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        石墨烯及其衍生物在散熱材料中的應(yīng)用

        2017-04-18 07:15:25張鵬圖
        當(dāng)代化工研究 2017年12期
        關(guān)鍵詞:散熱片功能化熱導(dǎo)率

        *張鵬圖

        (中國(guó)石油大學(xué)勝利學(xué)院化學(xué)工程學(xué)院 山東 257061)

        1.石墨烯及石墨烯的衍生物概述

        石墨烯作為新型碳材料之一,自2004年被發(fā)現(xiàn)以來(lái)便越來(lái)越多地被人們所研究和利用。作為第一個(gè)被發(fā)現(xiàn)的二維平面結(jié)構(gòu),石墨烯具有很多令人驚奇的特性。它具有超大的比表面積(2630m2·g-1),極高的電子遷移率(200000 cm2·v-1·s-1),極高的楊氏模量(~1.0TPa),極高的熱導(dǎo)率(~5000·W·m-1·K-1),同時(shí)它的透光率也達(dá)到了97.7%。以上優(yōu)異的性能決定了石墨烯在現(xiàn)代科學(xué)研究領(lǐng)域中擁有極佳的應(yīng)用前景以及不可取代的地位。

        然而純凈的石墨烯的制備成本很高,但無(wú)論是CVD法生產(chǎn)石墨烯,還是機(jī)械剝離、溶劑剝離,都無(wú)法實(shí)現(xiàn)單層石墨烯的大規(guī)模制備。而石墨烯衍生物由于其牢固的sp2雜化平面被打破而具有化學(xué)改性的潛能。氧化石墨烯作為石墨烯衍生物的一種,是石墨經(jīng)過(guò)氧化后分散在溶劑中的產(chǎn)物,其部分保留了石墨烯高導(dǎo)熱率的特點(diǎn)。同時(shí),由于氧化反應(yīng)帶來(lái)的羥基(-OH)、羧基(-COOH)等官能團(tuán),又使其容易進(jìn)行共價(jià)鍵改性,增強(qiáng)了其在高分子基體內(nèi)的相容性,有很好的分散效果。本文所介紹的石墨烯的衍生物也主要是通過(guò)氧化石墨烯改性而得到的。

        2.石墨烯及其衍生物在散熱材料方面的應(yīng)用

        隨著電子工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展,現(xiàn)代化的電子電器正在朝著體積小、能量密度高的方向發(fā)展,并且這種發(fā)展趨勢(shì)越來(lái)越劇烈。目前針對(duì)高能量密度電子元器件散熱主要由兩種方式,一種是利用熱界面材料將熱點(diǎn)與熱沉進(jìn)行連接,通過(guò)填補(bǔ)二者之間的空隙,使得熱點(diǎn)的熱量能夠迅速通過(guò)熱沉散發(fā)。同時(shí),為了加快熱點(diǎn)熱量在平面上的均勻分散,散熱片(Heat Spreader)也被應(yīng)用到了微電子散熱領(lǐng)域。

        單層或多層的石墨烯本身就可以用作散熱材料。Gao等,將CVD法生長(zhǎng)的單層或多層氧化石墨直接轉(zhuǎn)移到熱點(diǎn)以及熱點(diǎn)所處的界面上,利用石墨烯極高的橫向熱導(dǎo)率,通過(guò)分散熱點(diǎn)熱量,達(dá)到降低熱點(diǎn)溫度的作用。在熱流為430W/cm2時(shí),通過(guò)轉(zhuǎn)移單層石墨烯,熱點(diǎn)溫度較之前降低了13℃;通過(guò)轉(zhuǎn)移6-10層的多層石墨烯,熱點(diǎn)溫度也有8℃左右的降低。Yan等,將CVD法生產(chǎn)的石墨烯直接轉(zhuǎn)移至電子元器件表面,轉(zhuǎn)移的石墨烯充當(dāng)橋梁的作用,將電子元器件工作時(shí)產(chǎn)生的熱量以極高的效率傳遞至石墨烯另一端連接的熱沉上,也起到了降低其工作溫度的作用。

        將石墨烯通過(guò)物理?yè)诫s的方式,加入到熱界面材料中,也可以相應(yīng)地提高其熱率,加快熱量在熱點(diǎn)與熱沉之間的傳遞,起到降低熱點(diǎn)溫度的作用。Shahil等,通過(guò)將機(jī)械剝離的石墨烯通過(guò)高速攪拌與環(huán)氧樹(shù)脂進(jìn)行混合并且固化,得到的復(fù)合材料被用作熱界面材料(Thermal Interface Material)進(jìn)行熱傳導(dǎo)。結(jié)果顯示,當(dāng)體系內(nèi)石墨烯的體積分?jǐn)?shù)達(dá)到10%時(shí),復(fù)合材料的熱導(dǎo)率較原有提高了2300%。而且將這種機(jī)械剝離法生產(chǎn)的石墨烯與商用導(dǎo)熱硅脂進(jìn)行高速攪拌混合,質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2%時(shí),復(fù)合材料熱導(dǎo)率便由原來(lái)的5.8W/m·K提高至14W/m·K。

        雖然上述方式在石墨烯散熱方面都取得了較好的效果,但無(wú)論是CVD法生產(chǎn)石墨烯,還是機(jī)械玻璃、溶劑玻璃,其生產(chǎn)成本及產(chǎn)量都十分有限,無(wú)法進(jìn)行大規(guī)模制備。氧化石墨烯作為石墨烯的氧化產(chǎn)物,其部分保留了石墨烯高導(dǎo)熱率的特點(diǎn),同時(shí),由于氧化反應(yīng)帶來(lái)的羥基(-OH)、羧基(-COOH)等官能團(tuán),又使其容易進(jìn)行共價(jià)鍵改性,增強(qiáng)其在高分子基體內(nèi)的相容性,提高分散效果。

        Yong等,先通過(guò)Hummers’法制備了氧化石墨烯,然后將其用維生素C還原,然后通過(guò)抽濾方式形成石墨烯散熱片,其熱導(dǎo)率在散熱片厚度為20um時(shí),便可達(dá)到1600W·m-1·K-1。而后,利用(3-氨基丙基)三乙氧基硅烷(APTES)對(duì)氧化石墨烯進(jìn)行共價(jià)改性,獲得了功能化氧化石墨烯連接層。然后通過(guò)旋涂的方式,將APTES功能化氧化石墨烯連接在測(cè)試芯片上,而后將制備的石墨烯散熱片加載在測(cè)試芯片上,利用功能化氧化石墨與石墨烯散熱片和熱點(diǎn)之間形成的共價(jià)鍵實(shí)現(xiàn)熱量的快速傳導(dǎo)與分布。經(jīng)過(guò)APTES功能化氧化石墨烯與石墨烯散熱片的負(fù)載后的芯片熱點(diǎn)溫度較裸芯片有接近10℃的下降。證明了這類(lèi)經(jīng)功能化的石墨烯衍生物不僅可以有效降低界面溫度,而且較一般材料相比,具有大量制備的潛能。

        3.前景與展望

        目前,對(duì)石墨烯的研究已日趨成熟,但石墨烯在散熱材料方面的應(yīng)用依然沒(méi)有得到大規(guī)模的推廣。例如,現(xiàn)在的智能手機(jī)散熱依然通過(guò)石墨片進(jìn)行。石墨烯的大規(guī)模、高質(zhì)量生產(chǎn)依然是其實(shí)現(xiàn)大規(guī)模應(yīng)用的瓶頸。而如何實(shí)現(xiàn)石墨烯與熱點(diǎn)之間有效的化學(xué)鏈接,盡可能降低其間的界面熱阻,也需要繼續(xù)探索與研究。相信憑借石墨烯的優(yōu)異性能,它一定能夠取代現(xiàn)有的石墨薄膜,成為市場(chǎng)主流。

        ?【參考文獻(xiàn)】

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