摘 要:ZnO納米材料制備工藝與合成技術(shù)是其能否取得突破性進(jìn)展的關(guān)鍵問(wèn)題,文章綜述了制備與合成ZnO納米材料的幾種常用方法:熱蒸發(fā)法、分子束外延法、射頻磁控濺射法、模板法及水熱法,并對(duì)幾種制備方法進(jìn)行比較。
關(guān)鍵詞:ZnO納米材料;熱蒸發(fā)法;磁控濺射法;水熱合成法
前言
ZnO納米材料作為近年來(lái)倍受矚目的半導(dǎo)體材料,其制備工藝與合成技術(shù)是直接關(guān)系ZnO納米材料在半導(dǎo)體領(lǐng)域能否進(jìn)一步發(fā)展的決定因素,制備方法的不同將會(huì)影響到ZnO納米材料的結(jié)構(gòu)與光、電、磁等性能,因此,探索出制備與合成ZnO納米材料的方法與手段,成為科學(xué)家們關(guān)注的焦點(diǎn),文章將總結(jié)ZnO納米材料在合成與制備領(lǐng)域中最常用的幾種方法。
1 熱蒸發(fā)法
在熱蒸發(fā)法中,將原料與催化劑的混合物放在高溫端進(jìn)行加熱,通過(guò)蒸發(fā)現(xiàn)象,將原料在高溫區(qū)受熱升華并通入一定流量的氣體,氣體可將受熱蒸汽傳送到蒸發(fā)反應(yīng)區(qū),從而在低溫區(qū)沉積成核,生長(zhǎng)出所需的ZnO納米結(jié)構(gòu)[1]。
對(duì)于熱蒸發(fā)法,鋅單質(zhì)或氧化鋅受熱分解可作為鋅源的主要來(lái)源,通常狀況下氧化鋅的分解溫度較高,與其相比,鋅的熔點(diǎn)(419℃)與沸點(diǎn)(907℃)較低,因此在低溫下,金屬鋅可成為生長(zhǎng)氧化鋅納米材料的理想原料。由熱蒸發(fā)法原理,可在管式爐制備ZnO納米材料,通常用石墨粉作為催化劑,將ZnO與石墨粉1:1混合后作為原料,放置于石英管高溫反應(yīng)區(qū),具體實(shí)驗(yàn)過(guò)程如下:
(1)加熱管式爐,先緩慢升至100℃,隨后升至所需反應(yīng)溫度。
(2)將襯底放入丙酮和乙醇中分別超聲10分鐘,清潔石英管,將ZnO和石墨以1:1的比例放入小石英管底部,放置襯底,并將小石英管放入爐內(nèi)。
(3)緩慢抽取真空,使管內(nèi)氣壓穩(wěn)定到真空范圍。
(4)進(jìn)行蒸發(fā)反應(yīng),反應(yīng)時(shí)間按生長(zhǎng)需要而定。
2 分子束外延法
外延制備技術(shù)以其獨(dú)特的生長(zhǎng)方法可制備出高性能的氧化鋅薄膜,氣相外延技術(shù)采用不同方法可實(shí)現(xiàn)其制備,例如分子束外延法、液相外延法、金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積等技術(shù)。分子束外延法的制備過(guò)程中需要在超高真空中進(jìn)行薄膜沉積,可以單晶體材料為基底,沿某一方向生長(zhǎng)氧化鋅薄膜,能在超高真空狀態(tài)下,以控制中性分子束強(qiáng)度方式使其在基體上進(jìn)行外延生長(zhǎng),實(shí)驗(yàn)設(shè)備包括原位監(jiān)測(cè)系統(tǒng)與分析系統(tǒng),從而獲得高質(zhì)量與性能的氧化鋅薄膜生長(zhǎng)技術(shù)。分子束外延所需原料置于指定坩堝中,加熱使原料升華,分子束轟擊于基體表面,加熱裝置可將基體進(jìn)行加熱,坩堝一般是由碳化硼制作而成,制備氧化鋅時(shí),將原料放在坩堝內(nèi),通過(guò)加熱絲對(duì)坩堝進(jìn)行加熱,生成氧化鋅薄膜[2]。
分子束外延的基本裝置由超高真空室、基體加熱裝置、分子束源、反應(yīng)氣體通道管及過(guò)渡室組成[3],生長(zhǎng)室的分析設(shè)備可用于原位監(jiān)視和檢測(cè)基片表面和膜、以便使連續(xù)制備高質(zhì)量外延生長(zhǎng)膜的條件最優(yōu)化,除了具有使用高純?cè)卦串a(chǎn)生純外延層、原位監(jiān)測(cè)以控制組分和結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)外,分子束外延是在超高真空條件下進(jìn)行膜生長(zhǎng),此外,對(duì)沉積率和組分的高度精確控制可以快速改變成分、摻雜濃度等。
3 射頻磁控濺射法
磁控濺射系統(tǒng)是由基本的二極濺射系統(tǒng)演變發(fā)展而來(lái)的。與二級(jí)濺射相比,磁控濺射技術(shù)有效的解決了二極濺射沉積薄膜等離子體離化率低、與蒸發(fā)鍍相比較速度慢以及基體熱效應(yīng)明顯的缺陷。磁控濺射是為了在低氣壓下進(jìn)行高速濺射,有效地提高氣體的離化率,將磁場(chǎng)加在靶材陰極附近,帶電粒子進(jìn)入磁場(chǎng)后,磁場(chǎng)對(duì)其產(chǎn)生約束,進(jìn)而可提高等離子體的密度、增加濺射率的一種方法。磁控濺射制備氧化鋅時(shí),可在裝置中增加一個(gè)封閉的磁場(chǎng),此磁場(chǎng)平行于靶面,形成正交電磁場(chǎng),將二次電子束縛在濺射靶表面區(qū)域,從而增加離子的密度和能量,產(chǎn)生高速率制備氧化鋅的濺射過(guò)程,其工作原理是在電場(chǎng)E作用下高速電子與濺射氣體氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar核和新的電子,在電場(chǎng)作用下高速Ar離子濺射陰極靶表面,靶材上的原子團(tuán)簇濺射出來(lái)并沉積在襯底上成膜的過(guò)程。
4 模板法
現(xiàn)如今,氧化鋅納米材料研究的方向已發(fā)展成納米結(jié)構(gòu)量子器件的制備與合成,因此,制備合成低維氧化鋅納米材料成為當(dāng)前領(lǐng)域的熱點(diǎn)[4],在特定模板中制備與構(gòu)建低維氧化鋅納米材料的模板法,成為當(dāng)今的一種新興納米合成方法。采用特定結(jié)構(gòu)限制材料生長(zhǎng)的尺寸和形貌可稱(chēng)之為模板法,模板法是通過(guò)一定結(jié)構(gòu)與尺寸的模板為主體,通過(guò)反應(yīng)在其中生成客體的納米材料,通過(guò)選定氧化鋅納米模板,可獲得尺寸均勻、形貌一致的氧化鋅納米材料,在反應(yīng)過(guò)程中,主體模板有指導(dǎo)作用,根據(jù)模板的種類(lèi)不同,又可分為硬模板與軟模板[5]。
5 水熱合成法
在密封的容器內(nèi)進(jìn)行的濕化學(xué)方法我們叫做水熱法,或稱(chēng)為溶液法[6]。在水熱反應(yīng)體系中,采用水作為反應(yīng)溶劑,將水與反應(yīng)原料裝于密閉的反應(yīng)器內(nèi)充分混合,然后對(duì)體系進(jìn)行加熱,由于密閉環(huán)境,反應(yīng)體系處在一個(gè)高溫高壓狀態(tài)下,這種條件生成的氧化鋅納米材料需要一些特定組件,而高溫高壓對(duì)氧化鋅納米材料制備十分有利。近年來(lái),科研者不斷的探索制備生長(zhǎng)有序、性能優(yōu)異的氧化鋅納米材料的方法,例如:采用高溫下氣化、貴金屬催化等方法可制備出排列有序、高度定向一致的氧化鋅納米陣列,但是此實(shí)驗(yàn)缺點(diǎn)是要在1000℃左右的高溫下進(jìn)行反應(yīng),進(jìn)而存在能耗較高、溫度難以達(dá)到、大規(guī)模生產(chǎn)難以實(shí)現(xiàn)等問(wèn)題。相對(duì)于氣相法,水熱法制備氧化鋅生產(chǎn)裝置簡(jiǎn)單、成本較低,所以通常采用水熱法來(lái)制備合成氧化鋅納米材料。
水熱法制備氧化鋅時(shí)是在高溫高壓條件下,因而水的粘度、溶解度及離子積等因素都發(fā)生改變,水熱法有兩個(gè)主要反應(yīng):反應(yīng)物分解與加速離子反應(yīng)。反應(yīng)物分解是指大多數(shù)反應(yīng)物都可溶解在水中,促進(jìn)反應(yīng)的進(jìn)行。水熱法制備氧化鋅既可合成微小的單晶體,又可制備多組分的化合物。
6 結(jié)束語(yǔ)
ZnO作為近十年來(lái)最受注目的半導(dǎo)體材料之一,其納米結(jié)構(gòu)具有多樣性及可控性,成本低,無(wú)毒綠色等眾多優(yōu)異性質(zhì),可廣泛應(yīng)用在紫外探測(cè)器、納米激光器及生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,研究制備與合成ZnO納米材料技術(shù),在半導(dǎo)體器件、電陽(yáng)能電池等諸多領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用前景。
參考文獻(xiàn)
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東北大學(xué),2009.
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