電路的高集成度,找到失效部位并進(jìn)行該部位的失效機(jī)理分析是一項(xiàng)十分困難的任務(wù)。本文借鑒和參考國(guó)內(nèi)外先進(jìn)的失效分析技術(shù),最終應(yīng)用SEM&EDS來檢測(cè)管腳之間塑粉材料中的成分,發(fā)現(xiàn)失效品管腳之間存在金屬元素,良品管腳之間不存在金屬元素,確定了失效的真正原因是金屬元素污染滲入在塑粉材料中,造成不相連的管腳導(dǎo)通發(fā)生短路。根據(jù)分析結(jié)果,封裝過程可以有效采取措施,預(yù)防異常問題的再發(fā)生。隨著掃描電子顯微鏡和能量散射光譜儀的不斷改造和升級(jí),以及電子封裝工程應(yīng)用范圍的不斷擴(kuò)大,更好的利用SEM&EDS方法分析集成電路封裝失效中的異常,提高各類電子產(chǎn)品的質(zhì)量,必將成為一種發(fā)展趨勢(shì)[5]。

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