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        FED顯示技術(shù)及其制作工藝探究

        2016-11-03 22:33:41王惠
        科技視界 2016年18期
        關(guān)鍵詞:陰極工藝流程陽極

        王惠

        【摘 要】眾所周知,顯示技術(shù)是指利用電子技術(shù)提供變換靈活的視覺信息的技術(shù)。至今,大家已熟知CRT、LCD、PDP、OLED(含AMOLED)、激光、投影顯示等?;诓煌奈锢碓黼S之誕生了不同的顯示器件。有源顯示器件是器件自身發(fā)光;無源顯示器件是靠外部光源的照射而實現(xiàn)顯示。FED(Field Emission Display),即場致發(fā)射顯示器,屬於自發(fā)光顯示器件,它在功耗、對比度、畫質(zhì)等不同參數(shù)對比項目中甚至優(yōu)于LCD或PDP,本文重點介紹這種顯示技術(shù)原理及其制作工藝。

        【關(guān)鍵詞】FED;工藝流程;陰極;陽極

        1 FED的技術(shù)原理

        場致電子發(fā)射又稱為冷電子發(fā)射,簡單概括為在陰極表面加一個強電場,此外不需要任何附加能量,陰極內(nèi)的電子在該強電場作用下具備足夠能量后從表面逸出,形成電子發(fā)射。其一個重要應(yīng)用就是FED(field emission display,場致電子發(fā)射顯示器)。其原理是強電場迫使電子從發(fā)射陰極(cathode emitter)材料的尖端釋放,電子在陽極電場加速后轟擊屏幕上的熒光粉,激發(fā)熒光粉而發(fā)光,每一個熒光點后面有成千上萬個極小的電子發(fā)射器,F(xiàn)ED依靠場發(fā)射技術(shù)實現(xiàn)電子發(fā)射源,不用熱能,取代了CRT顯像管中的熱電子槍,場發(fā)射電子束的能量分布范圍比傳統(tǒng)熱電子束更窄而且具有較高的亮度,可用此技術(shù)實現(xiàn)設(shè)計和制作平面顯示器。

        2 FED顯示的優(yōu)點及發(fā)射形式

        FED具有高發(fā)光效率、動態(tài)響應(yīng)快與彩色良好等優(yōu)點,無需背光源、濾光膜、偏光片或其他光學(xué)薄膜等成像輔助器件,故FED的結(jié)構(gòu)比LCD簡單,響應(yīng)速度更快,視角更大,對環(huán)境溫度要求不像LCD那樣嚴(yán)格。其優(yōu)點如下:1)可減少背光模組之耗能,可達(dá)到大於20000:1的高對比度。2)FED利用螢光粉的自發(fā)光性,視角寬,在大視角下依然能維持高色彩品質(zhì)。3)操作溫度范圍大,高耐環(huán)境性。4)可表現(xiàn)高色純度與色再現(xiàn)性。5)可節(jié)省熱發(fā)射的加熱功耗,因此電力消耗低,發(fā)光效率高。

        FED場致電子發(fā)射的形式大體上可分為以下三種:尖端外場致電子發(fā)射;介質(zhì)薄膜(介質(zhì)涂層)內(nèi)場電子發(fā)射;碳納米管場致電子發(fā)射。

        3 FED顯示器件制作工藝流程

        FED顯示面板基本結(jié)構(gòu)如圖1,在三極型FED中,柵極電壓產(chǎn)生的電場決定了陰極電子發(fā)射的強弱,均勻性主要受以下因素影響(直接影響畫質(zhì)及分辨率):陰極與柵極之間的間距,柵孔直徑,陰極材料等方面,熒光粉的均勻制作等。

        圖1 三極型FED結(jié)構(gòu)示意圖

        FED 顯示器件的制作結(jié)點在于陰極板和熒光粉板的對合、老練。陰極板的工藝流程為:陰極電極→介質(zhì)層→柵極電極→旋轉(zhuǎn)制作過渡層→微錐尖制作(難點)。熒光粉板的工藝流程為:黑條→熒光粉。

        理想的場制發(fā)射器件具有以下結(jié)構(gòu):

        (1)很細(xì)的微錐尖;(2)陰極材料具有低的功函數(shù),有利于電子發(fā)射;(3)陰極材料熔點高能經(jīng)受高溫考驗;(4)小的柵極開口有利于增加電場強度;(5)致密的介質(zhì)層防止電極之間的漏電或擊穿。

        3.1 FED陰極板制作

        FED陰極板制作包括了基板玻璃的選擇和清洗工藝、陰極板上的電極制造工藝、鍍膜工藝、陰極制造工藝。

        (1)微錐尖(Nano-Spindt),其結(jié)構(gòu)采用了新型的技術(shù)來制備(基于薄膜技術(shù)與半導(dǎo)體微加工技術(shù)制備而成),采用鍍膜、蝕刻法;(2)基板,承載薄膜和漿料及隔絕空氣。故要求光滑且強度一定、并應(yīng)對熱膨脹、承受一定的壓強,通常選擇高拐點玻璃;(3)隔離子的配置以及在兩個基板上的位置都需要優(yōu)化,以防顯示屏發(fā)生形變;(4)排氣孔,用于抽出屏內(nèi)的空氣。

        其中電極制造工藝為鍍膜、印刷、腐蝕三個過程。鍍膜工藝包括鍍金屬膜和鍍絕緣膜。

        3.2 FED陽極板制作

        熒光粉板由基板、陽極和熒光粉層組成,能產(chǎn)生可見光。熒光粉板使用的基板與陰極板相同,F(xiàn)ED使用的熒光粉是電子激發(fā)型,柵極和陽極的距離盡量短以聚焦。由于陽極電壓較高(高達(dá)數(shù)萬伏特),陽極與柵極的距離要足夠大以免發(fā)生擊穿現(xiàn)象。

        (1)黑條:蒸鍍黑色材料,利用光刻蝕工藝制成黑色條框,用于提高對比度,限定熒光粉相互混色;(2)R、G和B熒光粉:分別印刷具有感光性的某一種顏色熒光粉漿料,然后曝光(非接觸方式)顯影,去除另外兩種顏色粉位置上的熒光粉;(3)陽極:在熒光粉層上蒸鍍一層金屬Cr,再蒸鍍一層C,最后蒸鍍一層鋁膜形成陽極,該電極使用公共電極的方式引出。

        3.3 FED隔離子(支撐柱)制作

        隔離子主要保證陰極板和熒光粉板兩板間距均勻,起支撐隔離作用,一般為陶瓷材料,其高度決定柵、陽兩極之間距離。FED這種高真空器件,隔離子支撐基板防止大氣壓使基板變形或破碎,因此,隔離子材料須滿足高真空和耐壓縮的要求。隔離子的寬度只有數(shù)十微米,由于隔離子部位不能發(fā)光,太寬也會減少發(fā)光區(qū)域,隔離子的高度也通常小到um級,陽壓越高,隔離子高度就相應(yīng)增加,顯示器的發(fā)光效率也就提高;幾百伏--數(shù)萬伏特陽壓需要100um--1000um的隔離子就能滿足柵陽不被擊穿的要求,而高的柵陽間距會造成電子束散開,轟擊到熒光粉的電子斑也相應(yīng)增大。隔離子必須有很高的高度與寬度比值。一般的制作工藝為絲網(wǎng)印刷和噴砂法。

        3.4 FED顯示屏的封接及除氣工藝

        主要工藝流程為:除氣→封接框制作→玻璃打孔→對合→封接→抽真空→烤消除氣。在陰極玻璃基片上先接好排氣管,并在陰極發(fā)射面上放隔離子,且行列間距必須符合一定放置規(guī)則。在即將對合的陰、陽極基板玻璃的四個周邊涂覆滿只具有低熔點的玻璃漿料,并將電極引線留出,將這個兩基板玻璃整體進(jìn)行干燥工藝后實施對合,再進(jìn)封接室里加熱封接。下一步抽真空,針對封接屏進(jìn)行抽氣封離;為保證屏內(nèi)的陰極電子發(fā)射的穩(wěn)定性,通常封離條件為1×10-4Pa真空,之后再進(jìn)行烤消除氣,到此完成整個除氣過程。

        3.5 FED顯示屏的測試及老練

        類似于PDP顯示屏的制作,封接好的FED顯示屏還必須經(jīng)過測試及老煉工藝,這也是一般制屏工藝的最后一道工序。測試是指將封接好的屏安置在測試工裝上,接通測試電路,看它的整體性能,一般還會輸入幾個測試信號,看該屏是否顯示出理想的圖像,之后根據(jù)測試結(jié)果對屏的相關(guān)工藝進(jìn)行調(diào)整和改進(jìn)。老煉是將除氣后的FED顯示屏再經(jīng)必要的電氣處理,使之達(dá)標(biāo),其作用是充分激活陰極,穩(wěn)定發(fā)射,對屏內(nèi)電極進(jìn)一步除氣,提高電極間絕緣強度,以達(dá)到穩(wěn)定FED的電氣和高頻性能。

        4 總結(jié)

        綜上,對FED顯示技術(shù)的基本原理和特點以及制作工藝已有一定介紹,在高度信息化和技術(shù)突飛猛進(jìn)的時代變革中,望在顯示技術(shù)領(lǐng)域中能更加深入的研究場致電子發(fā)射顯示器FED的驅(qū)動技術(shù)、發(fā)射電子源新材料、新工藝,探索FED顯示系統(tǒng)深層結(jié)構(gòu)、開辟相關(guān)材料的創(chuàng)新應(yīng)用,這些將無疑對顯示技術(shù)的發(fā)展和進(jìn)步是具有一定貢獻(xiàn)和作用的。

        【參考文獻(xiàn)】

        [1]羅恩澤,等.場發(fā)射顯示屏(FED)的基本原理及結(jié)構(gòu)設(shè)計[J].現(xiàn)代顯示,1996(4).

        [2]陳建林,等.FED平板顯示器件封接及除氣工藝的研究[J].福州大學(xué)學(xué)報,2003.

        [3]郭太良,等.新型可印刷FED場致發(fā)射顯示器的研制[J].中國有色金屬學(xué)報,2004,5:Vol.14 S1.

        [責(zé)任編輯:楊玉潔]

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