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        電磁超材料吸收器的研究進(jìn)展

        2018-08-09 09:08:28劉亞斗韓松昊
        科學(xué)與財富 2018年18期

        劉亞斗 韓松昊

        摘 要:在研究領(lǐng)域當(dāng)中,電磁超材料主要是指不具備超常電磁性質(zhì)的人工復(fù)合材料,這種材料通過對電磁波和光波的任意"裁剪",實(shí)現(xiàn)奇特的電磁性能。本文在對電磁超材料的應(yīng)用進(jìn)行研究中,對電磁超材料吸收器的研究情況和發(fā)展方向進(jìn)行了匯總。并依托現(xiàn)階段的研究成果,對研究領(lǐng)域之中,電磁超材料多頻段太赫茲吸收器的研究進(jìn)展和可調(diào)諧電磁超材料吸收器的研究成果進(jìn)行了分析。

        關(guān)鍵詞:電磁超材料;電磁性能;多頻段太赫茲;可調(diào)諧電磁

        前言:在有效媒介理論當(dāng)中,超材料所擁有的特性可以通過有效介電常數(shù)、磁導(dǎo)率兩種數(shù)值進(jìn)行表現(xiàn),而這兩種數(shù)值在超材料的物理尺寸當(dāng)中,可以實(shí)現(xiàn)充分的結(jié)構(gòu)設(shè)計調(diào)控。電磁超材料由于具有了這一特點(diǎn),使得其在對光波、電磁波進(jìn)行“裁剪”時,可以實(shí)現(xiàn)透鏡、負(fù)折射率甚至是電磁隱身等獨(dú)特性能。這些性能的實(shí)現(xiàn)和應(yīng)用在研究領(lǐng)域中具有非凡意義和價值,完美諧振吸收器就是利用電磁波和電磁分量耦合所研發(fā)的重要設(shè)備。

        一、多頻段太赫茲吸收器的研究進(jìn)展

        (一)單帶超材料吸收器研究進(jìn)展

        單帶超材料吸收器是現(xiàn)階段新型人工電磁超材料研究中的主要方向和內(nèi)容,在研究中,單帶吸收器主要由三個層級共同組成,其中,上下兩層均為金屬層,在材料應(yīng)用中,選擇金材料進(jìn)行應(yīng)用;中間層級為電介質(zhì)層,應(yīng)用材料為常見的聚酰亞胺材料、在單帶吸收器的三層結(jié)構(gòu)中,設(shè)置兩條固定距離和固定長度的切割線,從而形成對整體層級結(jié)構(gòu)的切割[1]。在研究中,研究人員通過具體的切割線設(shè)計,對吸收器的層級厚度、導(dǎo)電率、電介質(zhì)介電常數(shù)以及損耗角參數(shù)進(jìn)行確定。在進(jìn)行面向三個層級的吸收器結(jié)構(gòu)進(jìn)行切割線切割時,兩條切割線之間會與金屬層級之間形成一定的電諧振、磁諧振。通過仿真分析可以對電場方向、磁場方向進(jìn)行判斷,并形成坐標(biāo)軸對單帶吸收器的反射曲線進(jìn)行設(shè)定和控制。為了能夠達(dá)到最佳的吸收效率,在現(xiàn)階段的設(shè)計和研究中,研究人員對吸收器的尺寸進(jìn)行了優(yōu)化,并通過仿真軟件分析的方式,得到了吸收效果與吸收器尺寸之間的關(guān)聯(lián)。研究者認(rèn)為,吸收器的尺寸變化會對切割線的長度產(chǎn)生影響。而切割線的長度越長,其所產(chǎn)生的吸收效率越高,并借助紅移效應(yīng),形成電容器。電容越高,限制越低,同時吸收越完美。

        (二)雙帶超材料吸收器研究進(jìn)展

        雙帶超材料吸收器的研究和設(shè)計主要利用太赫茲材料所具有的雙波段構(gòu)成特征所進(jìn)行的。在吸收器設(shè)計方面,層級同樣設(shè)定為三層,其中第一層級為方正環(huán)形結(jié)構(gòu)的金屬材料;第二層與第三層與單帶吸收器相同,為電介質(zhì)層和金屬層,分別采用聚酰亞胺材料和金材料。在進(jìn)行吸收時,吸收器內(nèi)部的太赫茲波會發(fā)生運(yùn)動,并與超材料結(jié)構(gòu)保持垂直,完成入射。這一時期,吸收器內(nèi)部的金屬電子開始移動,出現(xiàn)電流。而由于最下層級的金屬材料影響,磁場的產(chǎn)生會在環(huán)路電流之間形成流動,進(jìn)而產(chǎn)生磁諧振。在吸收原理中,通過對反射系數(shù)和透射系數(shù)的控制,使二者頻率保持一致,從而實(shí)現(xiàn)完美吸收。吸收器材料需要通過減少反射,實(shí)現(xiàn)吸收量的增加。

        (三)多頻段太赫茲吸收器的研究成果

        在研究領(lǐng)域,研究人員通過對吸收器的設(shè)計,總結(jié)出了現(xiàn)階段電磁超材料的阻抗匹配特點(diǎn)。電磁超材料本身所存有的阻抗需要與自由空間存在的阻抗相互配合,從而實(shí)現(xiàn)超材料的虛部吸收器設(shè)置。而在吸收器運(yùn)行過程中,通過對反射、透射的量級進(jìn)行控制,能夠?qū)崿F(xiàn)損耗效果的降低。因此研究人員希望借助開口諧振環(huán)的方式,構(gòu)建共振結(jié)構(gòu),提高吸收器的吸收能力。

        二、可調(diào)諧電磁超材料吸收器的研究進(jìn)展

        (一)可調(diào)諧電磁超材料吸收器的結(jié)構(gòu)設(shè)計

        可調(diào)諧電磁超材料吸收器的設(shè)計,主要是將選定的絕緣金屬相VO2薄膜層加入到超材料層和介質(zhì)層中間,在運(yùn)行中,通過VO2薄膜來對外界環(huán)境進(jìn)行觸發(fā),從而實(shí)現(xiàn)過程相變,控制吸收器的吸收率。通過分析可以看到,VO2薄膜層在常態(tài)之下表現(xiàn)為絕緣狀態(tài),這一時期薄膜層的主要作用與介質(zhì)層相同。研究人員通過對自由空間阻抗匹配的計算,獲得結(jié)構(gòu)參數(shù)和尺寸參數(shù),從而選定電磁波完美吸收的固定頻段。在受到外場的刺激后,VO2薄膜層會出現(xiàn)相變,并由傳統(tǒng)的絕緣狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)榻饘傧酄顟B(tài),在轉(zhuǎn)變過程中,原本設(shè)定的阻抗條件遭到破壞,電磁波出現(xiàn)強(qiáng)烈的反射現(xiàn)象,使得吸收率降低。而當(dāng)VO2薄膜轉(zhuǎn)變會絕緣狀態(tài)后,吸收器的吸收率則會得到恢復(fù)。

        (二)可調(diào)諧電磁超材料吸收器的仿真制備

        在進(jìn)行了超材料吸收器的結(jié)構(gòu)模型設(shè)計分析后,依據(jù)相關(guān)的參數(shù)特征和吸收原理,研究人員利用選定的仿真軟件進(jìn)行了吸收器仿真制備工作。本文在進(jìn)行研究分析時,主要通過autoCAD軟件,對選定的吸收器參數(shù)進(jìn)行了掩膜版設(shè)計,在掩膜版的圖案設(shè)計和透光性設(shè)計方面,依托現(xiàn)階段一線研究機(jī)構(gòu)的研究結(jié)果進(jìn)行了充分調(diào)整,并依托某光學(xué)機(jī)械研究所的研究成果,選用si/pt片進(jìn)行薄膜的制備,使薄膜厚度達(dá)到參數(shù)設(shè)定要求的2μm標(biāo)準(zhǔn),作為層級的加入將其放置在介質(zhì)層和金屬層之間[2]。在相變薄膜的制備方面,本文主要采用射頻磁控技術(shù)進(jìn)行濺射,將金屬釩靶材在薄膜上進(jìn)行沉積,使之形成一定厚度的二氧化釩相變薄膜,控制濺射溫度,完成制備。最后進(jìn)行仿真制備的是吸收器當(dāng)中的超材料人工結(jié)構(gòu),針對已經(jīng)完成制備的薄膜,通過磁控濺射的方式,在相變薄膜之上進(jìn)行繼續(xù)沉積,沉積厚度需要控制在100nm以內(nèi),形成Au層,再利用光刻工藝對其進(jìn)行刻蝕,使其具有周期陣列,完成吸收器材料的制備。

        結(jié)論:綜上所述,隨著技術(shù)手段和研究方向的發(fā)展和前行,當(dāng)前階段研究領(lǐng)域針對電磁超材料吸收器的研究也取得了巨大的突破。在研究領(lǐng)域,多頻段太赫茲吸收器技術(shù)和可調(diào)諧電磁超材料吸收器技術(shù)是目前技術(shù)領(lǐng)域重要的研究成果,在具體的應(yīng)用中表現(xiàn)出不凡的實(shí)踐價值。

        參考文獻(xiàn):

        [1]姚建銓,梁蘭菊. 多層電磁超材料在太赫茲技術(shù)中的應(yīng)用研究進(jìn)展[J]. 棗莊學(xué)院學(xué)報,2013,30(05):1-11.

        [2]程偉,李九生,胡建榮. 基于磁性介質(zhì)棒的可調(diào)太赫茲波吸收器研究[J]. 電子元件與材料,2013,32(05):42-44+55.

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