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        液態(tài)聚碳硅烷先驅(qū)體制備陶瓷基復(fù)合材料的工藝適應(yīng)性研究

        2017-05-14 06:19:33
        航空制造技術(shù) 2017年13期
        關(guān)鍵詞:先驅(qū)硅烷液態(tài)

        (中航復(fù)合材料有限責(zé)任公司,北京 101300)

        先驅(qū)體浸漬裂解(PIP)工藝是利用陶瓷先驅(qū)體浸漬纖維預(yù)制體,交聯(lián)固化成型后經(jīng)高溫轉(zhuǎn)化為陶瓷基復(fù)合材料的工藝,因其具備先驅(qū)體分子可設(shè)計、成型溫度低、可低溫陶瓷化、制備陶瓷基復(fù)合材料可加工等優(yōu)點,而成為制備形狀復(fù)雜、尺寸精度高的陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件的常用工藝方法[1-3]。

        先驅(qū)體是PIP工藝制備陶瓷基復(fù)合材料的關(guān)鍵,其種類和性質(zhì)決定了材料的制備工藝和性質(zhì)[4-6]。Seyferth[7]提出用于PIP工藝的先驅(qū)體應(yīng)具備“三低”(低粘度、低溫交聯(lián)、低收縮),“二無”(無雜質(zhì)、無發(fā)泡),“一高”(陶瓷產(chǎn)率高)的特點。Wynne等[8]歸納了用于PIP工藝?yán)硐氲挠袡C硅聚合物陶瓷先驅(qū)體應(yīng)該具有的多種性質(zhì):為了避免低分子量組分的揮發(fā),相對分子質(zhì)量要足夠高;為了適合浸漬,應(yīng)具有合適的流變性;為了能夠熱固化,應(yīng)具有潛在的反應(yīng)活性;為了降低由于骨架斷裂所形成的碎片,應(yīng)具有籠形或環(huán)形結(jié)構(gòu)等。

        傳統(tǒng)的PIP工藝主要使用固態(tài)先驅(qū)體浸漬裂解,該先驅(qū)體需要溶劑溶解、裂解產(chǎn)率低,致密化周期長,一般15~16個浸漬-裂解循環(huán)才能實現(xiàn)較為理想的致密化,致密化過程需要一個月至一個半月。針對PIP工藝,除了工藝方法上的改變,最有效地提高致密化效率的辦法就是采用一種高裂解產(chǎn)率、低粘度、低固化溫度的液態(tài)碳化硅先驅(qū)體進行浸漬裂解,可使SiC基體快速致密化,縮短陶瓷基復(fù)合材料制造周期。

        針對上述不足,美、日等國在開發(fā)可替代固態(tài)PCS的液態(tài)聚碳硅烷方面開展了大量工作,發(fā)展了針對PIP工藝的低粘度、高陶瓷產(chǎn)率、分子結(jié)構(gòu)可設(shè)計性強的液態(tài)先驅(qū)體聚合物,即第二代液態(tài)聚碳硅烷,已形成系列化產(chǎn)品[9]。液態(tài)PCS從根本上彌補了第一代SiC先驅(qū)體用于PIP工藝基體樹脂的不足。目前比較成熟的產(chǎn)品是美國Starfire System公司開發(fā)出的牌號為SMP-10的含少量烯丙基的全氫聚碳硅烷,其粘度僅為40~100cP,陶瓷產(chǎn)率高于70%,其陶瓷化產(chǎn)物的C/Si比接近計量比1[10]。

        在國內(nèi),國防科大通過PDMS重排反應(yīng)制備了液態(tài)LPVCS先驅(qū)體,該先驅(qū)體中含有SiH和C=C活性基團,可在 250~300℃固化,1000℃裂解產(chǎn)率達到60%[11]。廈門大學(xué)也開展了類似工作,其先驅(qū)體裂解產(chǎn)率同樣在60%水平。中國科學(xué)院化學(xué)研究所采用格氏偶聯(lián)反應(yīng)、還原反應(yīng)制備液態(tài)PCS先驅(qū)體,制備了烯丙基改性的全氫聚碳硅烷(AHPCS)、乙烯基改性全氫聚碳硅烷(VHPCS)等液態(tài)聚碳硅烷[12]。目前,國內(nèi)已具備小批量制備液態(tài)聚碳硅烷的能力,大多數(shù)文獻報道集中在液態(tài)聚碳硅烷先驅(qū)體的合成,鮮有關(guān)于液態(tài)聚碳硅烷作為PIP工藝適應(yīng)性研究的報道。

        本文以一種新型液態(tài)聚碳硅烷先驅(qū)體為研究對象,對其結(jié)構(gòu)、固化行為、熱性能以及結(jié)晶性能等進行全面分析,評價其用于PIP工藝制備陶瓷基復(fù)合材料的工藝適應(yīng)性。

        1 試驗及方法

        1.1 試驗原料

        VHPCS是一種乙烯基改性全氫聚碳硅烷,常溫為淡黃色液體,25℃時粘度為20~40mPa·s,由中科院化學(xué)所提供。

        1.2 測試與表征

        紅外光譜分析(IR):采用美國Nicolet儀器公司的Magna 750型Fourier變換紅外光譜儀,掃描范圍為4000~400cm-1,試驗方法為溴化鉀壓片法。

        差示掃描量熱分析(DSC):采用美國TA公司DSC Q10型差示掃描量熱分析儀,測試氣氛為流動氮氣,氣流為50ml/min,升溫速率分別為5℃/min、10℃/min、15℃ /min、20℃ /min。

        熱重分析(TGA):采用德國NETZSCH公司生產(chǎn)的STA 449F3型分析儀進行測定,測試氣氛為氮氣,流速為200ml/min,升溫速率為10℃/min。

        X-射線衍射分析(XRD):液態(tài)聚碳硅烷分別在1000~1500℃裂解得到SiC陶瓷,粉末樣品用于結(jié)晶性能分析。采用美國BRUKER公司生產(chǎn)的D8 Advance型X射線衍射儀,測試參數(shù)為:掃描速率3°/min,掃描角3°~80°。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 液態(tài)聚碳硅烷先驅(qū)體結(jié)構(gòu)分析

        聚碳硅烷結(jié)構(gòu)中含有硅原子和碳原子相間成鍵的低分子、齊聚物或高分子聚合物,在陶瓷先驅(qū)體轉(zhuǎn)化法中,一般將主鏈或支鏈主要含Si和C的化合物,或高分子熱解后能得到含Si、C的陶瓷均稱為聚碳硅烷。本文對VHPCS進行了化學(xué)結(jié)構(gòu)表征,圖1為VHPCS的紅外光譜圖,表1為VHPCS中各主要官能團的歸屬情況??梢?,在VHPCS分子中含有活性Si-H鍵和Si-CH=CH2基團,大量活性基團的存在為先驅(qū)體的交聯(lián)固化奠定了基礎(chǔ)。

        圖1 VHPCS紅外光譜Fig.1 IR spectrums of VHPCS

        表1 液態(tài)聚碳硅烷先驅(qū)體活性基團的紅外吸收特征

        2.2 液態(tài)聚碳硅烷先驅(qū)體固化行為分析

        液態(tài)聚碳硅烷在加熱時,活性基團發(fā)生交聯(lián)反應(yīng),形成大分子三維網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu),減少有機小分子的揮發(fā),獲得較高的陶瓷產(chǎn)率,同時可避免纖維預(yù)制體在PIP工藝過程中發(fā)生塌陷變形。先驅(qū)體的固化對于纖維預(yù)制體定型和陶瓷基復(fù)合材料成型至關(guān)重要。研究液態(tài)聚碳硅烷先驅(qū)體的固化行為,優(yōu)化固化工藝,對提高裂解陶瓷產(chǎn)率、縮短PIP工藝制備周期、提高材料致密化度起到了重要的作用。

        2.2.1 固化反應(yīng)動力學(xué)參數(shù)的確定

        考慮到實際工藝過程中VHPCS先驅(qū)體是在變溫的條件下固化,為了較好地反映先驅(qū)體實際固化過程中的固化特性,本文采用非等溫DSC法對VHPCS的固化反應(yīng)動力學(xué)特性進行研究。不同升溫速率下VHPCS的DSC圖譜見圖2??梢?,VHPCS的固化反應(yīng)為放熱反應(yīng),而且隨著升溫速率的提高,體系的初始固化溫度、固化反應(yīng)峰頂溫度、固化反應(yīng)終止溫度依次向高溫方向移動。

        化學(xué)反應(yīng)的難易程度主要由表觀活化能的大小來衡量決定,可采用Kissinger法進行計算。假定固化反應(yīng)的最大速率發(fā)生在固化反應(yīng)放熱峰的峰頂溫度,反應(yīng)級數(shù)n在固化過程中保持不變,且服從動力學(xué)方程:

        式中,β為升溫速率,K/min;Tp為放熱峰峰頂溫度K;Ea為表觀活化能,J/mol;R為理想氣體常數(shù),8.314J/(mol·K);A為頻率因子。

        根據(jù)不同升溫速率下固化反應(yīng)放熱峰峰頂溫度(見表2),以對數(shù)作圖(見圖3),進行線性擬合,得到線性回歸系數(shù)為0.99376,直線斜率為-1.23×104,直線截距為14.8,由擬合曲線斜率即可求得表觀活化能為1.02×102kJ/mol,代入截距可求得頻率因子lnA=24.2。

        圖2 不同升溫速率下VHPCS在氮氣中固化的DSC曲線Fig.2 DSC curves of VHPCS in N2 atmosphere at different heating rates

        固化反應(yīng)的反應(yīng)級數(shù)n可由Crane方程求得:

        以lnβ對1/Tp作圖(見圖4),進行線性擬合,得到線性回歸系數(shù)為0.99467,擬合曲線斜率為-13304.7387,由擬合曲線斜率-Ea/nR,即可求得反應(yīng)級數(shù)n=0.93。

        2.2.2 固化反應(yīng)動力學(xué)方程的確定

        由于VHPCS的固化反應(yīng)為一級反應(yīng),所以滿足一級反應(yīng)動力學(xué)方程[13]:

        表2 不同升溫速率下VHPCS固化過程的特征溫度值

        圖3 ln ( β / )-1/Tp 擬合曲線Fig.3 ln ( β / )-1/Tp fitting curve

        圖4 lnβ-1/Tp 擬合曲線Fig.4 lnβ-1/Tp fitting curve

        由 Arrhenius公式[14]:

        可得VHPCS固化反應(yīng)動力學(xué)方程:

        VHPCS固化反應(yīng)動力學(xué)參數(shù)值分別為頻率因子A=3.29×1010min-1,表面活化能 Ea=102.39544kJ/mol,反應(yīng)級數(shù)n=0.93。

        2.2.3 固化反應(yīng)工藝參數(shù)的確定

        陶瓷基復(fù)合材料成型加工過程中存在成型溫度、成型壓力與成型時間3要素,其中又以溫度因素最為重要。利用聚碳硅烷先驅(qū)體DSC固化反應(yīng)放熱峰特征溫度,可以確定先驅(qū)體的固化工藝參數(shù)。由于固化峰位置隨升溫速率的不同而變,因此常用外推到升溫速率為零的特征溫度作為近似的固化工藝溫度。圖5為溫度與升溫速率的關(guān)系圖。

        由圖5可以得出,外推到升溫速率β=0時,樹脂的參考固化工藝溫度為:凝膠溫度Tgel=166℃;固化溫度Tcure=202℃;后處理溫度Ttreat=230℃。故可取165℃和200℃作為兩階段固化溫度,230℃為后處理溫度。

        根據(jù)圖5外推到升溫速率β=0時,可得到在特征溫度點升溫速率與溫度的線性表達式,如表3所示。

        圖5 VHPCS固化特征溫度Fig.5 Characteristics curing temperature of VHPCS

        表3 VHPCS固化特征溫度線性擬合

        根據(jù)Arrhenius方程:

        可得樹脂體系任一溫度時的固化反應(yīng)速率方程。

        當(dāng) T=165℃時,dα / dt =0.0204(1-α )0.93;

        當(dāng) T=200℃時,dα / dt =0.1634(1-α )0.93。

        因此可得二階段固化工藝為:

        第一階段,165℃ /1h,α =70.65%;

        第二階段,200℃ /1h,α =99.99%。

        綜上,經(jīng)165℃/1h,200℃/1h工藝固化后,理論上固化程度可達99.99%。但由于該固化反應(yīng)動力學(xué)方程是在持續(xù)升溫且不考慮擴散等因素而獲得的,并且在實際固化過程中,先驅(qū)體凝膠后,固化反應(yīng)將由動力學(xué)控制轉(zhuǎn)變?yōu)閿U散控制;隨著固化反應(yīng)的進行,分子鏈段活動能力逐漸下降,到固化反應(yīng)后期,反應(yīng)速率將變得極為緩慢。因此,在200℃下固化1h,固化反應(yīng)程度不可能達到理論計算值99.99%,因此還需要做進一步的高溫后處理。實際工藝中的后處理由固化后升溫至裂解溫度的過程完成。

        2.3 液態(tài)聚碳硅烷先驅(qū)體熱性能分析

        液態(tài)聚碳硅烷先驅(qū)體通過PIP工藝到陶瓷基復(fù)合材料,要經(jīng)歷交聯(lián)固化、浸漬裂解的過程,其中裂解過程中有小分子的釋放、結(jié)構(gòu)的重排和轉(zhuǎn)變。對液態(tài)聚碳硅烷先驅(qū)體裂解過程的控制,對于更好地利用先驅(qū)體,提高相應(yīng)材料的性能,具有重要的意義[15]。

        液態(tài)聚碳硅烷先驅(qū)體的裂解升溫曲線見圖6(升溫速率10℃/min)??梢?,從室溫到1000℃過程中,有區(qū)間內(nèi)失重速率減緩,為10.3%(質(zhì)量分?jǐn)?shù)),此溫度段為適宜的固化階段;450~550℃出現(xiàn)第二階段,兩個溫度段出現(xiàn)了明顯的質(zhì)量損失。50~250℃為第一階段,質(zhì)量損失19.7%;在250~450℃,質(zhì)量損失為6.7%;550~1000℃,質(zhì)量損失3.3%。VHPCS在1000℃下的陶瓷產(chǎn)率為60%。由DTG曲線可以得出,在160℃和490℃附近,液態(tài)聚碳硅烷的分解速率達到峰值,第一階段質(zhì)量損失是因為部分活性較低、不參與自聚合反應(yīng)的小分子低聚物在升溫過程中從體系中揮發(fā)逸出所致;而第二階段則是液態(tài)聚碳硅烷在由有機物向無機物轉(zhuǎn)化過程中側(cè)鏈或支鏈上的小分子斷鍵逸出所致。

        液態(tài)聚碳硅烷的交聯(lián)反應(yīng)是Si-CH=CH2與Si-H的硅氫加成反應(yīng)和Si-CH=CH2自身發(fā)生的雙鍵加成反應(yīng)。隨著交聯(lián)反應(yīng)的進行,Si-H和Si-CH=CH2的數(shù)量都會逐漸減少;隨著裂解溫度的升高,沒有形成三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)被固定住的Si-H和Si-CH=CH2會發(fā)生一系列的重排反應(yīng),一部分變成H2以及CH4/CH3溢出,另一部分轉(zhuǎn)化為無機物。

        在圖7的350~850℃液態(tài)聚碳硅烷先驅(qū)體裂解過程的紅外光譜圖中可以觀察到,在由350~850℃裂解過程中,歸屬于Si-H的紅外峰隨溫度的升高逐漸向低波數(shù)方向移動,強度隨溫度的升高逐漸降低,直至750℃裂解產(chǎn)物中已經(jīng)觀察不到Si-H的紅外吸收峰。同樣,作為液態(tài)聚碳硅烷特征的Si-CH=CH2基團的紅外吸收峰,未在750℃的裂解產(chǎn)物中檢測到,說明作為液態(tài)聚碳硅烷活性的Si-H和Si-CH=CH2直至750℃才完全消失,這也證明了無需對先驅(qū)體進行固化后處理。

        圖6 惰性氣氛保護下VHPCS的裂解升溫曲線Fig.6 Heating curve of pyrolysis in inert atmosphere

        圖7 VHPCS裂解過程(350~850℃)的紅外光譜圖Fig.7 IR spectrums of VHPCS pyrolysis process(350-850℃)

        2.4 液態(tài)聚碳硅烷先驅(qū)體結(jié)晶行為分析

        圖8為不同裂解溫度下液態(tài)聚碳硅烷樣品所得陶瓷的XRD譜圖。熱處理溫度為1000℃時,觀察不到明顯的衍射峰,此時產(chǎn)物為無定形態(tài);當(dāng)加熱至1100℃時,液態(tài)聚碳硅烷裂解所得SiC在2θ=35.7°處,可觀察到歸屬于β-SiC(111)衍射峰;當(dāng)加熱到1200℃時,在2θ=60.0°和71.8°處,可觀察到歸屬于β-SiC的(220)和(311)的衍射峰;熱處理溫度在1300℃以上時,可觀察到SiC中β-SiC(111)、(220)和(311)衍射峰。強度逐漸增加,峰寬變窄,說明裂解產(chǎn)物形成β-SiC晶態(tài),且晶粒隨溫度增加而長大。平均晶粒尺寸采用Scherrer公式計算:

        圖8 VHPCS各熱處理溫度所得陶瓷產(chǎn)物XRD圖譜Fig.8 XRD curves of ceramic products at different heating temperatures

        式中,L為平均晶粒尺寸,θ是散射角,λ為X-射線波長(0.15406nm),β是半峰寬,K是Scherrer常數(shù),選定為0.9。計算結(jié)果見表4,隨著熱處理溫度的升高,β-SiC晶粒開始出現(xiàn)并逐漸長大,1100~1300℃時,晶粒尺寸基本不發(fā)生變化,此溫度段裂解得到的SiC比較穩(wěn)定,從1300℃開始,晶粒尺寸明顯變大。

        通過裂解行為分析,液態(tài)聚碳硅烷較適宜的裂解溫度為1100~1200℃,裂解產(chǎn)物在1000~1300℃內(nèi)晶相穩(wěn)定,呈納米多晶形態(tài),晶粒尺寸沒有變化。1300℃以上,其裂解產(chǎn)物β-SiC晶粒將開始長大,伴隨性能的下降。

        表4 VHPCS裂解產(chǎn)物的晶粒尺寸

        3 結(jié)論

        VHPCS中含有活性的Si-H和Si-CH=CH2基團,為PIP工藝中的交聯(lián)固化奠定了基礎(chǔ)。

        VHPCS可在較低的溫度發(fā)生固化反應(yīng),具有良好的工藝適應(yīng)性,利用非等溫DSC法確定的固化工藝為165℃ 1h+200℃ 1h。

        VHPCS裂解可分為兩個階段,在160℃和490℃附近分解速率達到峰值。VHPCS在1000℃下的陶瓷產(chǎn)率為60%,較高的陶瓷產(chǎn)率有利于減少PIP工藝周期,提高生產(chǎn)效率。

        不同裂解溫度下(1000~1500℃)的XRD譜圖顯示液態(tài)聚碳硅烷裂解產(chǎn)物以β-SiC為主,裂解產(chǎn)物在1000~1300℃內(nèi)較穩(wěn)定,呈納米多晶形態(tài),當(dāng)裂解溫度為1300℃以上,裂解產(chǎn)物β-SiC晶粒開始長大。

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