科研裝備研制項(xiàng)目——“高離化率磁控濺射復(fù)合受控陰極電弧鍍膜裝置”通過中科院驗(yàn)收

2016年6月30日，中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所承擔(dān)的中國科學(xué)院科研裝備研制項(xiàng)目—— “高離化率磁控濺射復(fù)合受控陰極電弧鍍膜裝置”順利通過了中國科學(xué)院條件保障與財(cái)務(wù)局組織的驗(yàn)收。驗(yàn)收專家組由來自蘇州納米所、物理研究所、合肥強(qiáng)磁場科學(xué)中心、中國計(jì)量大學(xué)、蘇州大學(xué)、金屬研究所、蘭州化物所、上海硅酸鹽所等有關(guān)單位的專家組成。中國科學(xué)院條件保障與財(cái)務(wù)局副局長曹凝、科技條件處副處長姜言彬出席了驗(yàn)收會。

上午，測試專家組聽取了項(xiàng)目組測試說明，審議和確認(rèn)了測試大綱，根據(jù)實(shí)施方案規(guī)定的要求從研制裝備的運(yùn)行、使用情況、技術(shù)測試實(shí)驗(yàn)結(jié)果等角度對各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)逐一進(jìn)行現(xiàn)場測試，形成技術(shù)測試報(bào)告。

下午，驗(yàn)收專家組聽取了項(xiàng)目組工作報(bào)告、財(cái)務(wù)報(bào)告、使用報(bào)告和測試專家組的測試報(bào)告，現(xiàn)場查看了裝備的運(yùn)行情況，查閱了文件檔案及相關(guān)財(cái)務(wù)賬目。驗(yàn)收專家組認(rèn)為，項(xiàng)目承擔(dān)單位完成了實(shí)施方案規(guī)定的研制任務(wù)，達(dá)到了研制目標(biāo)，同意項(xiàng)目通過驗(yàn)收。

“高離化率磁控濺射（HIPIMS）復(fù)合受控陰極電弧鍍膜裝置”項(xiàng)目通過對高功率磁控管模塊、受控陰極電弧源模塊、HIPIMS電源、關(guān)鍵子系統(tǒng)、PLC控制等的設(shè)計(jì)優(yōu)化和適配加工，研制出了一套具有核心專利技術(shù)的高功率脈沖磁控濺射復(fù)合受控陰極電弧鍍膜裝置，該裝備具有離化率高、放電穩(wěn)定、繞射性好、大面積均勻、運(yùn)行可靠的特點(diǎn)。利用該裝置，不僅實(shí)現(xiàn)了以TiAlSiN與DLC為主的兩類目標(biāo)硬質(zhì)涂層材料高質(zhì)量制備；且光譜與探針原位診斷表明，HIPIMS技術(shù)實(shí)現(xiàn)了金屬Ti的離化率達(dá)80%，等離子體密度達(dá)1019/m3。另外，該裝置具有良好功能拓展性，能實(shí)現(xiàn)CrB2超硬涂層和高純MAX相防護(hù)涂層的設(shè)計(jì)與制備。

（中科院寧波材料所）