本發(fā)明公開了一種濕法面接觸柔性高效拋光機，包括機架，所述機架設(shè)有：磨拋模塊，其包括環(huán)流磨機構(gòu)及加水機構(gòu)，所述環(huán)流磨機構(gòu)包括：磨頭支架；主軸；公轉(zhuǎn)盤；公轉(zhuǎn)電機；磨具模組，其包括磨具中軸、磨具基座、虛實結(jié)合彈性體和水磨碟；所述加水機構(gòu)將外設(shè)的水源引至所述出水口往公轉(zhuǎn)盤下方注出；所述機架上還設(shè)有輸送模塊。通過合理配置磨拋生產(chǎn)線上的各個機構(gòu)，從而實現(xiàn)陶瓷石材的濕法面接觸柔性高效拋光工序，使得磨塊與工件表面一直保持面接觸狀態(tài)，有效提高加工效率，避免形成波紋面，相應(yīng)地，減少加工單位時間也起到了節(jié)約用水的效果。磨拋生產(chǎn)線上的輸送皮帶穩(wěn)定、不走偏，依托免修正耐磨底板能夠貼合工件表面，降低損件率。

公布號：CN106863101A