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        對雙頭涂布工藝的“冷思考”

        2016-12-02 08:45:21李俊林武輝伍秋濤
        印刷技術(shù)·包裝裝潢 2016年11期
        關(guān)鍵詞:無溶劑冷思考雙頭

        李俊+林武輝+伍秋濤

        “雙頭涂布”,即主劑、固化劑分開涂布的工藝,A、B膠在復合工位相遇并極速發(fā)生化學反應。雙頭涂布工藝無需UV燈照射固化,因為反應速度極快,所以印刷基材上的醇類殘留量以及環(huán)境濕度對工藝的影響可忽略不計。“雙頭涂布”這個概念在軟包裝行業(yè)的興起始于drupa2016,展會期間,諾德美克公司攜手陶氏化學成功演示全球首創(chuàng)的雙頭涂布無溶劑復合新工藝。隨后,國內(nèi)無溶劑設(shè)備制造商也紛紛突破此工藝。在2016中國國際全印展上,廣州通澤、重慶鑫仕達等展示了雙頭涂布無溶劑復合設(shè)備或相關(guān)工藝樣品。可以說,“雙頭涂布”如今儼然已經(jīng)成為軟包裝行業(yè)關(guān)注的熱點。那么,這種新工藝是否真的值得推廣?筆者通過對市場的大量考察,冷靜下來思考,總結(jié)了以下幾個原理性技術(shù)問題,希望能與行業(yè)人士共商討。

        思考一:A、B膠的反應比例能否得到有效保證?

        雙頭涂布工藝的真諦不能簡單地從字面去理解,也不是由原來一個涂布頭變成兩個涂布頭那么簡單,這種工藝必須有足夠的五輥涂布系統(tǒng)精度來做保障。通過對無溶劑復合市場的觀察,筆者認為,0.8g/m2已是目前無溶劑復合市場上性能相對較好的無溶劑復合設(shè)備的最低涂膠量,如果再低,便很難保證涂膠的均勻性。對此存在異議的人士,不妨拿自家的無溶劑復合設(shè)備試一下,當涂膠量為0.7g/m2時就很難保證不缺膠了。當然,如果工藝控制得當,暫時性的低涂膠量也是存在的,但不可能應付大批量生產(chǎn)。

        在傳統(tǒng)無溶劑復合工藝中,A、B膠在混膠機內(nèi)完成一定比例的混合,雙頭涂布無溶劑復合設(shè)備則主要依靠雙頭的涂布系統(tǒng)來達到A、B膠的混合,目前雙頭涂布無溶劑復合設(shè)備的技術(shù)水平還不能完全保證A、B膠達到最佳的反應比例,更無法保證涂膠的均勻性。

        在復合基材上初涂布A、B膠的情況如圖1所示,可能在1平方米面積內(nèi)A、B膠的混合比例符合要求,但從微觀角度來分析,在圖1中的點1和點2處,A、B膠的比例肯定存在局部偏差,那么在點1和點2處就會出現(xiàn)A、B膠配比失衡,可能會導致二者無法正常交聯(lián)固化??梢?,在雙頭涂布工藝中以平均涂膠量的概念來看A、B膠的配比,是一個值得商榷的問題。

        很明顯,在雙頭涂布工藝中,涂膠量局部偏差是不可避免的,經(jīng)分析有以下3種偏差表現(xiàn)。

        1.五輥涂布系統(tǒng)精度對涂膠不均勻的影響

        計量輥的靜態(tài)加工精度達到±5μm已經(jīng)是當前設(shè)備制造行業(yè)的最高加工水準了,假設(shè)計量間隙為80μm,則單側(cè)出現(xiàn)5/80=6.25%的涂膠不均勻性是不可避免的,在雙頭涂布工藝中涂膠不均勻性達到6.25%×2=12.5%,即理論來講,在無溶劑膠黏劑一定的寬容度下,無論是A膠多12.5%,還是B膠多12.5%,都能保證二者充分交聯(lián)固化。然而,實際雙頭涂布工藝中的涂膠不均勻性遠大于12.5%,這就無法保證A、B膠的充分交聯(lián)固化了。

        在無溶劑復合生產(chǎn)中,許多行業(yè)人士在調(diào)整計量間隙時發(fā)現(xiàn),大多情況下無溶劑復合設(shè)備的計量間隙誤差均高于10μm(使用的測量塞尺精度為±10μm,但很少有無溶劑復合設(shè)備可以在計量輥任意轉(zhuǎn)動角度內(nèi)仍保持“8進9不進”的標準計量間隙)。在這種情況下,在轉(zhuǎn)移膠輥的壓力下計量膠輥的變形更為嚴重,計量間隙均勻性的偏差則更大。在正常無溶劑復合生產(chǎn)中,由計量間隙不均勻引起的涂膠不均勻性幾乎都大于25%,而雙頭涂布工藝的涂膠不均勻性是同等條件下傳統(tǒng)涂膠不均勻性的2倍??梢哉f,雙頭涂布無溶劑復合設(shè)備的精度是保證正常無溶劑復合生產(chǎn)的最根本要求。以目前國內(nèi)三線設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)的機械加工水平來看,恐怕難以勝任雙頭無溶劑復合工藝要求的設(shè)備涂布精度要求。

        2.起停機時局部涂膠不均勻性

        涂布速度會明顯影響涂膠量,即存在剛開機時A、B膠比例出現(xiàn)偏差的情況。另外,在設(shè)備停機后剛起動時,通常能觀察到轉(zhuǎn)移膠輥上局部有一層橫向厚膠(寬度為3~5mm),有的部位則可能無膠,這可能會導致A、B膠配比極端不匹配,進而發(fā)生不交聯(lián)固化的現(xiàn)象。

        3.膠層分裂轉(zhuǎn)移均勻性造成的微觀配比偏差

        分裂轉(zhuǎn)移到薄膜上的膠層并不是完全平整的,存在高低不平的凹凸現(xiàn)象,如圖1所示的A膠凸點與B膠凹點相貼合時,這部分A、B膠就存在微觀配比偏差。

        可見,雙頭涂布無溶劑復合設(shè)備的A、B膠的微觀涂膠均勻性并不高,這就取決于每一個微小部位A、B膠的實際配比,如果雙頭涂布無溶劑復合設(shè)備的涂膠均勻性只能達到25%,也就意味著無論A膠多25%或是B膠多25%都能保證雙組分無溶劑膠黏劑的完全交聯(lián)固化,但這對無溶劑膠黏劑的寬容度要求極高??傊磕z均勻性及雙組分膠黏劑的聯(lián)動匹配度是雙頭涂布無溶劑復合設(shè)備的生命線。

        思考二:A、B膠能達到分子級接觸狀態(tài)嗎?

        在使用雙頭涂布無溶劑復合設(shè)備進行無溶劑復合時,兩層復合基材貼合時雙組分無溶劑膠黏劑的涂層厚度只有0.7~0.8μm,但A、B膠之間仍然存在界面張力梯度,從化學反應原理來分析,A、B膠必須達到分子級接觸狀態(tài)(固體分子間距大都在10-10~10-9m之間,氣體分子間距大都在10-9m以上,液體介于兩者之間)才可。

        雙頭涂布工藝要求在完成無溶劑復合后,A、B膠在復合壓力及分子熱布郎運動擴散力作用下能達到均勻混合,在A膠與B膠的接觸界面處,二者可以達到分子級接觸狀態(tài),但在復合基材與無溶劑膠黏劑的接觸界面處,A、B膠能按設(shè)計反應比例達到分子級的接觸狀態(tài)嗎?最大的風險就在于,基材界面處A、B膠微觀混合比例不均勻。

        即使是光膜材料,其表面也存在0.08~0.16μm的粗糙度。無論如何操作,A、B膠的分子都會滲入薄膜分子結(jié)構(gòu)中,相當于又增加了兩膠擴散混合的路徑長度,充分混合難度再次增加。有些人士認為增大涂膠量就能解決,但這樣只會進一步加大A、B膠充分均勻混合的難度。其實,這也充分驗證了“有些需要大涂膠量的復合產(chǎn)品,也可以通過無溶劑復合工藝來完成”的說法是不完全正確的。

        思考三:滲入油墨的無溶劑膠黏劑反應程度如何?

        凹印多色疊印墨層的示意圖如圖2所示。通常兩色實地疊印的墨層厚度在2μm左右,而且疊印墨層表面凹凸不平,存在很多間隙(類似毛細管現(xiàn)象),涂布在墨層表面的液態(tài)A、B膠會部分滲入墨層,但二者不可能按比例滲入,那么滲入墨層中的A、B膠是否能實現(xiàn)正常交聯(lián)固化呢?如果不能,就很難適應我國軟包裝凹印多色疊印的現(xiàn)狀。

        總結(jié)

        綜合來講,對于雙頭涂布工藝現(xiàn)存問題可總結(jié)為以下3點。

        (1)無溶劑復合局部A、B膠貼合厚度偏差大的問題不可完全避免。

        (2)從微觀分析,A、B膠能否按比例達到化學反應的分子級接觸狀態(tài)尚未可知。

        (3)滲入凹印多色疊印墨層中的A、B膠如何實現(xiàn)正常交聯(lián)固化反應尚待解決。

        雙頭涂布工藝不是簡單的機械結(jié)構(gòu)改變,而是會由此帶來一系列變化,如設(shè)備精度要求的變化、雙組分無溶劑膠黏劑配比控制方式的變化、雙組分無溶劑膠黏劑混合方式的變化等??梢?,雙頭涂布工藝盡管被炒得很熱,創(chuàng)新性極強,但也對與之匹配的雙組分無溶劑膠黏劑的性能、設(shè)備加工技術(shù)等方面提出了更高要求,推廣應用依然任重道遠。

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