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        氫氧化物沉淀-Fenton法處理電鍍廢水的研究

        2018-10-09 07:41:58璐,白
        電鍍與環(huán)保 2018年5期

        白 璐,白 靜

        (1.包頭鋼鐵職業(yè)技術(shù)學(xué)院,內(nèi)蒙古 包頭014010;2.山西大同大學(xué) 生命科學(xué)學(xué)院,山西 大同037009)

        0 前言

        目前電鍍廢水的處理方法主要包括離子交換法、吸附法、化學(xué)沉淀法、Fenton法等[1-4]?;瘜W(xué)沉淀法是處理重金屬污染物的常用方法,而Fenton法對于處理有機污染物具有較好的效果。由于電鍍廢水成分復(fù)雜,所以單獨采用某一種處理方法并不能達到預(yù)期的效果。因此,本文采用氫氧化物沉淀法和Fenton法相結(jié)合的方法對電鍍廢水進行處理。

        1 實驗

        1.1 模擬電鍍廢水的配制

        將糖精鈉、十二烷基硫酸鈉、ZnSO4·7H2O、CuSO4·5 H2O、NiSO4·7 H2O按一定量配制成模擬廢水。其中:COD 110 mg/L,Zn2+18.0 mg/L,Cu2+16.9 mg/L,Ni2+92.1 mg/L。

        1.2 試劑與儀器

        試劑:食品級的糖精鈉;分析純的十二烷基硫酸鈉、ZnSO4·7 H2O、CuSO4·5 H2O、NiSO4·7 H2O等。

        儀器:79-1型磁力攪拌器,北京中興偉業(yè)儀器有限公司;分光光度計,美國HACH公司;原子吸收光譜儀,德國耶拿分析儀器股份公司。

        1.3 分析方法

        采用快速密封消解法測定COD。采用火焰原子分光光度法測定金屬離子的質(zhì)量濃度。

        1.4 實驗方法

        1.4.1 Fenton法處理電鍍廢水

        量取100 mL模擬電鍍廢水于錐形瓶中,在磁力攪拌器上邊攪拌邊用氫氧化鈉溶液調(diào)節(jié)模擬廢水的pH值,并向溶液中依次加入一定量的FeSO4·7 H2O溶液和H2O2,攪拌一段時間后取上層清液測其COD和金屬離子的質(zhì)量濃度,計算COD及金屬離子的去除率。

        1.4.2 氫氧化物沉淀-Fenton法處理電鍍廢水

        首先,采用氫氧化物沉淀法對模擬電鍍廢水中的金屬離子進行處理。量取100 mL模擬廢水于錐形瓶中,在磁力攪拌器上邊攪拌邊用氫氧化鈉溶液調(diào)節(jié)模擬廢水的pH值,靜置一段時間后取上層清液測其金屬離子的質(zhì)量濃度,并計算對應(yīng)金屬離子的去除率。

        取氫氧化物沉淀法處理后的上層清液于錐形瓶中,在磁力攪拌器上進行攪拌,并向溶液中依次加入一定量的FeSO4·7H2O溶液和H2O2,攪拌一段時間后取上層清液測其COD和金屬離子的質(zhì)量濃度,計算COD及金屬離子的去除率。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 Fenton法處理電鍍廢水的研究

        2.1.1 pH值對Fenton法處理電鍍廢水的影響

        圖1為pH值對COD去除率的影響,其中Fe2+與H2O2的物質(zhì)的量比為1.1。由圖1可知:COD的去除率隨pH值的增加呈現(xiàn)出先增大后減小的趨勢。Fenton試劑是由H2O2和Fe2+組成的混合體系。當(dāng)pH值較低時,有效成分Fe2+會被氧化成Fe3+,致使COD的去除效果不佳。當(dāng)pH值增加時,溶液中的OH-逐漸增多,不僅使Fe2+形成氫氧化物沉淀,還會捕捉由H2O2分解得到的羥基自由基,使得羥基自由基的總量減少,故而COD的去除效果不佳。當(dāng)pH值為3時,COD的去除率達到最大值[5-6]。

        圖1 pH值對COD去除率的影響

        2.1.2 Fe2+與H2O2的物質(zhì)的量比對Fenton法處理電鍍廢水的影響

        圖2為Fe2+與H2O2的物質(zhì)的量比對COD去除率的影響,其中pH值為3。由圖2可知:隨著Fe2+與H2O2的物質(zhì)的量比的增加,COD的去除率呈現(xiàn)出先增大后減小的趨勢。這是因為Fe2+與H2O2的物質(zhì)的量比較?。碏e2+的加入量較少)時,廢水中產(chǎn)生的羥基自由基較少,所以COD的去除率降低。當(dāng)Fe2+與H2O2的物質(zhì)的量比增大時,廢水中產(chǎn)生的羥基自由基逐漸增多,促進了Fenton反應(yīng)的進行,故而COD的去除率逐漸增大。但當(dāng)Fe2+的加入量較大時,會產(chǎn)生過多的羥基自由基,致使部分羥基自由基來不及與有機物反應(yīng)就發(fā)生了副反應(yīng)。當(dāng)Fe2+與H2O2的物質(zhì)的量比為1.1時,COD的去除率最高可以達到91.6%。

        圖2 Fe2+與H2O2的物質(zhì)的量比對COD去除率的影響

        圖3為Fe2+與H2O2的物質(zhì)的量比為1.1時溶液中金屬離子的去除率。由圖3可知:在此條件下溶液中金屬離子的去除效果并不理想。可見,僅采用Fenton法并不能達到同時降低廢水COD和金屬離子去除率的目的。

        圖3 Fe2+與H2O2的物質(zhì)的量比為1.1時溶液中金屬離子的去除率

        2.2 氫氧化物沉淀-Fenton法處理電鍍廢水的研究

        2.2.1 pH值對氫氧化物沉淀法處理電鍍廢水的影響

        圖4為pH值對Zn2+、Cu2+、Ni2+去除率的影響。由圖4可知:pH值對氫氧化物沉淀法處理電鍍廢水中金屬離子的效果十分明顯。當(dāng)pH值為10時,Zn2+、Cu2+、Ni2+的去除率最高,三者的去除率均能達到96%以上。因此,氫氧化物沉淀法處理電鍍廢水的最佳pH值為10。

        圖4 pH值對金屬離子去除率的影響

        2.2.2 氫氧化物沉淀-Fenton法處理電鍍廢水的研究

        將上述經(jīng)過氫氧化物沉淀法處理的上層清液再通過Fenton法進行處理。將清液pH值調(diào)節(jié)為3,向其中加入Fenton試劑使Fe2+與H2O2的物質(zhì)的量比為1.1。將其置于磁力攪拌器上進行反應(yīng),反應(yīng)結(jié)束后測其COD及Zn2+、Cu2+、Ni2+的質(zhì)量濃度,并計算COD及相應(yīng)金屬離子的去除率。圖5為Zn2+、Cu2+、Ni2+三者的去除率。由圖5可知:經(jīng)氫氧化物沉淀-Fenton法處理后Zn2+、Cu2+、Ni2+三者的去除率均能達到98%以上。同時,COD的去除率也能達到93.6%。這表明氫氧化物沉淀-Fenton法處理成分復(fù)雜的電鍍廢水能夠取得較為理想的效果。

        圖5 氫氧化物沉淀-Fenton法處理后金屬離子的去除率

        3 結(jié)語

        分別采用Fenton法和氫氧化物沉淀-Fenton法對模擬電鍍廢水進行處理。研究發(fā)現(xiàn):單獨采用Fenton法處理模擬電鍍廢水時,Zn2+、Cu2+、Ni2+三者的去除效果并不理想,但COD的去除效果較為明顯。當(dāng)pH值為3、Fe2+與H2O2的物質(zhì)的量比為1.1時,F(xiàn)enton法降解COD的效果最好,COD的去除率可達91.6%。此外,先采用氫氧化物沉淀法對模擬電鍍廢水進行預(yù)處理,再采用Fenton法進行進一步處理,Zn2+、Cu2+、Ni2+的去除率及COD的去除率均能達到較高值。

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