戴　岑，鞏　巖，張　昊，李佃蒙，薛金來(lái)

(1.中國(guó)科學(xué)院 長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 應(yīng)用光學(xué)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，吉林 長(zhǎng)春130033；2.中國(guó)科學(xué)院大學(xué)，北京 100049；3.中國(guó)科學(xué)院 蘇州生物醫(yī)學(xué)工程技術(shù)研究所,江蘇 蘇州 215163)

1　引　言

多層膜極紫外光刻掩?！鞍装濉比毕菔侵萍s下一代光刻技術(shù)發(fā)展的瓶頸之一[1-4]，在掩?！鞍装濉边^(guò)程中引入的微小雜質(zhì)，最終會(huì)引起掩模板表面的凹凸不平，形成微結(jié)構(gòu)缺陷。這些缺陷直接影響產(chǎn)品質(zhì)量，因此膜層微結(jié)構(gòu)缺陷的探測(cè)有著十分重要的研究意義和應(yīng)用價(jià)值。現(xiàn)階段對(duì)于微結(jié)構(gòu)的三維檢測(cè)技術(shù)主要有機(jī)械探針、掃描電子顯微鏡、掃描隧道顯微鏡、原子力顯微鏡、共焦顯微鏡等。但前4種方法在測(cè)量精度或樣品損傷方面都存在一定的局限性[5]。而共焦顯微鏡是一種非接觸測(cè)量技術(shù)，并且具有軸向?qū)游龅奶匦?，可以達(dá)到微米級(jí)別的橫向分辨率和軸向分辨率，因此，在微結(jié)構(gòu)三維檢測(cè)方面較其他方案更為優(yōu)越[6-7]。

現(xiàn)階段，在極紫外光刻掩模技術(shù)領(lǐng)域，對(duì)膜層微結(jié)構(gòu)缺陷探測(cè)能力已提出了橫向亞波長(zhǎng)量級(jí)，軸向百納米甚至更低量級(jí)的要求。目前使用最廣泛的是LASERTEC和SEMATECH聯(lián)合開(kāi)發(fā)的基于共焦顯微鏡的膜層結(jié)構(gòu)缺陷檢測(cè)系統(tǒng)M7360，可以檢測(cè)到橫向30 nm寬、軸向5 nm高的微結(jié)構(gòu)缺陷。近年來(lái)，國(guó)外基于不同原理如化學(xué)線等的缺陷檢測(cè)技術(shù)也取得了較大進(jìn)展，而我國(guó)在此領(lǐng)域，尤其是膜層微結(jié)構(gòu)缺陷的光學(xué)檢測(cè)技術(shù)上發(fā)展還相對(duì)滯后[8-13]?；诖耍疚脑趥鹘y(tǒng)共焦顯微鏡的基礎(chǔ)上，提出了一種基于微分干涉差共焦顯微術(shù)的膜層微結(jié)構(gòu)缺陷檢測(cè)系統(tǒng)，將共焦顯微理論和微分干涉成像理論相結(jié)合，在405 nm工作波長(zhǎng)，NA=0.65的情況下，具有230 nm的橫向分辨率和25 nm的軸向臺(tái)階分辨率，且能夠探測(cè)到橫向200 nm寬、軸向10 nm高的膜層微結(jié)構(gòu)缺陷的存在，相比傳統(tǒng)的共焦顯微系統(tǒng)具有更高的分辨能力。本文針對(duì)該系統(tǒng)討論了探測(cè)器尺寸和樣品軸向偏移對(duì)檢測(cè)結(jié)果的影響。

2　光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)及分析

2.1　光路

圖1　反射式DIC共焦系統(tǒng)光路圖 Fig.1　Optical path diagram of reflecting DIC confocal system

微分干涉差共焦顯微系統(tǒng)光路圖如圖1所示，在反射式共焦系統(tǒng)的基礎(chǔ)上，插入起偏器、Wollaston棱鏡和檢偏器等微分干涉差(Differential Interference Contrast,DIC)系統(tǒng)的關(guān)鍵元件，組成DIC共焦檢測(cè)系統(tǒng)。傳統(tǒng)的激光共焦系統(tǒng)中點(diǎn)光源、點(diǎn)探測(cè)器為共軛關(guān)系，并通過(guò)引入針孔空間濾波器抑制離焦平面產(chǎn)生的雜散光，在被測(cè)物體分別處于在焦和離焦位置時(shí)，探測(cè)器接收到的信號(hào)強(qiáng)度對(duì)比明顯，在軸向上具有微米量級(jí)的分辨率。激光共焦顯微系統(tǒng)可以通過(guò)沿Z軸方向逐層掃描實(shí)現(xiàn)物體的三維成像[14-15]。圖1中準(zhǔn)直平行激光束經(jīng)過(guò)起偏器后成為45°線偏振光，通過(guò)Wollaston棱鏡后由于雙折射作用分解為兩束偏振方向垂直、傳播方向有微小差異的相干光。兩束光分別自顯微物鏡出射后，在物面上產(chǎn)生小于物鏡極限分辨率的橫向剪切量。攜帶物體信息的兩束信號(hào)光再次通過(guò)Wollaston棱鏡和檢偏器后發(fā)生微分干涉，由樣品表面高度的微小變化產(chǎn)生的光程差在干涉背景上表現(xiàn)為明顯的光強(qiáng)變化，顯著提高信號(hào)的對(duì)比度，從而將系統(tǒng)的軸向分

辨率提高到10 nm量級(jí)[16]。

為便于分析，按照?qǐng)D1反射式光路的等效透射式光路(如圖2所示)進(jìn)行計(jì)算。圖2所示系統(tǒng)由點(diǎn)光源S、照明透鏡組LO2和LO1、集光透鏡組LC1和LC2、Wollaston棱鏡W1和W2、待測(cè)樣品T、以及探測(cè)器D組成，其中LO1和LC1在實(shí)際光路中為同一透鏡，它們的參數(shù)相同，設(shè)其焦距為f1，口徑為a1。另外，為形成完全對(duì)稱的光路，通常LO2、LC2選用相同的顯微物鏡，設(shè)其焦距為f2,口徑為a2。W1、W2關(guān)于LC1的后焦面對(duì)稱放置[17-18]。

圖2　反射式DIC共焦系統(tǒng)等效光路圖 Fig.2　Equivalent optical path of reflecting DIC confocal system

2.2　理論分析

(1)

式中，Δz為物面的軸向離焦量，(xi,yi)為探測(cè)器平面坐標(biāo)，to是物體的透過(guò)率函數(shù)(實(shí)際系統(tǒng)中應(yīng)為反射率函數(shù))，(ξ,η)為物平面坐標(biāo)，(xs,ys)為光在物面穿過(guò)的掃描位置。M為收集透鏡組的放大倍數(shù)。h1e為L(zhǎng)O1的有效離焦點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)，即

(2)

式中，(x1,y1)為透鏡平面坐標(biāo)，P1e(x1,y1) =P1(x1,y1)P2(x1,y1),為系統(tǒng)的有效光瞳函數(shù)。P1(x1,y1)為 LO1的光瞳函數(shù)，P2(x1,y1) 為 LO2的光瞳函數(shù)。

對(duì)式(1)進(jìn)行漢克爾變換，有：

(3)

共焦系統(tǒng)的橫向分辨率公式對(duì)應(yīng)u=0，即樣品處于Lc2后焦面位置時(shí)的光強(qiáng)分布：

(4)

當(dāng)樣品為沿軸向運(yùn)動(dòng)的理想點(diǎn)物時(shí)，有v=0，此時(shí)系統(tǒng)的軸向分辨率如下：

(5)

當(dāng)物為理想平面鏡時(shí)，有：

(6)

對(duì)于DIC共焦顯微系統(tǒng)，由于光通過(guò)Wollaston棱鏡時(shí)會(huì)發(fā)生雙折射現(xiàn)象，因此光線通過(guò)LO1后在物面匯聚成兩個(gè)點(diǎn)，這兩個(gè)點(diǎn)之間存在著微小的橫向剪切量，且小于物鏡的極限分辨率。設(shè)物面對(duì)光場(chǎng)的相位調(diào)制量為eiθ，根據(jù)DIC系統(tǒng)中干涉場(chǎng)復(fù)振幅疊加原理[19-22]，共焦DIC系統(tǒng)的復(fù)振幅分布可以如下表示：

(7)

(8)

實(shí)際系統(tǒng)中，將有限孔徑的針孔濾波器緊貼探測(cè)器放置，以構(gòu)成共焦點(diǎn)探測(cè)器。此時(shí)，針孔中心位于LC2的后焦點(diǎn)上，光電探測(cè)器處接收到的光強(qiáng)為：

,

(9)

式中，D(xi,yi)為光電探測(cè)器的靈敏度函數(shù)。對(duì)理想的點(diǎn)物和點(diǎn)探測(cè)器的情況有to(ξ-xs,η-ys)=δ(ξ-xs,η-ys)，D(xi,yi)=δ(xi,yi)。

因此可以得出：

(10)

(11)

當(dāng)u=0時(shí)，以相同入射光計(jì)算得到的共焦系統(tǒng)的橫向最大光強(qiáng)為參考值，得到DIC共焦橫向歸一化強(qiáng)度點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)：

(12)

當(dāng)物為理想點(diǎn)時(shí)，Δθ(0,v)=0。共焦系統(tǒng)和DIC共焦系統(tǒng)的橫向歸一化強(qiáng)度點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)，如圖3(a)所示。

當(dāng)v=0時(shí)，以相同入射光計(jì)算得到的共焦系統(tǒng)的軸向最大光強(qiáng)為參考值，得到DIC共焦軸向歸一化強(qiáng)度點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)，即

(13)

由于物為理想點(diǎn)，有Δθ(u,0)=0，可以得到共焦系統(tǒng)和DIC共焦系統(tǒng)的軸向歸一化強(qiáng)度點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)如圖3(b)所示。

圖3　共焦和DIC共焦系統(tǒng)歸一化光強(qiáng)分布曲線 Fig.3　Uniformization intensity curves of confocal and DIC confocal system

可以看出，樣品為一理想點(diǎn)時(shí)，共焦和DIC共焦系統(tǒng)的橫向光強(qiáng)分布和軸向光強(qiáng)分布分別相同。

當(dāng)物為理想平面鏡時(shí)，可以利用理想平面鏡的軸向掃描成像檢驗(yàn)系統(tǒng)的軸向?qū)游瞿芰?。?duì)理想平面鏡，有to(ξ-ts,η-ts)=l(ξ-ts,η-ts)；Δθ(u,v)=0，所以

(14)

(15)

3　計(jì)算機(jī)仿真與分析

根據(jù)上文計(jì)算結(jié)果，利用MATLAB，對(duì)傳統(tǒng)顯微鏡、共焦顯微系統(tǒng)和DIC共焦顯微系統(tǒng)進(jìn)行仿真，計(jì)算三者的橫向和軸向分辨率，并進(jìn)行分析，觀察不同因素對(duì)系統(tǒng)檢測(cè)結(jié)果的影響，并將共焦DIC顯微系統(tǒng)與傳統(tǒng)共焦顯微系統(tǒng)進(jìn)行對(duì)比。

3.1　MATLAB仿真算法

光從點(diǎn)光源出發(fā)，其傳播過(guò)程可以用三次菲涅爾衍射和一次夫瑯禾費(fèi)衍射求解?；诖嗽?，編寫(xiě)MATLAB仿真程序，其簡(jiǎn)圖如圖4所示。

數(shù)學(xué)核心素養(yǎng)是隱性的，數(shù)學(xué)核心素養(yǎng)的發(fā)展必須內(nèi)化在課堂教學(xué)中，一堂好課應(yīng)該是立足“數(shù)學(xué)核心素養(yǎng)”發(fā)展的課.概念課是高中數(shù)學(xué)課堂的重要內(nèi)容，在概念教學(xué)中以探究的方式讓學(xué)生參與概念的生成，在概念生成的過(guò)程中理解概念，在探究的過(guò)程中感悟數(shù)學(xué)思想、積累思維經(jīng)驗(yàn)發(fā)展數(shù)學(xué)核心素養(yǎng)應(yīng)該成為課堂的常態(tài).

圖4　仿真算法示意簡(jiǎn)圖 Fig.4　Schematic diagram of simulation algorithm

3.2　仿真參數(shù)選擇

對(duì)收集透鏡和顯微物鏡都選擇了40× 顯微物鏡進(jìn)行仿真，物鏡的數(shù)值孔徑NA=0.65,焦距f=4.5 mm，則可以計(jì)算等效的通光孔徑D=7.698 mm。工作波長(zhǎng)取405 nm，則傳統(tǒng)顯微系統(tǒng)的極限分辨距σ=0.16λ/NA=0.38 μm。

根據(jù)式(11)可知，探測(cè)器平面的光強(qiáng)分布受Wollaston棱鏡引入的o光和e光的相位差影響[16]。在系統(tǒng)其他條件不變，只有φ變化的情況下，光強(qiáng)的變化如圖5所示。

圖5　不同的φ值對(duì)應(yīng)的ΔI 和Δθ變化關(guān)系 Fig.5　Relationship of ΔI and Δθ with different φ

3.3　仿真結(jié)果及分析

對(duì)透鏡參數(shù)相同的共焦系統(tǒng)和DIC共焦系統(tǒng)的橫向和軸向歸一化光強(qiáng)分布進(jìn)行仿真計(jì)算，取Δθ(u,v)=0，并將結(jié)果分別與圖3(a)、3(b)進(jìn)行比對(duì),并將仿真結(jié)果與理論值進(jìn)行擬合。仿真結(jié)果與理論值擬合的相關(guān)系數(shù)如表1所示?？梢钥闯鰞煞N系統(tǒng)的橫向分布仿真結(jié)果與理論值完全吻合，軸向分布的仿真值與理論也吻合良好，因此可以認(rèn)為仿真精度較高，滿足使用需求。

表1　共焦和DIC共焦系統(tǒng)仿真值與理論值擬合結(jié)果

將仿真得到的兩種系統(tǒng)橫向歸一化光強(qiáng)曲線與傳統(tǒng)顯微鏡[13]的橫向歸一化光強(qiáng)曲線進(jìn)行比較，如圖6所示。

圖6　3種系統(tǒng)的橫向歸一化光強(qiáng)分布曲線對(duì)比 Fig.6　Comparison of uniformization lateral intensity distribution curves of 3 systems

取半高全寬作為系統(tǒng)的橫向分辨率，3種系統(tǒng)的橫向分辨率如表2所示，由此可得DIC共焦系統(tǒng)與共焦系統(tǒng)的橫向分辨率均比傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡提高了1.4倍，DIC共焦系統(tǒng)具有良好的橫向分辨率。

表23個(gè)系統(tǒng)橫向分辨率比較

Tab.2　Comparison of lateral resolutionsamong the 3 systems (μm)

將點(diǎn)物替換成平面反射鏡，針對(duì)共焦系統(tǒng)和DIC共焦系統(tǒng)計(jì)算，二者與理論計(jì)算值[見(jiàn)式(6),式(14)]比對(duì)如表3所示，仿真結(jié)果與理論推導(dǎo)結(jié)果吻合。將兩者仿真結(jié)果比較，可以看出DIC共焦系統(tǒng)鏡面反射的軸向分辨率與共焦系統(tǒng)鏡面反射的軸向分辨率相同。

表3　共焦系統(tǒng)與DIC共焦系統(tǒng)鏡面反射擬合結(jié)果

實(shí)際應(yīng)用中，經(jīng)常需要對(duì)臺(tái)階類(lèi)樣品進(jìn)行探測(cè)。對(duì)于共焦系統(tǒng)，通過(guò)軸向掃描過(guò)程中臺(tái)階上下表面分別位于LO1后焦面時(shí)探測(cè)器接收到的光強(qiáng)對(duì)比作為探測(cè)依據(jù)。而對(duì)DIC共焦系統(tǒng)，可以利用兩束光同時(shí)分別照射在臺(tái)階上下表面時(shí)探測(cè)器接收到的光強(qiáng)變化作為判斷標(biāo)準(zhǔn)。由式(15)可以知道，對(duì)于臺(tái)階類(lèi)樣品，DIC共焦系統(tǒng)的響應(yīng)是被sin2(kΔz-φ)調(diào)制的共焦系統(tǒng)鏡面反射響應(yīng)，對(duì)于軸向離焦量Δz十分敏感。

圖7　DIC共焦系統(tǒng)的臺(tái)階響應(yīng) Fig.7　Stair response curve of DIC confocal system

3.4　實(shí)際應(yīng)用的仿真分析

由式(9)可以看出，實(shí)際工程應(yīng)用中采用的有限尺度探測(cè)器會(huì)造成系統(tǒng)點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)的展寬，引起分辨率下降，圖8(a)為傳統(tǒng)共焦顯微系統(tǒng)軸向分辨率與探測(cè)器直徑之間的關(guān)系，可以看出，當(dāng)探測(cè)器直徑增大時(shí)，軸向分辨率曲線展寬，分辨率下降。為探究探測(cè)器尺寸對(duì)DIC共焦系統(tǒng)軸向分辨率的影響，采用直徑為2.5、1、0.5 μm的針孔濾波器組成探測(cè)器,高度為-100 nm到100 nm的臺(tái)階進(jìn)行仿真計(jì)算，結(jié)果對(duì)比如圖8(b)所示。

圖8　(a)探測(cè)器直徑分別為2.5 μm, 1.67 μm, 1 μm時(shí)共焦系統(tǒng)的軸向光強(qiáng)響應(yīng)曲線; (b)探測(cè)器直徑為2.5 μm, 1 μm, 0.5 μm時(shí)的DIC共焦系統(tǒng)的臺(tái)階光強(qiáng)響應(yīng)曲線 Fig.8　(a)Intensity curves of confocal system with detector diameter of 2.5 μm, 1.67 μm, 1 μm; (b)Intensity curves of DIC confocal systems with detector diameter of 2.5 μm, 1 μm, 0.5 μm

不難發(fā)現(xiàn)，隨著探測(cè)器尺寸的變化，探測(cè)器所接收到的光強(qiáng)變化范圍浮動(dòng)較大，但若探測(cè)器有足夠的靈敏度，探測(cè)器直徑的增大并不會(huì)對(duì)DIC共焦系統(tǒng)的軸向分辨率產(chǎn)生明顯影響。對(duì)于實(shí)驗(yàn)室現(xiàn)有的光電探測(cè)器和針孔濾波器組合，完全可以實(shí)現(xiàn)對(duì)上述樣品的檢測(cè)。

在2.2節(jié)中討論了平面鏡作為樣品進(jìn)行軸向掃描的理論模型，可以看出樣品的軸向偏移影響探測(cè)器接受到的光強(qiáng)。考慮到探測(cè)器的靈敏度會(huì)影響檢測(cè)的分辨率，若探測(cè)信號(hào)幅值過(guò)小，探測(cè)器可能無(wú)法分辨信號(hào)是否出現(xiàn)變化，因此有必要研究樣品軸向偏移對(duì)檢測(cè)結(jié)果的影響。以位于LO2后焦面的平面鏡作為樣品，點(diǎn)探測(cè)器接收到的光強(qiáng)作為參考值，軸向偏移分別為-0.3、-0.15、0、0.15和0.3 μm時(shí)，對(duì)于不同高度的臺(tái)階樣品，對(duì)探測(cè)器接收到的光強(qiáng)進(jìn)行仿真計(jì)算，結(jié)果如圖9所示。

圖9　不同軸向偏移時(shí)DIC共焦系統(tǒng)的臺(tái)階響應(yīng) Fig.9　Stair response curves of DIC confocal system under different z-axial offsets

對(duì)圖9中5條曲線，按照式(14)進(jìn)行擬合，結(jié)果如表4 所示。

表4　圖9中各曲線與理論值擬合后的相關(guān)系數(shù)R

在實(shí)驗(yàn)過(guò)程中，樣品的軸向偏移對(duì)應(yīng)其實(shí)際安裝位置相對(duì)于理想位置的偏差。為保證實(shí)驗(yàn)精度，應(yīng)盡量減小軸向偏移對(duì)信號(hào)光強(qiáng)帶來(lái)的影響，如圖9，若要控制軸向偏移對(duì)光強(qiáng)的影響不大于10%，實(shí)驗(yàn)中樣品的安裝位置誤差不應(yīng)超過(guò)±0.15 μm。

除類(lèi)似于臺(tái)階的結(jié)構(gòu)缺陷外，在工程領(lǐng)域如極紫外光刻掩膜白板缺陷檢測(cè)中，存在對(duì)微小尺度(橫向直徑百納米量級(jí)，高度納米量級(jí))的缺陷進(jìn)行檢測(cè)的實(shí)際需求。這些微結(jié)構(gòu)缺陷的尺寸小于光學(xué)系統(tǒng)的極限分辨率，對(duì)于這種缺陷，可以使用DIC共焦系統(tǒng)檢測(cè)其有無(wú)以便對(duì)后續(xù)實(shí)驗(yàn)或加工進(jìn)行指導(dǎo)。對(duì)于此種膜層結(jié)構(gòu)樣品，考慮探測(cè)器靈敏度，若缺陷處所探測(cè)到的光強(qiáng)相對(duì)于無(wú)缺陷處探測(cè)到的光強(qiáng)變化5%及以上，則可認(rèn)為探測(cè)到缺陷存在。在此基礎(chǔ)上，假設(shè)單一的微結(jié)構(gòu)缺陷為圓形且高度一致的凹陷或凸起，選擇了幾組不同的參數(shù)，對(duì)其進(jìn)行仿真。結(jié)果如表5所示,其中z為缺陷高度，d為缺陷直徑。

表5　不同尺寸缺陷對(duì)應(yīng)的歸一化探測(cè)光強(qiáng)

可以看出，對(duì)于橫向尺度為200 nm，高度10 nm的微小缺陷，本文提出的DIC共焦系統(tǒng)方案具有良好的檢測(cè)能力。

4　結(jié)　論

為了實(shí)現(xiàn)對(duì)極紫外光刻掩模“白板”缺陷的檢測(cè)，本文提出了一種DIC共焦檢測(cè)膜層微結(jié)構(gòu)缺陷的系統(tǒng)方案。根據(jù)標(biāo)量衍射理論推導(dǎo)其橫向和軸向分布規(guī)律，通過(guò)MATLAB對(duì)系統(tǒng)分辨率進(jìn)行仿真計(jì)算和分析，并進(jìn)一步針對(duì)系統(tǒng)探測(cè)器的尺寸、樣品的軸向偏移等影響因素進(jìn)行了仿真研究，探究這些因素對(duì)檢測(cè)結(jié)果的影響。對(duì)微小尺寸膜層微結(jié)構(gòu)缺陷探測(cè)進(jìn)行了仿真，預(yù)測(cè)系統(tǒng)對(duì)此種缺陷的分辨能力。仿真結(jié)果表明，DIC共焦系統(tǒng)有230 nm的橫向分辨率和優(yōu)于傳統(tǒng)共焦系統(tǒng)約17倍的軸向分辨率，能分辨出約25 nm的臺(tái)階高度差；對(duì)橫向200 nm，軸向10 nm的微小缺陷具有良好的分辨能力，具有應(yīng)用價(jià)值。

參考文獻(xiàn)：

[1]劉曉雷,李思坤,王向朝.極紫外光刻含缺陷多層膜衍射譜仿真簡(jiǎn)化模型[J].光學(xué)學(xué)報(bào),2014,34(9):40-46.

LIU X L,LI S K,WANG X ZH. Simplified model for defective multilayer diffraction spectrum simulation in extreme ultraviolet lithography[J].ActaOpticaSinica,2014,34(9):40-46.(in Chinese)

[2]張立超,才璽坤,時(shí)光.深紫外光刻光學(xué)薄膜[J].中國(guó)光學(xué),2015,8(2):169-181.

ZHANG L CH,CAI X K,SHI G. Optical coatings for DUV lithography[J].ChineseOptics,2015,8(2):169-181.(in Chinese)

[3]劉曉雷,李思坤,王向朝.基于等效膜層法的極紫外光刻含缺陷掩模多層膜仿真模型[J].光學(xué)學(xué)報(bào),2015,35(6):06220051-1-9.

LIU X L,LI S K,WANG X ZH. Simulation model based on equivalent layer method for defective mask multilayer in extremeultra violet lithography[J].ActaOpticaSinica,2015,35(6):06220051-1-9.(in Chinese)

[4]王珣,金春水,匡尚奇,等.極紫外光學(xué)器件輻照污染檢測(cè)技術(shù)[J].中國(guó)光學(xué),2014,7(1):79-88.

WANG X,JIN C SH,KUANG SH Q,etal.. Techniques of radiation contamination monitoring for extreme ultraviolet devices[J].ChineseOptics,2014,7(1):79-88.(in Chinese)

[5]KWON J,HONG J,KIM Y S,etal.. Atomic force microscope with improved scan accuracy, scan speed, and optical vision[J].ReviewofScientificInstruments,2003,74(10):4378-4383.

[6]BINNG G,ROHRER H,GERBER CH,etal.. Surface studies by scanning tunneling microscopy[J].Phys.Rev.Lett.,1982,49(1):57-60

[7]張運(yùn)海,楊皓旻,孔晨暉.激光掃描共焦光譜成像系統(tǒng)[J].光學(xué) 精密工程,2014,22(6):1446-1453.

ZHANG Y H,YANG H M,KONG CH H. Spectral imaging system on laser scanning confocal microscopy[J].Opt.PrecisionEng.,2014,22(6):1446-1453.(in Chinese)

[8]CHO W,KEARNEY P A,JEON C U,etal.. Inspection with the lasertec M7360 at the SEMATECH mask blank development center[J].ProceedingsofSPIE,2007,6517:65170D.

[9]GODWIN M,BALACHANDRAN D,TAMURA T. Comparative defect classifications and analysis of Lasertec′s M1350 and M7360[J].ProceedingsofSPIE,2014,9050:556-565

[10]TCHIKOULAEVA A,MIYAI H,TAKEHISA K,etal.. EUV actinic blank inspection: from prototype to production[J].ProceedingsofSPIE,2013,8679.

[11]RASTEGAR A,JINDAL V. EUV mask defects and their removal[J].ProceedingsofSPIE,2012,8352:83520W.

[12]SUZUKI T,MIYAI H,TAKEHISA K,etal.. EUV actinic blank inspection tool with a high magnification review mode[J].ProceedingsofSPIE,2012,8441:844115.

[13]孫夢(mèng)至,王彤彤,王延超,等.大口徑反射鏡高反射膜研究進(jìn)展[J].中國(guó)光學(xué),2016,9(2):203-212.

SUN M ZH,WANG T T,WANG Y CH,etal.. Research development of high reflecting coating for large-diameter mirror[J].ChineseOptics,2016,9(2):203-212.(in Chinese)

[14]肖昀,張運(yùn)海,王真,等.入射激光對(duì)激光掃描共焦顯微鏡分辨率的影響[J].光學(xué) 精密工程,2014,22(1):31-38.

XIAO Y,ZHANG Y H,WANG ZH,etal.. Effect of incident laser on resolution of LSCM[J].Opt.PrecisionEng.,2014,22(3):31-38.(in Chinese)

[15]WILSON T. Principles of three-dimensional imaging in confocal microscopes[J].JournalofMicroscopy,1996,193(1):91-92.

[16]PADDOCK S W. Confocal laser scanning microscopy[J].Biotechniques,1999,27(5):992-1004.

[17]MEHTA S B,SHEPPARD C J. Partially coherent image formation in differential interference contrast(DIC) microscope[J].OpticsExpress,2008,16(24):19462-19479.

[18]SHEPPARD C J,WILSON T. Depth of field in the scanning microscope[J].OpticsLetters,1978,3(3):115-117.

[19]COGSWELL C J,SHEPPARD C J R. Confocal differential interference contrast(DIC) microscopy: including a theoretical analysis of conventional and confocal DIC imaging[J].JournalofMicroscopy,1992,165(1):81-101.

[20]陳峻堂.微分干涉相襯顯微術(shù)[J].光學(xué)儀器,1984,6(1):1-15

CHEN J T. Differential interference phase contrast microscopy[J].OpticalInstruments,1984,6(1):1-15.(in Chinese)

[21]PADAWER J. The nomarski interference-contrast microscope. an experimental basis for image interpretation[J].JournalRoyalMicroscopicalSociety,1968,88(88):305-49.

[22]CODY S H,XIANG S D,LAYTON M J,etal.. A simple method allowing DIC imaging in conjunction with confocal microscopy[J].JournalofMicroscopy,2005,217(3):265-74.

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