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        氧化鋅透明導(dǎo)電膜專利技術(shù)分析

        2015-03-23 17:58:39郭學(xué)軍徐開松孟祥岳
        河南科技 2015年11期
        關(guān)鍵詞:絨面透明性導(dǎo)電性

        郭學(xué)軍 徐開松 薛 源 劉 莉 孟祥岳

        (國家知識產(chǎn)權(quán)局專利局專利審查協(xié)作河南中心,河南 鄭州 450002)

        透明導(dǎo)電膜是一層透明的具有導(dǎo)電功能的薄膜,一般涂覆在玻璃等基板上,從而使玻璃具有導(dǎo)電功能,同時,玻璃的透明性不會被顯著影響。透明導(dǎo)電膜在低輻射玻璃、除霜除霧玻璃、防電磁干擾玻璃等生活領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用,在太陽能電池以及光電顯示等領(lǐng)域,透明導(dǎo)電薄膜也是不可或缺的電極材料[1]。

        目前普遍使用的透明導(dǎo)電膜有氧化銦錫、氧化鋅等,其中,氧化鋅由于不需要使用稀有元素銦,被認(rèn)為是最具前景的透明導(dǎo)電膜。對氧化鋅的研究是目前太陽能領(lǐng)域的學(xué)術(shù)熱點,涉及氧化鋅的專利申請約占全部太陽能電池電極專利申請的1/5,許多企業(yè)和研究單位提出了改善氧化鋅質(zhì)量的技術(shù)方案,極大地促進(jìn)了氧化鋅性能的提高。

        1 氧化鋅透明導(dǎo)電膜的制備方法

        目前,氧化鋅的制備方法主要分為真空沉積和非真空沉積兩種。

        真空沉積方法主要有磁控濺射[2]、化學(xué)氣相沉積等。國內(nèi)的南開大學(xué)、中科院半導(dǎo)體所、鄭州大學(xué)等,以及國際上的相關(guān)機構(gòu)均采用磁控濺射方法形成氧化鋅,該方法將金屬鋅或陶瓷氧化鋅做成靶材,通過原子對靶材的轟擊,使鋅物理轉(zhuǎn)移到玻璃等基底上,從而形成氧化鋅薄膜。歐瑞康、三星康寧等企業(yè),則采用化學(xué)氣相沉積方法,例如在專利申請CN200880006905.2中,歐瑞康公司公開了(不代表該方法由該申請人首次提出,下同)一種化學(xué)氣相沉積氧化鋅的方法,前驅(qū)體為二乙基鋅(DEZ)和水的混合物,為了避免摻硼氧化鋅層在邊緣的優(yōu)先降解,將設(shè)備對基片的加熱設(shè)計為非均勻的,從而使邊緣層的厚度高于中央。

        為了克服磁控濺射靶材加工困難,以及化學(xué)沉積方法DEZ易揮發(fā)爆炸的問題,還提出了氧化鋅的非真空沉積方法,例如,上海理工大學(xué)在專利申請CN2013100 88310.9中公開了采用水合醋酸鋅和氧化石墨烯配置溶膠,然后用水合阱作為還原劑還原氧化石墨烯,旋涂并退火得到石墨烯-氧化鋅透明導(dǎo)電膜。

        2 氧化鋅透明導(dǎo)電膜的透明性和導(dǎo)電性

        作為透明導(dǎo)電膜,其透明性和導(dǎo)電性同樣重要。透明性,一般稱為光透過率,主要通過減少入射光在空氣/薄膜的界面處的反射實現(xiàn)。導(dǎo)電性則主要通過優(yōu)化摻雜來實現(xiàn)。

        2.1 氧化鋅透明導(dǎo)電膜的透明性提升

        提升氧化鋅薄膜的透明性,最主要的途徑是制絨,使薄膜具有絨布一樣的粗糙表面,減少光在界面處的鏡面反射。制絨可通過腐蝕獲得,也可以通過調(diào)整工藝參數(shù),使制備的氧化鋅本身具備絨面。

        應(yīng)用材料公司在專利申請CN201110206494.5中公開了一種腐蝕制絨方法,先制備氧化鋅,然后采用酸等濕法腐蝕液,或者等離子等干法腐蝕離子來腐蝕氧化鋅,從而在氧化鋅表面形成絨面。該專利還指出,可以調(diào)整玻璃基底表面的堿金屬濃度來調(diào)整形核密度,從而使薄膜和后續(xù)的腐蝕相適應(yīng)。

        腐蝕制絨不僅限于對氧化鋅的腐蝕,也可以先腐蝕玻璃基底,然后沉積氧化鋅,使氧化鋅復(fù)制玻璃基底的形貌,從而形成絨面。例如,歐瑞康公司在專利申請CN201080045703.6中公開了采用氧和六氟化硫的混合氣體等離子刻蝕肖特玻璃,然后在其上沉積氧化鋅,從而獲得了具有絨面結(jié)構(gòu)的氧化鋅薄膜。并且發(fā)現(xiàn),采用此方法獲得的氧化鋅,導(dǎo)電性具有明顯提升,這主要歸因于在粗糙表面上沉積的氧化鋅具有較大晶粒。信義玻璃在專利申請201210264410.8中公開了采用強酸、弱酸兩步腐蝕玻璃的方法,使絨面更加均勻平滑。

        日本旭硝子公司在專利申請CN201080033667.1A中公開了一種制絨方法,也是基于對基底的粗化,但不同于對基底的腐蝕,該方法主要是在基底表面沉積不連續(xù)凸起。該玻璃從襯底側(cè)起依次具有氧化鈦層、氧化硅層、氧化錫不連續(xù)凸起、結(jié)晶性薄膜和氧化錫層。該結(jié)構(gòu)主要是為了避免傳統(tǒng)導(dǎo)電玻璃在氧化錫和氧化硅界面附近(氧化錫層側(cè))形成結(jié)晶性低的氧化錫層,而該層會吸收波長在400nm左右的光。

        南開大學(xué)在專利申請201010202111.2中公開了一種制絨方法,采用磁控濺射技術(shù),通過將襯底溫度、濺射氣壓等參數(shù)控制在一定范圍內(nèi),直接生長出自帶絨面的氧化鋅薄膜。

        瑞士歐瑞康公司在專利申請CN201080041574.3中公開了一種采用LPCVD方法生產(chǎn)的ZnO正面接觸層,無需腐蝕即具有大約40%的霧度,因而具有很高的光輸出特性。為了進(jìn)一步提升TCO玻璃的減反射性能,該專利還提出一種玻璃后處理(post-cell glass treatment)技術(shù),即在硅薄膜太陽能電池制作完成后,對TCO玻璃進(jìn)行蝕刻,從而使其產(chǎn)生絨面結(jié)構(gòu)。采用該技術(shù)制備的TCO玻璃,反射率比平坦玻璃相比有明顯下降,接近昂貴的減反射涂層玻璃。

        2.2 氧化鋅透明導(dǎo)電膜的導(dǎo)電性提升

        透明導(dǎo)電膜的導(dǎo)電率對減小器件的串聯(lián)電阻至關(guān)重要。本征的氧化鋅不具備導(dǎo)電性,目前主要通過各種摻雜方法來提高氧化鋅的導(dǎo)電率。

        最常用的氧化鋅導(dǎo)電膜一般有:摻鋁氧化鋅(AZO)、摻硼氧化鋅(BZO)、摻鎵氧化鋅(GZO)。其中,以摻鋁氧化鋅技術(shù)最為成熟,應(yīng)用最為廣泛;摻硼氧化鋅在近紅外區(qū)域具有更高的透過率;摻鎵氧化鋅抗氧化性強,晶格畸變小,但成本較高。除了上述摻鋁、硼、鎵外,還有在氧化鋅中摻氫、錳、鈦等來提高薄膜導(dǎo)電率。

        南開大學(xué)在專利申請CN201410729536.7中公開了一種氫鋁共摻雜的氧化鋅(HAZO),在濺射氣體中引用氫氣,從而同步提升了薄膜的短波和長波透過率。

        三星康寧公司在專利申請CN201010219230.9中公開了一種氧化鋅,其中共摻雜有鎵和錳,因為錳的離子半徑大于鋅,在摻鎵氧化鋅中摻入錳,可以使由于鎵的摻入導(dǎo)致的收縮應(yīng)力降低,從而提高了鎵的固溶度極限,提高了薄膜的導(dǎo)電率。

        另外,除了傳統(tǒng)的原子摻雜外,還可以在氧化鋅薄膜中引入導(dǎo)電纖維來提高其導(dǎo)電率。例如,新奧光伏在專利申請CN200910080142.2中公開了在氧化鋅中摻入金屬納米線、碳納米管、金屬纖維等,來提高氧化鋅的導(dǎo)電率。

        3 結(jié)語

        本文基于目前公開的中國專利申請,簡述了氧化鋅薄膜的發(fā)展和改進(jìn)。目前氧化鋅薄膜作為新一代透明導(dǎo)電膜,改進(jìn)的熱點在于其透明性和導(dǎo)電性的提高。透明性的提高不僅限于對氧化鋅本身的腐蝕;對于導(dǎo)電性的提高,也開發(fā)出了多種摻雜元素和方法。同時,薄膜制備的經(jīng)濟性和安全性也是目前發(fā)展的一個方向。

        [1]林清耿,等.摻鋁氧化鋅透明導(dǎo)電薄膜的表面織構(gòu)研究[J].真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報,2008(6):575-578.

        [2]張具琴,等.直流磁控濺射有機襯底和玻璃襯底ZnO:Al薄膜結(jié)構(gòu)特性[J].可再生能源,2008(26):64-68,72.

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