聶 勇，宋小芳，諸葛紹淵，盧美貞，陳 平，計(jì)建炳

(浙江工業(yè)大學(xué) 化學(xué)工程學(xué)院，浙江 杭州 310014)

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DBD等離子體催化合成氨與系統(tǒng)諧振的相關(guān)性

聶 勇，宋小芳，諸葛紹淵，盧美貞，陳 平，計(jì)建炳

(浙江工業(yè)大學(xué) 化學(xué)工程學(xué)院，浙江 杭州 310014)

為了研究介質(zhì)阻擋放電(DBD)等離子體催化合成氨與諧振的相關(guān)性，在DBD等離子體反應(yīng)器內(nèi)，分別考察了操作參數(shù)(輸入電壓、氣體總流量及V(N2)∶V(H2))和結(jié)構(gòu)參數(shù)(有無(wú)催化劑填充、放電區(qū)寬度及催化劑粒徑)對(duì)氨產(chǎn)率(單位時(shí)間氨產(chǎn)量)和DBD系統(tǒng)諧振特性的影響，進(jìn)一步闡述DBD等離子體催化合成氨與諧振的相關(guān)性.結(jié)果表明：DBD諧振頻率處氨產(chǎn)率最高；輸入電壓和放電區(qū)寬度增加，DBD諧振頻率減小，而DBD諧振頻率的減小有利于氨產(chǎn)率的提高；氣體總流量、V(N2)∶V(H2)、有無(wú)催化劑填充和催化劑粒徑對(duì)DBD諧振特性影響不大，但提高氣體總流量、增加V(N2)∶V(H2)、填充催化劑和減小催化劑粒徑有利于氨產(chǎn)率的提高，研究結(jié)果為DBD等離子體催化合成氨工藝優(yōu)化提供依據(jù).

介質(zhì)阻擋放電；等離子體催化；合成氨；諧振；氨產(chǎn)率

氨是制造多種無(wú)機(jī)和有機(jī)化合物的重要化工原料，對(duì)農(nóng)業(yè)及國(guó)計(jì)民生穩(wěn)定發(fā)展有直接關(guān)系[1-4].氨除了用于化工原料外，液氨還是一種新型、綠色和清潔的替代燃料，將是未來(lái)重要的可持續(xù)能源之一[5].工業(yè)上合成氨常采用Haber-Bosch法，需在高溫、高壓和催化劑的共同作用下進(jìn)行，其反應(yīng)條件苛刻且能耗巨大，所以常采用集中式生產(chǎn)模式，規(guī)模較大、運(yùn)輸成本較高[6].因此，降低反應(yīng)壓力、分布式合成氨一直是該領(lǐng)域?qū)W者的研究熱點(diǎn)和目標(biāo).介質(zhì)阻擋放電(DBD)等離子體耦合催化可在常壓或低壓下合成氨，徹底改變了傳統(tǒng)意義上氨合成“游戲規(guī)則”，降低能耗，同時(shí)為分布式模式合成氨提供了新思路.

為了提高DBD等離子體催化合成氨中氨產(chǎn)率，國(guó)內(nèi)外學(xué)者對(duì)DBD系統(tǒng)的操作參數(shù)和結(jié)構(gòu)參數(shù)影響進(jìn)行了深入研究[7-10].白敏冬等在板式DBD反應(yīng)器內(nèi)考察了放電參數(shù)(激勵(lì)電壓、激勵(lì)頻率和放電功率)、氣體總流量、V(N2)∶V(H2)、進(jìn)氣溫度及催化劑等對(duì)反應(yīng)器出口氨濃度的影響[7-8]；Mizushima等在圓筒式DBD反應(yīng)器內(nèi)考察了激勵(lì)電壓、氣體總流量和V(N2)∶V(H2)等對(duì)氨產(chǎn)率(mol/min)的影響[9-10].這些參數(shù)不僅影響氨產(chǎn)率，也會(huì)影響DBD系統(tǒng)的諧振特性[11-13].DBD諧振特性反應(yīng)了DBD電源與DBD反應(yīng)器的匹配程度，將直接影響DBD反應(yīng)器內(nèi)的氨產(chǎn)率，然而，有關(guān)DBD等離子體催化合成氨與諧振相關(guān)性的研究鮮有報(bào)道.為此，筆者在DBD等離子體反應(yīng)器內(nèi)，分別考察了操作參數(shù)(輸入電壓、氣體總流量及V(N2)∶V(H2))和結(jié)構(gòu)參數(shù)(有無(wú)催化劑填充、放電區(qū)寬度及催化劑粒徑)對(duì)氨產(chǎn)率和DBD系統(tǒng)諧振特性的影響，進(jìn)一步闡述DBD等離子體催化合成氨與諧振的相關(guān)性，研究結(jié)果將為DBD等離子體催化合成氨工藝的優(yōu)化提供依據(jù).

1 實(shí)驗(yàn)部分

1.1 實(shí)驗(yàn)裝置

實(shí)驗(yàn)裝置如圖1所示，原料氣N2(純度99.999%)1和H2(純度99.999%)2經(jīng)質(zhì)量流量計(jì)3(北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司)計(jì)量，進(jìn)入到緩沖罐5混合，再進(jìn)入DBD反應(yīng)器6進(jìn)行氨合成反應(yīng)；DBD反應(yīng)器6由高頻高壓電源13(CTP22000K，南京蘇曼電子有限公司)供電.

1—N2鋼瓶；2—H2鋼瓶；3—質(zhì)量流量計(jì)；4—質(zhì)量流量顯示儀；5—緩沖罐；6—DBD反應(yīng)器；7—高壓探頭；8—數(shù)字示波器；9—電流探頭；10—三通閥；11—錐形瓶；12—調(diào)壓器；13—高頻高壓電源圖1 實(shí)驗(yàn)裝置Fig.1 Experimental setup

DBD反應(yīng)器6為填充式DBD反應(yīng)器，其阻擋介質(zhì)為內(nèi)徑13 mm，壁厚1 mm的石英玻璃管.反應(yīng)器內(nèi)電極為外徑10 mm的不銹鋼管，置于石英玻璃管的軸線(xiàn)上；外電極為不銹鋼絲網(wǎng)，覆蓋在石英玻璃管的表面.在石英玻璃管與不銹鋼管間填充Al2O3催化劑作為填充介質(zhì).外電極接高壓，內(nèi)電極接地，放電極間距為2.5 mm.

1.2 DBD反應(yīng)器等效電路

DBD反應(yīng)器是由放電電極、電介質(zhì)層及放電間隙構(gòu)成的有損耗電容器，對(duì)激勵(lì)電源而言，可等效為阻容性負(fù)載[11].如圖2所示，在DBD反應(yīng)器內(nèi)氣隙擊穿前，DBD反應(yīng)器相當(dāng)于等效電容Cd和氣隙等效電容Cg串聯(lián)；氣隙擊穿后，相當(dāng)于圖2中開(kāi)關(guān)閉合，Cg兩端并聯(lián)電阻Rp[14-15]，整個(gè)DBD反應(yīng)器等效為阻容性負(fù)載.因而，DBD系統(tǒng)必然具有一固有頻率，當(dāng)激勵(lì)電源頻率接近其固有頻率時(shí)，系統(tǒng)會(huì)發(fā)生諧振，其諧振頻率可近似為

(1)

式中L為高壓變壓器漏感.

圖2 DBD反應(yīng)器等效電路Fig.2 Equivalent circuit of DBD reactor

1.3 電參數(shù)分析

DBD反應(yīng)器放電功率采用Q-U李薩如圖法計(jì)算[16]，其中反應(yīng)器放電電壓U采用高壓探頭(P6015A，Tektronix)和示波器(TDS1012B-SC，Tektronix)測(cè)量；反應(yīng)器上電量Q采用反應(yīng)器接地極串聯(lián)0.47 μF電容器(介質(zhì)損耗角約為0.000 25 rad)測(cè)量，電容電壓采用電壓探頭(P6139A，Tektronix)和示波器(TDS1012B-SC，Tektronix)測(cè)量.放電電流采用電流探頭(TCP-2000K，Tektronix)和示波器(OPO3052，Tektronix)測(cè)量.文中諧振特性分析時(shí)所提到的放電電壓、放電電流均為峰值.

1.4 化學(xué)分析

實(shí)驗(yàn)中氨產(chǎn)率定義為單位時(shí)間氨產(chǎn)量，gNH3/s，采用化學(xué)吸收法測(cè)定：將DBD反應(yīng)器產(chǎn)生的氨通入到10 mL的0.005 mol/L硫酸溶液進(jìn)行反應(yīng)吸收，以甲基紅指示劑，當(dāng)指示劑顏色由紅變黃時(shí)，產(chǎn)生的NH3剛好與硫酸反應(yīng)完全，計(jì)量吸收時(shí)間t，氨產(chǎn)率計(jì)算關(guān)系式為

2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論

2.1 操作參數(shù)的影響

2.1.1 輸入電壓

圖3為輸入電壓對(duì)DBD反應(yīng)器諧振特性和氨產(chǎn)率的影響.DBD等離子體催化合成氨在V(N2)∶V(H2)為2∶1及氣體總流量為300 mL/min時(shí)進(jìn)行.圖3(a)表示為輸入電壓對(duì)放電電流的影響.輸

入電壓越大，放電氣隙的電場(chǎng)強(qiáng)度增強(qiáng)，電子的平均能量變大，氣體的電離增加，從而放電電流增大[16-17]，如圖3(a)所示.同時(shí)，諧振頻率略向左偏移，這是由于隨著輸入電壓的增加，DBD放電增強(qiáng)，放電空間絲狀通道的數(shù)目相應(yīng)增加，電容C增大[11]，再根據(jù)諧振頻率公式(1)可推出諧振頻率減小.

DBD的放電功率P是反映反應(yīng)器工作特性的重要參量，對(duì)于電源的設(shè)計(jì)、電源和反應(yīng)器的匹配以及電氣參數(shù)的優(yōu)化都很重要.圖3(b)為輸入電壓對(duì)放電功率的影響，由圖3(b)可知：放電功率隨輸入電壓的增加而增加，并且在諧振頻率處達(dá)到最大值.這是由于在相同放電頻率下，輸入電壓增加，電場(chǎng)強(qiáng)度增強(qiáng)，放電電流增大，放電功率也隨之增加；在相同輸入電壓下，諧振頻率附近電流最大，放電功率達(dá)到最大.圖3(c)為輸入電壓對(duì)氨產(chǎn)率的影響，由圖3(c)知：氨的產(chǎn)率隨著輸入電壓的增加而增加.這是由于輸入電壓的增加，使得放電功率增加，更加有利于氮?dú)獾碾婋x產(chǎn)生氮自由基，從而使氨的產(chǎn)率增加；此外，在相同的輸入電壓條件下，諧振頻率處氨的產(chǎn)率最大，原因是諧振頻率處，放電功率也最大.

圖3 不同輸入電壓下，放電電流、放電功率、氨產(chǎn)率和放電頻率的關(guān)系Fig.3 Relationship among discharge current, discharge power, ammonia yield and discharge frequency in different input voltage

2.1.2 氣體總流量

圖4為氣體總流量對(duì)DBD反應(yīng)器諧振特性和氨產(chǎn)率的影響.DBD等離子體催化合成氨在V(N2)∶V(H2)為2∶1及輸入電壓為45 V時(shí)進(jìn)行.圖4(a，b)分別為氣體總流量對(duì)放電電流、放電功率的影響，由圖4可知：不同氣體總流量對(duì)放電電流、諧振頻率和放電功率的影響均不大.圖4(c)為氣體總流量對(duì)氨產(chǎn)率的影響，由圖知，總流量增加，氨產(chǎn)率隨著總流量的增加而增加.這是由于增加氣體總流量，可以使合成的氨及時(shí)從催化劑表面擴(kuò)散到氣流主體中，減少外擴(kuò)散的影響，從而促進(jìn)氨產(chǎn)率的提高.

圖4 不同氣體總流量下，放電電流、放電功率、氨產(chǎn)率和放電頻率的關(guān)系Fig.4 Relationship among discharge current, discharge power, ammonia yield and discharge frequency in different total flow rate

2.1.3 V(N2)∶V(H2)

圖5為V(N2)∶V(H2)對(duì)DBD反應(yīng)器諧振特性和氨產(chǎn)率的影響.DBD等離子體催化合成氨在氣體總流量為300 mL/min、輸入電壓為45 V時(shí)進(jìn)行.圖5(a，b)分別為V(N2)∶V(H2)對(duì)放電電流和放電功率的影響，由圖5可知：V(N2)∶V(H2)對(duì)放電電流、諧振頻率和放電功率的影響不大.圖5(c)為V(N2)∶V(H2)對(duì)氨產(chǎn)率的影響，由圖5(c)可知：隨著V(N2)∶V(H2)增大，氨產(chǎn)率也增加，當(dāng)V(N2)∶V(H2)為1∶1時(shí)，再增加V(N2)∶V(H2)，氨產(chǎn)率增加不明顯.這是由于增加氮?dú)獾捏w積使放電產(chǎn)生的氮自由基增加，有利于更多氮自由基在常壓條件下吸附在催化劑表面，從而有利于氨的合成，但是當(dāng)V(N2)∶V(H2)到達(dá)1∶1后，傳質(zhì)阻力逐漸增大，氮自由基會(huì)達(dá)到飽和狀態(tài)，此時(shí)再增加氮?dú)獾捏w積對(duì)氨產(chǎn)率增加量的影響不大.考慮到V(N2)∶V(H2)增大有利于氨產(chǎn)率的提高，V(N2)∶V(H2)選為2.

圖5 不同V(N2)∶V(H2)下，放電電流、放電功率、氨產(chǎn)率和放電頻率的關(guān)系Fig.5 Relationship among discharge current, discharge power, ammonia yield and discharge frequency in different V(N2)∶V(H2)volume ratio

2.2 結(jié)構(gòu)參數(shù)的影響

2.2.1 催化劑的有無(wú)

圖6為催化劑的有無(wú)對(duì)DBD反應(yīng)器諧振特性和氨產(chǎn)率的影響.DBD等離子體催化合成氨在氣體總流量為300 mL/min、輸入電壓為45 V和V(N2)∶V(H2)為2∶1時(shí)進(jìn)行.圖6(a，b)為催化劑的有無(wú)對(duì)放電電流和放電功率的影響，由圖6(a，b)可知：催化劑的有無(wú)對(duì)放電電流、諧振頻率和放電功率影響也不大.圖6(c)為催化劑的有無(wú)對(duì)氨產(chǎn)率的影響，由圖6(c)知：有催化劑時(shí)氨的產(chǎn)率比無(wú)催化劑時(shí)明顯提高，這是由于填充催化劑時(shí)氨合成反應(yīng)可以同時(shí)在催化劑表面和氣相中進(jìn)行[18-19]，可以通過(guò)放電產(chǎn)生的更多的氮自由基，更加有利于氨氣的生成.

圖6 不同催化劑條件下，放電電流、放電功率、氨產(chǎn)率和放電頻率的關(guān)系Fig.6 Relationship among discharge current, discharge power, ammonia yield and discharge frequency in different in with or without catalyst

2.2.2 放電區(qū)寬度

圖7為放電區(qū)寬度對(duì)DBD反應(yīng)器諧振特性和氨產(chǎn)率的影響.DBD等離子體催化合成氨在氣體總流量為300 mL/min、輸入電壓為45 V和V(N2)∶V(H2)為2∶1時(shí)進(jìn)行.圖7(a)為放電區(qū)寬度對(duì)放電電流的影響(其中，“鐵絲”放電區(qū)寬度為0.1 cm)，由圖7(a)可見(jiàn)：放電區(qū)寬度越大，諧振頻率越小.這是由于放電區(qū)寬度變大，放電面積變大，電容C變大，根據(jù)諧振頻率式(1)知諧振頻率減小.

圖7(b)為放電區(qū)寬度對(duì)放電功率的影響，由圖7(b)可知：隨著放電區(qū)寬度增加，在諧振頻率處的放電功率變化不大.這是由于放電區(qū)寬度的增加使諧振頻率減小，但同時(shí)放電電流和放電電壓增大，因而放電功率變化不大.圖7(c)為放電區(qū)寬度對(duì)氨產(chǎn)率的影響，由圖7(c)可知：放電區(qū)寬度增加，諧振頻率處氨的產(chǎn)率也隨之增加，這是由于放電區(qū)寬度增加，諧振頻率處放電電流增大，產(chǎn)生的氮自由基增多，故氨的產(chǎn)率增加.

圖7 不同放電區(qū)寬度下，放電電流、放電功率、氨產(chǎn)率和放電頻率的關(guān)系Fig.7 Relationship among discharge current, discharge power, ammonia yield and discharge frequency in different discharge zone width

2.2.3 催化劑粒徑

圖8為催化劑粒徑對(duì)DBD反應(yīng)器諧振特性和氨產(chǎn)率的影響.DBD等離子體催化合成氨在氣體總流量為300 mL/min、輸入電壓為45 V和V(N2)∶V(H2)為2∶1時(shí)進(jìn)行.圖8(a，b)分別為催化劑粒徑對(duì)放電電流和放電功率的影響，由圖8(a，b)可知：催化劑粒徑對(duì)放電電流、諧振頻率和放電功率影響不大.圖8(c)為催化劑粒徑對(duì)氨產(chǎn)率的影響，由圖8(c)可知：催化劑粒徑越小，氨產(chǎn)率越大.這是由于對(duì)于固體催化劑，內(nèi)擴(kuò)散與粒徑有關(guān)，顆粒越小有利于減少催化劑表面產(chǎn)生的氨在孔道的停留時(shí)間，減小發(fā)生二次分解的幾率，提高氨的產(chǎn)率，減少內(nèi)擴(kuò)散對(duì)反應(yīng)的影響.

圖8 不同催化劑粒徑下，放電電流、放電功率、氨產(chǎn)率和放電頻率的關(guān)系Fig.8 Relationship among discharge current, discharge power, ammonia yield and discharge frequency in different catalyst particle size

3 結(jié) 論

為了研究介質(zhì)阻擋放電等離子體催化合成氨與諧振的相關(guān)性，在DBD等離子體反應(yīng)器內(nèi)，分別考察了操作參數(shù)和結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)氨產(chǎn)率和DBD系統(tǒng)諧振特性的影響，結(jié)果表明：DBD諧振頻率處氨產(chǎn)率最高；輸入電壓和放電區(qū)寬度增加，DBD諧振頻率減小，而DBD諧振頻率的減小有利于氨產(chǎn)率的提高；氣體總流量V(N2)∶V(H2)、有無(wú)催化劑填充和催化劑粒徑對(duì)DBD諧振特性影響不大，但提高氣體總流量、增加V(N2)∶V(H2)、填充催化劑和減小催化劑粒徑有利于氨產(chǎn)率的提高.

[1] 劉化章.合成氨工業(yè)：過(guò)去，現(xiàn)在和未來(lái)[J].化工進(jìn)展，2013，32(9)：1995-2005.

[2] 祝一鋒，周春暉，高冬梅，等.活性炭負(fù)載釕基氨合成催化劑浸漬機(jī)理及條件研究.浙江工業(yè)大學(xué)學(xué)報(bào)[J]，2008，36(1)：1-4

[3] LI H Q, BAO W J, XIU C H, et a1. Energy conservation and circular economy in China’s process industries[J]. Energy,2010,35(11):4273-4281.

[4] HONG J L, LI X Z. Speeding up cleaner production in China through the improvement of cleaner production audit[J]. Journal of cleaner production,2013,40:129-135.

[5] LI J, HUANG H, KOBAYASHI N, et al. Study on using hydrogen and ammonia as fuels: combustion characteristics and NOxformation[J]. International journal of energy research,2014,38(9):1214-1223.

[6] 蔣德軍.合成氨工藝技術(shù)的現(xiàn)狀及其發(fā)展趨勢(shì)[J].現(xiàn)代化工，2005，25(8)：9-16.

[7] 白敏冬，張芝濤，白希堯，等.強(qiáng)電場(chǎng)放電常壓合成NH3研究[J].大連海事大學(xué)學(xué)報(bào)，1999，25(1)：84-87.

[8] BAI M D, ZHANG Z T, BAI X Y, et al. Plasma synthesis of ammonia with a microgap dielectric barrier discharge at ambient pressure[J]. IEEE transactions on plasma science,2003,31(6):1285-1291.

[9] MIZUSHIMA T, MATSUMOTO K, SUGOU J, et al. Tubular membrane-like catalyst for reactor with dielectric-barrier-discharge plasma and its performance in ammonia synthesis [J]. Applied catalysis a: general,2004,265(1):53-59.

[10] MIZUSHIMA T, MATSUMOTO K, OHKITA H, et al. Catalytic Effects of metal-loaded membrane-like alumina tubes on ammonia synthesis in atmospheric pressure plasma by dielectric barrier discharge[J]. Plasma chemistry and plasma processing,2007,27(1):1-11.

[11] 張芝濤，趙艷輝，董克兵，等.介質(zhì)阻擋放電系統(tǒng)中諧振問(wèn)題的

研究[J].高電壓技術(shù)，2004，30(4)：42-45.

[12] 趙凱，牟宗信，張家良，等.同軸介質(zhì)阻擋放電發(fā)生器介質(zhì)層等效電容和負(fù)載特性研究[J].物理學(xué)報(bào)，2014，63(18)：185208-1-185208-8.

[13] 吳云，李應(yīng)紅，蘇長(zhǎng)兵，等.等離子體氣動(dòng)激勵(lì)系統(tǒng)的諧振特性實(shí)驗(yàn)研究[J].高電壓技術(shù)，2008，34(1)：87-90，98.

[14] 王新新.介質(zhì)阻擋放電及其應(yīng)用[J].高電壓技術(shù)，2009，35(1)：1-11.

[15] 冉冬立，蔡憶昔，王軍，等.基于Q-V Lissajous圖形法的介質(zhì)阻擋放電試驗(yàn)研究[J].絕緣材料，2009，42(4)：72-76.

[16] 莊鳳芝，蔡憶昔，王軍，等.常壓介質(zhì)阻擋放電平均放電電流的實(shí)驗(yàn)研究[J].高電壓技術(shù)，2008，34(10)：2140-2144.

[17] 祝成鳳，黃立維，張永霞，等.脈沖放電等離子體甲烷氯化制氯代甲烷[J].浙江工業(yè)大學(xué)學(xué)報(bào)，2012，40(2)：161-164.

[18] 鐘侃，聶勇，汪晶毅,等.填充石英球?qū)BD等離子體轉(zhuǎn)化NO的影響[J].電工電能新技術(shù)，2007，26(4)：71-7.

[19] 李國(guó)平，徐立紅，黃桂鳳，等.脈沖電暈結(jié)合催化劑降解二氯甲烷研究[J].浙江工業(yè)大學(xué)學(xué)報(bào)，2014，42(5)：528-532.

(責(zé)任編輯：陳石平)

Correlation between ammonia synthesis using DBD plasma coupled with catalyst and resonant characteristics

NIE Yong, SONG Xiaofang, ZHUGE Shaoyuan, LU Meizhen, CHEN Ping, JI Jianbing

(College of Chemical Engineering, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014, China)

In order to study the correlation between ammonia synthesis using dielectric barrier discharge (DBD) plasma coupled with catalyst and resonant characteristics, the effects of operating parameters (input voltage, total gas flow rate andV(N2)∶V(H2) volume ratio) and structure parameters (presence of catalyst filling, width of discharge zone, particle size of catalyst) on ammonia yield (ammonia output per unit time) and resonant characteristics of DBD system were investigated in the DBD plasma reactor, respectively. Furthermore, the correlation between ammonia synthesis using DBD plasma coupled with catalyst and resonant characteristics was elaborated. The results showed that the ammonia yield was the highest in the resonance frequency of DBD system; the resonance frequency of DBD system decreased with the increasing of the input voltage and discharge zone width. Moreover, the decreasing of the resonance frequency was advantageous to the improvement of ammonia yield. The total gas flow rate,V(N2)∶V(H2) volume ratio, with or without catalyst filling and catalyst particle size only had little effect on the DBD resonant characteristics, but improved the total gas flow rate. increasingV(N2)∶V(H2)volume ratio, filling catalyst and decreasing catalyst particle size were advantageous to the improvement of ammonia yield. As a result, this research provides a basis for the process optimization of ammonia synthesis using DBD plasma coupled with catalyst.

dielectric barrier discharge; plasma coupled with catalyst; ammonia synthesis; resonant characteristics; ammonia yield

2015-12-07

聶 勇(1976—)，男，江西九江人，副教授，博士，主要從事氣體放電在化工環(huán)保應(yīng)用方面的研究工作，E-mail：ny_zjut@zjut.edu.cn.

TQ441

A

1006-4303(2016)06-0665-06