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        如何撰寫發(fā)明專利權(quán)利要求

        2016-07-25 08:45:56王春萌趙景煥
        河南科技 2016年4期

        王春萌 趙景煥 黃 倩 袁 麗

        (國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利局專利審查協(xié)作河南中心光電部,河南 鄭州 450002)

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        如何撰寫發(fā)明專利權(quán)利要求

        王春萌趙景煥黃倩袁麗

        (國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利局專利審查協(xié)作河南中心光電部,河南鄭州450002)

        摘要:本文結(jié)合審查經(jīng)驗(yàn)分析了權(quán)利要求撰寫需滿足的條件-清楚、完整、概括得當(dāng),并通過對(duì)比分析《專利審查指南》以及專利侵權(quán)判定中的相關(guān)內(nèi)容對(duì)功能性概括作了進(jìn)一步探討,以期為專利申請(qǐng)人撰寫權(quán)利要求書、最大程度的保護(hù)專利權(quán)人的合法權(quán)益提供幫助。

        關(guān)鍵詞:清楚;缺少必要技術(shù)特征;功能性概括;專利權(quán)穩(wěn)定;侵權(quán)判定

        近年來,專利侵權(quán)訴訟層出不窮,無形中引起了各專利持有人對(duì)于專利權(quán)穩(wěn)定的重視,也讓專利申請(qǐng)人和相關(guān)代理人思考,如何才能盡可能避免這種情況,權(quán)利要求書如何呈現(xiàn)才能使后續(xù)獲得的專利權(quán)清晰、適當(dāng)、穩(wěn)定呢?

        1 權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)清楚

        權(quán)利要求劃分了專利權(quán)的邊界,其首先應(yīng)當(dāng)清楚準(zhǔn)確地界定所要保護(hù)的范圍。通常來講,權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)清楚包含兩層含義,一個(gè)是組成權(quán)利要求的各技術(shù)要素應(yīng)當(dāng)清楚,一個(gè)是所形成的權(quán)利要求整體上應(yīng)當(dāng)清楚,細(xì)節(jié)上講:

        1.1權(quán)利要求中的用詞應(yīng)當(dāng)規(guī)范。權(quán)利要求所用的術(shù)語應(yīng)當(dāng)屬于本領(lǐng)域通用術(shù)語,在本領(lǐng)域具有確定的定義和解釋,或者在權(quán)利要求和說明書中有合理的定義或解釋(有時(shí)也參照附圖)。

        1.2權(quán)利要求中應(yīng)當(dāng)盡量避免模糊用詞。例如相對(duì)程度詞匯,如:“厚”、“薄”、“強(qiáng)”、“弱”等以及“等”、“或類似物”等用詞,給權(quán)利要求提供了模糊的理解,導(dǎo)致權(quán)利要求保護(hù)范圍不清楚,應(yīng)當(dāng)盡量避免。

        1.3權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)避免出現(xiàn)上下位概念同時(shí)存在導(dǎo)致的模糊。如:LED基板是金屬板,優(yōu)選為鋁基板。對(duì)于這種情況,申請(qǐng)人可以將該下位概念寫在從屬權(quán)利要求中做進(jìn)一步限定。同理,“例如”、“最好是”、“尤其是”等詞的運(yùn)用也是要避免的。

        2 權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)完整

        權(quán)利要求記載的技術(shù)方案應(yīng)當(dāng)完整,使得本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)嵤┮越鉀Q技術(shù)問題,也就是說權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)完整的記載能夠解決其技術(shù)問題的必要技術(shù)特征,尤其是獨(dú)立權(quán)利要求。

        對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求來說,有時(shí)申請(qǐng)人為了獲得較大的

        申請(qǐng)涉及“一種磁鐵塊固定裝置及磁浮重力補(bǔ)償器中磁鐵塊的安裝方法”,申請(qǐng)人在背景技術(shù)中記載:在磁浮重力補(bǔ)償器中,定子永久磁鐵通常固定粘結(jié)于圓筒形定子座的內(nèi)圓周面上,為使磁浮重力補(bǔ)償器提供良好的磁力線分布,要求磁鐵水平向及垂向定位精準(zhǔn)。然而,磁鐵異性磁極存在引力,在粘貼安裝過程中,很難實(shí)現(xiàn)多塊磁鐵的同時(shí)粘貼,單塊逐次粘貼又會(huì)造成工時(shí)浪費(fèi)。因此,該申請(qǐng)要解決的技術(shù)問題是:如何實(shí)現(xiàn)多塊磁鐵同時(shí)粘貼并保證磁鐵塊定位精準(zhǔn)。

        技術(shù)方案如下:

        圖1 磁鐵塊安裝演示圖

        圖2 圖1的A-A向剖視圖

        圓弧形的磁鐵分成兩部分安裝,包括首先形成的間隔分布的第一部分磁鐵31,以及在第一部分磁鐵的間隙中形成的第二部分磁鐵32。其包括用于水平向定位磁鐵塊31的模具5,模具5外輪廓呈圓形,環(huán)繞該模具的外圓周設(shè)有若干個(gè)間隔布置的磁鐵塊定位齒。將磁鐵塊31涂膠后分別放置在模具5和磁鐵安裝座1之間(具體來說是放置在模具的磁鐵定位齒與磁鐵安裝座之間)。法蘭座4上表面用以磁鐵安裝座1內(nèi)圓周面的磁鐵塊3垂向定位,同時(shí)定位模具5。

        權(quán)利要求1:一種磁鐵塊固定裝置,用于在磁浮重力補(bǔ)償器中安裝圓弧形的磁鐵塊(3),所述磁浮重力補(bǔ)償器具有圓筒形的磁鐵安裝座(1),安裝完成后所述磁鐵塊(3)位于磁鐵安裝座(1)內(nèi)圓周面上,其特征在于:所述磁鐵塊固定裝置包括固定所述磁鐵安裝座(1)的基座(2)、以及固定在該基座上面的法蘭座(4),所述法蘭座(4)上面安裝有固定座(6)和模具(5);還包括固定片(7)。

        權(quán)利要求1中對(duì)“模具”這個(gè)特征,并沒有做出任何限定,單從權(quán)利要求1請(qǐng)求保護(hù)的方案來看,本領(lǐng)域技術(shù)人員不能夠確定,模具和其他構(gòu)件的組合能夠?qū)崿F(xiàn)多塊磁鐵同時(shí)粘貼。因此,該獨(dú)立權(quán)利要求記載的技術(shù)方案是缺少了能夠解決多塊磁鐵同時(shí)粘貼的技術(shù)特征:模具5外輪廓呈圓形,環(huán)繞該模具的外圓周設(shè)有若干個(gè)間隔布置的磁鐵塊定位齒,使得且保護(hù)范圍過大。

        筆者在審查該案時(shí),遵循以三性評(píng)判為主線,在第一次審查意見通知書中以對(duì)比文件1結(jié)合公知常識(shí)評(píng)價(jià)了權(quán)利要求1-5的創(chuàng)造性。

        申請(qǐng)人答復(fù)一通時(shí)相對(duì)于對(duì)比文件1增加獨(dú)權(quán)的技術(shù)特征:所述法蘭座(4)使所述磁鐵塊(3)垂向定位;所述模具(5)使所述磁鐵塊(3)水平向定位;所述固定片(7)與所述固定座(6)配合固定所述磁鐵塊(3)。且陳述了權(quán)利要求1具備創(chuàng)造性的理由。

        筆者同意了申請(qǐng)人陳述的與對(duì)比文件1相區(qū)別的理由,然而,其仍然存在缺少必要技術(shù)特征的問題,筆者再次以缺少必要技術(shù)特征為由,發(fā)出第二通知書。

        申請(qǐng)人將審查員二通中陳述的必要技術(shù)特征加入獨(dú)立權(quán)利要求1中,該專利申請(qǐng)最終獲得授權(quán)。

        從該案中不難看出,發(fā)明所要解決的技術(shù)問題正是申請(qǐng)人聲稱的發(fā)明相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)所做出的改進(jìn)點(diǎn)所在,如果缺少了與其相關(guān)聯(lián)的關(guān)鍵技術(shù)特征而導(dǎo)致整個(gè)技術(shù)方案不能解決該技術(shù)問題,則該關(guān)鍵技術(shù)特征即為必要技術(shù)特征。如果專利申請(qǐng)中缺少了該必要技術(shù)特征,往往會(huì)導(dǎo)致權(quán)利要求保護(hù)范圍過大,現(xiàn)有技術(shù)中甚至發(fā)明構(gòu)思不是特別相符的文件也能影響本申請(qǐng),審查員會(huì)以不具備新穎性或創(chuàng)造性,或者以缺少必要技術(shù)特征為由發(fā)出通知書,如此以來,申請(qǐng)人想要獲得合適的保護(hù)范圍的周期則大大延長了。

        3 權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)概括得當(dāng)

        專利法第二十六條四款規(guī)定,權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)以說明書為依據(jù),也就是說,每一項(xiàng)權(quán)利要求所要求保護(hù)的技術(shù)方案應(yīng)當(dāng)是所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠從說明書中充分公開的內(nèi)容直接得到或概括得出的技術(shù)方案,直接得到很容易理解,不再贅述。

        3.1概括得出的情形及專利審查中的處理方式

        3.1.1上位概括或并列選擇概括。上位概念概括,例如,用“氣體激光器”概括氦氖激光器、氬離子激光器等。并列選擇法概括,即用“或者”或者“和”并列幾個(gè)必?fù)衿湟坏木唧w特征。如果現(xiàn)有技術(shù)中存在其下位概念或者并列選擇其中之一的技術(shù)特征,則認(rèn)定這種概括方式已經(jīng)被公開。

        3.1.2功能性概括。采用能夠?qū)崿F(xiàn)的功能或效果來對(duì)某一技術(shù)特征進(jìn)行限定。功能性概括能夠根據(jù)說明書中記載的實(shí)現(xiàn)該功能的技術(shù)手段將技術(shù)特征的范圍擴(kuò)展到所有能夠?qū)崿F(xiàn)該功能的范圍。因此,一旦現(xiàn)有技術(shù)中存在能夠?qū)崿F(xiàn)該功能的其中任一種實(shí)施方式,則認(rèn)定這種功能性概括的技術(shù)特征已經(jīng)被公開。

        3.2有關(guān)功能性概括的進(jìn)一步探討

        由上文所述,功能性概括有利于申請(qǐng)人拓寬專利請(qǐng)求保護(hù)的范圍,然而,專利法的立法宗旨,是維護(hù)專利權(quán)人與社會(huì)公眾利益的平衡,具體來說就是要合理界定專利權(quán)的保護(hù)范圍,對(duì)功能性概括來說,如果不對(duì)其保護(hù)范圍進(jìn)行合理解釋和限定,申請(qǐng)人可能將猜測(cè)的或者含糊不清的等同替代實(shí)施方式也概括進(jìn)權(quán)利要求,導(dǎo)致權(quán)利要求擁有不合理的寬泛的保護(hù)范圍。因此,在專利的審查、確權(quán)以及后續(xù)的侵權(quán)判定中均對(duì)功能性概括進(jìn)行解釋和限定。

        《審查指南》中規(guī)定,功能性限定的特征應(yīng)被理解為覆蓋了所有能夠?qū)崿F(xiàn)該功能的實(shí)施方式。按照此標(biāo)準(zhǔn),如果審查員檢索出實(shí)現(xiàn)相同功能或效果的實(shí)施例,則可以指出該申請(qǐng)缺乏新穎性/創(chuàng)造性。申請(qǐng)人想要通過繼續(xù)審查,就必須將相應(yīng)的結(jié)構(gòu)或方法特征甚至是實(shí)施例中的具體技術(shù)特征進(jìn)一步寫進(jìn)權(quán)利要求書中,將現(xiàn)有技術(shù)的內(nèi)容從權(quán)利要求請(qǐng)求保護(hù)的范圍中排除。

        另一方面,2010年1月1日施行的《最高人民法院關(guān)于審理侵犯專利權(quán)糾紛案件應(yīng)用法律若干問題的解釋》(下稱《解釋》)第四條規(guī)定:“對(duì)于權(quán)利要求中以功能或者效果表述的技術(shù)特征,人民法院應(yīng)當(dāng)結(jié)合說明書和附圖描述的該功能或者效果的具體實(shí)施方式及其等同的實(shí)施方式,確定該技術(shù)特征的內(nèi)容”。表面上看,《解釋》與《審查指南》中關(guān)于功能性概括的解釋存在相矛盾之處,然而,事實(shí)上,侵權(quán)判定中對(duì)于專利功能性概括的保護(hù)范圍,也僅僅限于具體實(shí)施方式及其等同的實(shí)施方式,即專利直接公開的范圍以及本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)公開的內(nèi)容結(jié)合常規(guī)技術(shù)知識(shí)經(jīng)過簡單變形能夠得到的范圍,其目的也是限制專利申請(qǐng)對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)所做出的貢獻(xiàn)與其專利保護(hù)的范圍相適應(yīng)。

        專利審查和侵權(quán)判定過程中,對(duì)于獲得穩(wěn)定、合適的專利保護(hù)范圍的目的是一致的,均是將專利申請(qǐng)的保護(hù)范圍限縮到對(duì)現(xiàn)有技術(shù)所做出的貢獻(xiàn)相適應(yīng)的范圍內(nèi)。因此,在進(jìn)行功能性概括時(shí),要保證具有詳實(shí)的具體及等同實(shí)施方式的支持,保證功能性概括的合適得當(dāng)。

        4 小結(jié)

        清楚、完整、概括得當(dāng)是權(quán)利要求撰寫須滿足的要求,是保證專利權(quán)清晰、穩(wěn)定、平衡專利權(quán)人與社會(huì)公眾利益的重要條件。申請(qǐng)人應(yīng)當(dāng)在保證權(quán)利要求書清楚的前提下,完整地記載對(duì)現(xiàn)有技術(shù)做出改進(jìn)的必要技術(shù)特征,并將專利申請(qǐng)請(qǐng)求保護(hù)的范圍限定到從說明書充分公開的內(nèi)容中所能概括得出的范圍內(nèi)。

        參考文獻(xiàn):

        [1]黃清明.專利審查指南[M].知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社,2010.

        [2]湯元磊等.關(guān)于“功能性特征”的解釋原則的思考[J].審查業(yè)務(wù)通訊.2011(4).

        [3]馬文霞.權(quán)利要求支持的理解與典型適用[J].審查業(yè)務(wù)通訊.2014(11).

        [4]張雪凌.淺談功能性權(quán)利要求的解釋[J].審查業(yè)務(wù)通訊.2011(10).

        [5]張崢等.從專利侵權(quán)訴訟民事審判看審查中權(quán)利要求范圍的確定[J].審查業(yè)務(wù)通訊.2014(11).

        中圖分類號(hào):G306.0

        文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A

        文章編號(hào):1003-5168(2016)02-0066-03

        收稿日期:2016-1-10

        作者簡介:王春萌(1989-),女,審查員,研究方向:光刻機(jī)、照明等領(lǐng)域?qū)@麑彶椤?/p>

        通訊作者:趙景煥(1970-),男,研究員,二級(jí)審查員,研究方向:發(fā)明專利審查及專利分析研究。保護(hù)范圍,故意隱去解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征。然而這對(duì)于申請(qǐng)人來講則是風(fēng)險(xiǎn)大于收益,下面以一典型案例分析什么是必要技術(shù)特征,以及審查員對(duì)于必要技術(shù)特征的處理方式。

        On How to Write the Patent Claims

        Wang ChunmengZhao Jinghuan Huang Qian Yuan Li
        (Patent Examination Cooperation Henan Center of the Patent Office,SIPO,Zhengzhou Henan 450002)

        Abstract:In this paper,the writer reviewed the experience of patent examination,analysed the conditions of patent claims to be met-clear,complete,properly summarized,and the functional generalization was further explored through comparative analysis of"Guidelines for Patent Examination"and patent infringement,with a view to provide help for the patent applicants of writing patent claims and protection of the legitimate interests on the greatest degree.

        Keywords:clear;lack of necessary technical features;functional generalization;patent stable;patent infringement

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