李晨樂 葉靜怡

一、引言

專利保護(hù)是鼓勵(lì)創(chuàng)新的重要制度安排。專利制度有兩個(gè)社會目標(biāo)：一是通過授予專利權(quán)以鼓勵(lì)研發(fā)投資，二是通過公開專利申請的信息以促進(jìn)技術(shù)知識傳播。專利公開能夠產(chǎn)生技術(shù)溢出，增加社會公共知識儲備，既避免重復(fù)研發(fā)投資，又為后繼創(chuàng)新提供必要的知識基礎(chǔ)。專利公開的正外部性通常是累積創(chuàng)新框架下專利設(shè)計(jì)模型的重要假設(shè)前提。[1-2]實(shí)證研究也支持了專利制度有利于技術(shù)知識的地理擴(kuò)散。[3-4]

既有研究側(cè)重專利技術(shù)溢出的社會收益，卻忽略了專利技術(shù)溢出的私人成本。當(dāng)技術(shù)溢出為競爭對手獲得時(shí)，可能會加劇競爭，侵蝕原專利商業(yè)回報(bào)，甚至降低創(chuàng)新者研發(fā)投資和專利申請積極性。Cohen(2000)[5]對1994年美國制造業(yè)企業(yè)調(diào)查表明，“信息公開”和“易被模仿”均是企業(yè)不愿申請專利的主要原因。Aoki(1999)[6]則指出專利技術(shù)溢出對專利申請激勵(lì)的負(fù)向影響程度與專利保護(hù)強(qiáng)度相關(guān)。專利技術(shù)溢出對原專利私人價(jià)值是否有負(fù)向影響？影響程度是否有異質(zhì)性？上述問題的研究能夠?yàn)樵u估專利制度有效性提供新的視角，為專利制度設(shè)計(jì)提供重要政策參考。但目前關(guān)于專利技術(shù)溢出的實(shí)證研究并不豐富，基于中國專利數(shù)據(jù)的實(shí)證研究則更為匱乏。

本文試圖在專利技術(shù)溢出研究領(lǐng)域做出新探索?；?993—2009年中國微觀專利數(shù)據(jù)分析，以同技術(shù)領(lǐng)域?qū)＠暾埰骄_時(shí)間為技術(shù)溢出的代理變量，以授權(quán)專利是否維持為專利私人價(jià)值代理變量，實(shí)證檢驗(yàn)源于專利公開的技術(shù)溢出對專利私人價(jià)值的影響，并且進(jìn)一步探討企業(yè)、高校、個(gè)人三類專利技術(shù)溢出的異質(zhì)性。研究發(fā)現(xiàn)：第一，同領(lǐng)域?qū)＠夹g(shù)溢出對專利私人價(jià)值有顯著負(fù)向影響，且專利技術(shù)溢出的負(fù)向影響隨著技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模的擴(kuò)大而增強(qiáng)。第二，在規(guī)模較大的技術(shù)領(lǐng)域中，企業(yè)專利技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)強(qiáng)于高校技術(shù)溢出。第三，企業(yè)、高校、個(gè)人分樣本回歸表明，專利技術(shù)溢出對企業(yè)專利維持率有顯著負(fù)向影響，對高校、個(gè)人專利則沒有顯著影響，說明專利技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)在市場化導(dǎo)向更強(qiáng)的專利中更為顯著。專利技術(shù)溢出程度與專利高度、寬度、保護(hù)強(qiáng)度密切相關(guān)，專利制度設(shè)計(jì)應(yīng)在鼓勵(lì)研發(fā)和鼓勵(lì)技術(shù)知識傳播兩個(gè)社會目標(biāo)之間取得平衡。

二、文獻(xiàn)綜述與研究假說

(一)專利公開與專利技術(shù)溢出

專利制度的一個(gè)重要社會目標(biāo)為通過公開專利的技術(shù)細(xì)節(jié)以促進(jìn)技術(shù)知識傳播，經(jīng)濟(jì)學(xué)中通常把專利公開產(chǎn)生的技術(shù)知識傳播稱為一種技術(shù)溢出效應(yīng)(spillovers)，或者信息的正外部性。[1-2]為了保證專利信息向社會公布，許多國家尤其是發(fā)達(dá)經(jīng)濟(jì)國家的專利制度都明確規(guī)定專利申請自申請日起滿18個(gè)月予以公布(專利申請法定公開)，并且允許申請人早于18個(gè)月公開其專利申請(提前公開)。

專利公開的社會收益在理論和實(shí)證研究領(lǐng)域都得到了關(guān)注。專利公開能夠產(chǎn)生技術(shù)溢出，降低后繼研發(fā)成本，進(jìn)而促進(jìn)未來創(chuàng)新，通常是最優(yōu)專利制度設(shè)計(jì)理論模型的重要假設(shè)前提。[2]實(shí)證研究一方面肯定了專利公開在促進(jìn)社會技術(shù)知識傳播方面的作用，另一方面也注意到了技術(shù)溢出效果的異質(zhì)性。Cohen和Goto(2002)[7]對美國、日本制造業(yè)企業(yè)研發(fā)實(shí)驗(yàn)室的調(diào)查研究表明，美國企業(yè)通常通過非專利渠道獲取信息，專利文獻(xiàn)作用不大；而專利顯著促進(jìn)了日本的行業(yè)內(nèi)技術(shù)溢出。Moser(2011)[3]、Khan(2014)[4]指出專利機(jī)制有利于技術(shù)信息成體系地匯報(bào)、檢索、擴(kuò)散，減少發(fā)明人對地區(qū)性技術(shù)傳播渠道的依賴，從而促進(jìn)技術(shù)知識的地理擴(kuò)散。Harhoff (2011)[8]的發(fā)明人調(diào)查為專利技術(shù)溢出效應(yīng)提供了更為直接的證據(jù)：閱讀專利文獻(xiàn)平均能夠節(jié)省12.2小時(shí)的研究時(shí)間，中位數(shù)時(shí)間為5.9小時(shí)；但同技術(shù)領(lǐng)域也呈現(xiàn)出極大的異質(zhì)性，電信領(lǐng)域中位數(shù)節(jié)省時(shí)間為每專利1.2小時(shí)，而有機(jī)化學(xué)領(lǐng)域?yàn)?7.6小時(shí)。

也有學(xué)者關(guān)注專利技術(shù)溢出對專利私人價(jià)值可能的負(fù)向影響。技術(shù)溢出是創(chuàng)新帶來的外部性，當(dāng)技術(shù)溢出流向競爭對手時(shí)，可能會降低競爭對手開發(fā)替代品的成本，進(jìn)而加劇產(chǎn)品競爭，侵蝕原發(fā)明商業(yè)回報(bào)，也可能促使競爭對手開發(fā)出新一代產(chǎn)品，使原專利過時(shí)。[6][9]Maurseth(2005)[10]以來自同技術(shù)領(lǐng)域的專利前向引用次數(shù)(forward citations)度量競爭對手獲得的專利技術(shù)溢出。他認(rèn)為，同技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的發(fā)明競爭更為激烈，因此相較于跨技術(shù)領(lǐng)域的引用，同技術(shù)領(lǐng)域的引用更為“危險(xiǎn)”?；?980—1994年挪威專利申請數(shù)據(jù)的研究表明，同技術(shù)領(lǐng)域?qū)＠迷蕉?，專利維持時(shí)間越短，五年內(nèi)被同行引用過的專利放棄概率高達(dá)未被引用專利的七倍；來自不同技術(shù)領(lǐng)域的引用次數(shù)則與專利維持時(shí)間正相關(guān)，說明跨技術(shù)領(lǐng)域引用反映了專利較高的技術(shù)和經(jīng)濟(jì)價(jià)值。同樣以專利引用作為技術(shù)溢出的代理變量，Kang (2015)[11]發(fā)現(xiàn)，華為、ZTE這兩家競爭度較高的中國企業(yè)之間存在較高的專利互相引用率。

綜上所述，關(guān)于專利技術(shù)溢出的實(shí)證研究并不豐富，且多關(guān)注專利技術(shù)溢出的社會收益，對專利技術(shù)溢出的私人成本考察較少。研究方法方面，或者通過調(diào)查數(shù)據(jù)考察技術(shù)溢出，或者以專利引用作為技術(shù)溢出的度量指標(biāo)。本文基于專利公開視角在專利技術(shù)溢出領(lǐng)域做出新探索。

(二)專利私人價(jià)值：度量指標(biāo)與影響因素

專利私人價(jià)值*與私人價(jià)值相對應(yīng)，專利的社會價(jià)值則強(qiáng)調(diào)專利公開的社會收益，即既有專利作為“巨人的肩膀”為其他社會成員帶來的信息正外部性。[10][17]指專利保護(hù)能夠?yàn)閷＠麢?quán)人帶來的商業(yè)回報(bào)，即在有專利權(quán)保護(hù)和無專利權(quán)保護(hù)這兩種狀況下，專利權(quán)人從其發(fā)明創(chuàng)造中所獲得的收益差異。[2][12]專利私人價(jià)值是反映專利保護(hù)有效性的重要指標(biāo)，其估計(jì)及影響因素研究受到了許多學(xué)者的關(guān)注。

Schankerman和Pakes(1986)[12]最早從專利維持*根據(jù)各國專利法的規(guī)定，專利獲得授權(quán)之后，專利持有人必須定期繳納專利維持費(fèi)以保持專利的有效性，否則將“因未繳納專利費(fèi)而專利權(quán)終止”。角度構(gòu)建了專利私人價(jià)值理論模型：由于專利獲得授權(quán)之后，專利持有人必須定期繳納專利維持費(fèi)以保持專利的有效性，專利維持費(fèi)可視為持有專利的成本，專利維持得越久，說明理性的專利權(quán)人愿意支付的維持成本越高，專利價(jià)值越高。在該模型基礎(chǔ)上，許多學(xué)者以專利維持決策作為專利私人價(jià)值的代理變量，結(jié)合各國專利費(fèi)費(fèi)率，對不同時(shí)期不同國家的專利價(jià)值進(jìn)行了經(jīng)驗(yàn)估計(jì)。研究顯示：專利價(jià)值分布偏斜度較大，少數(shù)專利價(jià)值較高；且專利價(jià)值因國別、時(shí)期、技術(shù)領(lǐng)域的不同而顯示出較大的差異性。[2]

也有學(xué)者以專利維持時(shí)間作為專利私人價(jià)值為代理變量，考察專利特征指標(biāo)與專利私人價(jià)值的相關(guān)性。包括專利族(patent family)*專利族表明同一項(xiàng)發(fā)明在多少個(gè)國家申請了專利，見國家知識產(chǎn)權(quán)局網(wǎng)站定義：由至少一個(gè)共同優(yōu)先權(quán)聯(lián)系的一組專利文獻(xiàn)，稱一個(gè)專利族。在同一專利族中每件專利文獻(xiàn)被稱作專利族成員，同一專利族中每件專利互為同族專利。在同一專利族中最早優(yōu)先權(quán)的專利文獻(xiàn)稱基本專利。http://www.sipo.gov.cn/wxfw/zlwxzsyd/zlwxjczs/zlwxyxxmcjs/200807/t20080701_409517.html。、專利權(quán)利數(shù)(patent claims)、技術(shù)領(lǐng)域數(shù)目等專利寬度代理變量[13]，專利引用(citations)、專利發(fā)明人數(shù)目等技術(shù)質(zhì)量代理變量，是否通過PCT申請、是否用于防御性動機(jī)等企業(yè)專利戰(zhàn)略變量[2]。

張古鵬等基于中國專利維持?jǐn)?shù)據(jù)的研究則發(fā)現(xiàn)，中國專利私人價(jià)值除了存在技術(shù)領(lǐng)域異質(zhì)性之外，還呈現(xiàn)出以下特征：第一，與美國、日本、歐洲國家在華申請的發(fā)明專利相比，國內(nèi)申請的發(fā)明專利私人價(jià)值較低，反映與主要發(fā)達(dá)國家存在技術(shù)差距；但由于國內(nèi)企業(yè)模仿、侵權(quán)行為的存在，中外專利價(jià)值差異有所縮小。第二，高校等研究機(jī)構(gòu)專利的私人價(jià)值低于企業(yè)，反映出高校等科研主導(dǎo)型研發(fā)機(jī)構(gòu)的研發(fā)活動與市場脫節(jié)。[14-16]

綜上所述，專利私人價(jià)值領(lǐng)域已有較為豐富的研究，本文從專利技術(shù)溢出視角進(jìn)一步擴(kuò)展和深化該領(lǐng)域研究。

(三)本文研究視角與研究假說

本文基于中國專利數(shù)據(jù)，從專利公開視角研究專利技術(shù)溢出對專利私人價(jià)值的影響。我國專利法也規(guī)定，發(fā)明專利申請自申請日起18個(gè)月予以公布(法定公開)，并且允許申請人早于18個(gè)月公開其專利申請(提前公開)。本文假設(shè)專利公開時(shí)間的差異會造成技術(shù)溢出程度的差異*John和Popp (2001)[17]的研究表明，盡管存在其他專利技術(shù)溢出方式，例如與專利技術(shù)相關(guān)的科技論文、學(xué)術(shù)會議、員工流動等，專利公開仍是專利技術(shù)溢出的主要渠道?；?976—1996年美國專利數(shù)據(jù)研究發(fā)現(xiàn)，與公開較晚(大于24個(gè)月)的專利相比，公開較早(小于12個(gè)月)的專利并沒有呈現(xiàn)出更高的引用衰減率和更快的擴(kuò)散速度，說明專利引用概率的差異主要取決于專利公開日期，而不是專利申請日期。，專利公開得越早，其他研究人員獲得技術(shù)信息的時(shí)間就越早，技術(shù)溢出程度就越大。待檢驗(yàn)假說如下：

假說1：專利技術(shù)溢出對專利私人價(jià)值有負(fù)向影響，即專利公開越早，專利私人價(jià)值越低。

假說2：企業(yè)專利技術(shù)溢出對專利私人價(jià)值的負(fù)向影響強(qiáng)于高校專利技術(shù)溢出。

假說3：專利技術(shù)溢出對企業(yè)專利私人價(jià)值的負(fù)向影響強(qiáng)于高校專利。

企業(yè)專利和高校專利在申請動機(jī)和技術(shù)特征方面都存在差異。[16]企業(yè)作為盈利性機(jī)構(gòu)，專利申請的市場化應(yīng)用動機(jī)較強(qiáng)，而高校以科研和教學(xué)為主，更可能為了完成科研項(xiàng)目和申請科研基金資助。技術(shù)特征方面，高校專利相對側(cè)重基礎(chǔ)研究，而企業(yè)側(cè)重應(yīng)用研究，與市場聯(lián)系更為緊密。因此，本文預(yù)期企業(yè)專利技術(shù)溢出會呈現(xiàn)出更強(qiáng)的負(fù)效應(yīng)。

三、計(jì)量模型、變量選擇與數(shù)據(jù)

(一)計(jì)量模型

為了驗(yàn)證上述假說，本文使用如下方程檢驗(yàn)專利技術(shù)溢出對專利私人價(jià)值的影響：

Renewij,t=β1PUBij,t-1+β2Xij,t+μj+vt+εij,t

(1)

其中：i表示專利，j表示申請人，t為專利申請年份；Renew為專利私人價(jià)值代理變量，PUB為專利技術(shù)溢出代理變量，X表示專利特征、技術(shù)領(lǐng)域特征等控制變量；μj、vt分別為申請人、申請年份固定效應(yīng)；εij，t為隨機(jī)擾動項(xiàng)。采用固定效應(yīng)模型控制不可觀測的申請人異質(zhì)性。

(二)變量選擇

1.因變量。

本文以授權(quán)專利在樣本期內(nèi)是否維持(Renew)作為專利私人價(jià)值的代理變量。*專利私人價(jià)值另一個(gè)度量指標(biāo)為專利維持時(shí)間，即專利自申請日或授權(quán)日起至專利權(quán)終止或樣本觀測期末這一時(shí)間跨度。鑒于專利維持時(shí)間數(shù)據(jù)具有右截?cái)嗵卣?，通常用生存模?survival analysis)分析。但由于本文數(shù)據(jù)量較大，專利申請主體數(shù)量較多，生存模型中無法控制申請人固定效應(yīng)，因此仍以授權(quán)專利是否維持(Renew)作為基準(zhǔn)回歸的因變量。穩(wěn)健性檢驗(yàn)中將專利維持時(shí)間(Age)作為因變量。具體地，如果該專利截至樣本觀測期末(2011年12月31日)沒有“因未繳專利費(fèi)而放棄”，Renew取1，反之取0。根據(jù)文獻(xiàn)綜述部分的論述，授權(quán)后維持的專利私人價(jià)值高于授權(quán)后放棄的專利。

2.自變量。

本文基于專利公開視角刻畫專利技術(shù)溢出。由于技術(shù)的學(xué)習(xí)與模仿更可能發(fā)生在技術(shù)相似度較高的領(lǐng)域[10]，借鑒Bloom(2013)[18]以相近技術(shù)領(lǐng)域企業(yè)研發(fā)投入加權(quán)平均值構(gòu)建技術(shù)溢出“池”的變量構(gòu)造方法，本文以同技術(shù)領(lǐng)域同年度專利申請*此處既包括未授權(quán)專利，也包括已授權(quán)專利。穩(wěn)健性檢驗(yàn)則基于授權(quán)專利樣本構(gòu)建技術(shù)溢出變量。平均公開時(shí)間(PUB)作為技術(shù)溢出程度的代理變量，其中專利申請公開時(shí)間為專利自申請日期至專利公開日期之間的時(shí)間跨度。某技術(shù)領(lǐng)域某年度專利公開得越晚，社會獲得技術(shù)信息就越遲，技術(shù)溢出越小。技術(shù)領(lǐng)域方面，參考專利質(zhì)量指標(biāo)相關(guān)研究文獻(xiàn)，將四位IPC碼*在專利審查過程中，專利局根據(jù)國際專利分類標(biāo)準(zhǔn)(international patent classification，IPC)確定專利所屬的技術(shù)領(lǐng)域。IPC的分類體系由高到低依次為部(1個(gè)字母)、大類(2個(gè)數(shù)字)、小類(1個(gè)字母)，主組(1～3個(gè)數(shù)字)、小組(2～4個(gè)數(shù)字)，參考WIPO網(wǎng)站，http://www.wipo.int/classifications/ipc/en/。另外，一個(gè)專利可能屬于多個(gè)技術(shù)領(lǐng)域，本文以第一個(gè)技術(shù)領(lǐng)域?yàn)榉诸悩?biāo)準(zhǔn)。作為同技術(shù)領(lǐng)域的分類標(biāo)準(zhǔn)。[13]

為了檢驗(yàn)企業(yè)、高校、個(gè)人專利技術(shù)溢出效應(yīng)的差異，將技術(shù)溢出變量進(jìn)一步分解為企業(yè)專利技術(shù)溢出(FmPUB)、高校專利技術(shù)溢出(SchPUB)、個(gè)人專利技術(shù)溢出(IndPUB)，依次為同技術(shù)領(lǐng)域同年度企業(yè)專利申請、高校專利申請、個(gè)人專利申請的平均公開時(shí)間。

考慮到技術(shù)溢出可能存在時(shí)滯，上述技術(shù)溢出變量均取滯后一期。

3.控制變量。

(1)控制專利申請?zhí)崆肮_決策變量(EP)。如果發(fā)明專利自申請日起480天*盡管嚴(yán)格按照專利法的規(guī)定，應(yīng)以18個(gè)月作為提前公開、法定公開的劃分標(biāo)準(zhǔn)，但考慮到實(shí)踐中可能存在的誤差，以480天作為劃分標(biāo)準(zhǔn)。內(nèi)已公開(提前公開)，則EP取1；如果發(fā)明專利大于480天才公開，則為法定公開，EP取0。將EP作為控制變量原因如下：第一，公開決策與專利技術(shù)溢出相關(guān)，自身專利公開得越早，其他研發(fā)人員獲取信息越快，技術(shù)溢出越大，對自身專利價(jià)值的負(fù)向影響可能越大。第二，專利申請?zhí)崆肮_決策可能受申請人專利戰(zhàn)略影響。對于比較成熟的市場，會傾向于提前公開以加快審批流程，搶占市場；對于前景不明的市場，則有可能選擇法定公開以延長審批時(shí)間，保持觀望狀態(tài)。[19]第三，已有基于中國發(fā)明專利數(shù)據(jù)的實(shí)證研究表明，與法定公開專利相比，提前公開專利授權(quán)率更高，技術(shù)質(zhì)量更好。[20]綜上，專利公開決策與個(gè)體專利技術(shù)溢出程度、申請人專利策略、專利技術(shù)質(zhì)量相關(guān)，而這些因素也可能影響專利維持決策，因此將其作為控制變量。

(2)專利特征控制變量。根據(jù)文獻(xiàn)綜述部分對專利私人價(jià)值相關(guān)性指標(biāo)的討論，以及數(shù)據(jù)可得性，對控制技術(shù)領(lǐng)域數(shù)目(IPC4s)、發(fā)明人數(shù)目(Inv.s)、專利說明書頁數(shù)(Pages)、專利申請權(quán)利數(shù)目(Claims)這些變量取對數(shù)?？刂七^程專利(Process)、產(chǎn)品專利(Product)為虛擬變量，其對照組為兼具過程和產(chǎn)品特征的專利。

(3)技術(shù)領(lǐng)域特征控制變量。包括同技術(shù)領(lǐng)域同年度發(fā)明專利申請數(shù)(IPs)、實(shí)用新型專利申請數(shù)(UMs)，以反映該技術(shù)領(lǐng)域知識存量及技術(shù)特征。相對于發(fā)明專利，實(shí)用新型專利更可能創(chuàng)新程度較低或者產(chǎn)品生命周期較短。[21]使用技術(shù)領(lǐng)域赫芬達(dá)爾-赫希曼指數(shù)(HHI)控制發(fā)明專利申請人“壟斷程度”，即各申請人專利申請量占同技術(shù)領(lǐng)域同年度發(fā)明專利申請總量百分比的平方和。技術(shù)領(lǐng)域特征變量均取滯后一期。

(4)其他控制變量。包括30個(gè)OST層面技術(shù)領(lǐng)域虛擬變量*4位IPC碼將發(fā)明創(chuàng)造劃分為600多個(gè)技術(shù)領(lǐng)域，法國科技觀察站(observatoire des sciences et des techniques,OST)和法國專利局將4位IPC分類整合為31個(gè)技術(shù)類別，該分類在專利質(zhì)量研究中得到了廣泛使用。[2]、專利申請年份虛擬變量。

(三)數(shù)據(jù)來源與描述統(tǒng)計(jì)

本文數(shù)據(jù)來自國家知識產(chǎn)權(quán)局中國專利數(shù)據(jù)庫(2012年光盤版)。樣本包括1993—2009年*2012年光盤版收錄了1985—2011年所有公開專利的信息。本文使用數(shù)據(jù)為1993—2009年申請的專利，原因如下：第一，1992年專利法改革將發(fā)明專利保護(hù)期由15年延長至20年，本文取1992年之后發(fā)明專利保護(hù)期統(tǒng)一為20年的時(shí)間段。第二，專利申請法定公開一般需要等待18個(gè)月，部分2000、2011年申請的專利可能因尚未公開而未收入光盤，因此本文樣本截至2009年。來自中國內(nèi)地申請主體的906 416件發(fā)明專利申請，其中企業(yè)申請占43.22%，高校等公共研究機(jī)構(gòu)占24.65%，個(gè)人申請占32.13%。樣本中專利來自193 837位申請主體，每位申請人的專利申請量差異較大，規(guī)模最大的申請人共申請了25 042件專利，58%的申請人只申請過1件專利。專利申請授權(quán)率為50.73%。截至2011年12月31日，授權(quán)專利中有效專利所占比重為71.87%。

如表1所示，技術(shù)領(lǐng)域?qū)＠暾埰骄_時(shí)間為12個(gè)月，早于18個(gè)月的法定公開時(shí)間。高校專利申請平均公開時(shí)間早于企業(yè)、個(gè)人專利。已經(jīng)獲得授權(quán)的專利申請中，有66%選擇了提前公開。各技術(shù)領(lǐng)域?qū)＠暾堃?guī)模也存在較大差異。樣本觀測期內(nèi)共有9 340個(gè)技術(shù)領(lǐng)域-年份分組，其中791個(gè)分組內(nèi)只有1件專利申請，而申請量最多的達(dá)11 506件。

表1 變量說明與描述統(tǒng)計(jì)

四、計(jì)量結(jié)果

(一)專利技術(shù)溢出與專利維持率

表2為方程(1)回歸結(jié)果，回歸中均控制了申請人固定效應(yīng)，專利申請年份虛擬變量、OST技術(shù)領(lǐng)域虛擬變量。

第1列為全樣本回歸。結(jié)果顯示，平均而言，同領(lǐng)域?qū)＠暾埞_時(shí)間每延長一個(gè)月，授權(quán)專利維持概率上升0.006，并在10%的水平上顯著。本文以同技術(shù)領(lǐng)域前年度專利申請平均公開時(shí)間作為專利技術(shù)溢出的代理變量，同領(lǐng)域?qū)＠_得越晚，專利技術(shù)溢出越小，上述結(jié)果說明專利技術(shù)溢出對專利維持率有顯著的負(fù)向影響。

技術(shù)溢出效應(yīng)可能因技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模不同而異，本部分逐步剔除專利申請數(shù)量較小的技術(shù)領(lǐng)域-年份分組，對方程(1)進(jìn)行分樣本回歸。第2～4列依次為專利申請量大于180件(上25%分位)、565件(上50%分位)、1 918件(上75%分位)的分樣本回歸。結(jié)果顯示，剔除了申請量較少的技術(shù)領(lǐng)域-年份分組之后，專利公開時(shí)間(PUB)的系數(shù)仍然顯著，且隨著技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模的增大對專利維持概率的影響也增強(qiáng)。上75%分位子樣本中，平均專利公開時(shí)間每減少一個(gè)月，專利維持概率下降近0.034。專利申請量較多的技術(shù)領(lǐng)域可能具有更大的市場潛力，專利持有者之間的商業(yè)競爭也更激烈，專利技術(shù)溢出對專利維持率的負(fù)向影響因而更大。

在全樣本和各分位數(shù)子樣本中，專利申請公開決策變量(EP)系數(shù)均顯著為負(fù)，即相對于法定公開專利，提前公開專利在授權(quán)后更容易被放棄。這可能是由于專利申請較早公開，更早披露了專利的技術(shù)信息，從而給競爭對手產(chǎn)生正外部性，降低了自身專利的商業(yè)回報(bào)；也可能與專利申請人較早搶占市場的專利戰(zhàn)略有關(guān)。

專利特征控制變量方面，專利申請技術(shù)領(lǐng)域數(shù)目、發(fā)明人數(shù)目、說明書頁數(shù)、專利權(quán)數(shù)四個(gè)變量系數(shù)基本顯著為正，說明專利技術(shù)質(zhì)量、技術(shù)復(fù)雜度與專利私人價(jià)值整體上呈現(xiàn)出正相關(guān)關(guān)系。與兼具產(chǎn)品、過程專利特征的對照組相比，過程專利變量(Process)系數(shù)均顯著為正，產(chǎn)品專利變量(Product)系數(shù)則不顯著。

技術(shù)領(lǐng)域特征控制變量方面，同領(lǐng)域前年度發(fā)明專利申請量(IPs)系數(shù)基本顯著為負(fù)。專利申請量較多的技術(shù)領(lǐng)域在技術(shù)創(chuàng)新和市場開發(fā)方面競爭度都可能較高，因此專利維持率較低。實(shí)用新型專利申請量(UMs)系數(shù)為正但基本不顯著。發(fā)明專利“申請人集中度(HHI)”系數(shù)為正，上50%和上75%分位樣本中顯著，反映出申請人壟斷程度較高的技術(shù)領(lǐng)域?qū)＠S持率高。

綜上所述，同領(lǐng)域?qū)＠骄_得越晚，專利維持率越高，即專利技術(shù)溢出對專利私人價(jià)值有顯著的負(fù)向影響，且專利技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)隨著技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模的擴(kuò)大而增強(qiáng)。上述結(jié)果支持了假說1。

(二)企業(yè)、高校、個(gè)人技術(shù)溢出與專利維持率

為了識別不同來源的技術(shù)溢出對專利私人價(jià)值的影響，表3匯報(bào)了企業(yè)專利技術(shù)溢出、高校專利技術(shù)溢出、個(gè)人專利技術(shù)溢出的回歸結(jié)果。

如列1、列2所示，全樣本和上25%分位數(shù)子樣本中，企業(yè)和高校專利技術(shù)溢出系數(shù)均為正，說明企業(yè)、高校專利平均公開得越晚，專利維持率越高，但企業(yè)技術(shù)溢出變量系數(shù)不顯著，高校專利技術(shù)溢出系數(shù)在10%的水平上顯著。隨著技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模的增大，企業(yè)技術(shù)溢出變量系數(shù)和顯著性都增強(qiáng)，在上50%分位數(shù)和上75%分位數(shù)樣本中(列3、列4)，企業(yè)專利平均公開時(shí)間每縮短一個(gè)月，專利維持概率分別下降0.009、0.018，高校專利技術(shù)溢出系數(shù)小于企業(yè)專利，且不顯著。在各個(gè)樣本中，個(gè)人專利技術(shù)溢出系數(shù)均為負(fù)或不顯著。企業(yè)作為盈利性機(jī)構(gòu)，其專利技術(shù)與市場結(jié)合更為緊密，因此規(guī)模更大、市場競爭更為激烈的領(lǐng)域，企業(yè)技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)更強(qiáng)。

控制變量方面，專利公開決策系數(shù)仍顯著為負(fù)。專利質(zhì)量和技術(shù)領(lǐng)域特征控制變量的方向和顯著性與表3差別不大。

綜上所述，在上50%分位數(shù)和上75%分位數(shù)樣本中，企業(yè)專利技術(shù)溢出呈現(xiàn)出與高校技術(shù)溢出、個(gè)人技術(shù)溢出明顯不同的特征，企業(yè)專利技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)強(qiáng)于高校、個(gè)人專利技術(shù)溢出。假說2部分得到支持。

表3 企業(yè)、高校、個(gè)人技術(shù)溢出與專利維持率

(三)專利技術(shù)溢出效應(yīng)企業(yè)、高校、個(gè)人分樣本回歸

表2、表3分析了技術(shù)溢出對專利維持率的總體影響，現(xiàn)考察專利技術(shù)溢出對專利私人價(jià)值的異質(zhì)性影響。將樣本分為企業(yè)、高校、個(gè)人三個(gè)子樣本*表4～表6中的企業(yè)、高校、個(gè)人分樣本回歸均剔除了只有一個(gè)觀測值的技術(shù)領(lǐng)域-年份分組。，比較三個(gè)子樣本下專利技術(shù)溢出相關(guān)變量估計(jì)系數(shù)的差異情況。

如表4所示，總體而言，專利技術(shù)溢出對企業(yè)專利私人價(jià)值有顯著負(fù)向影響，同領(lǐng)域?qū)＠_得越早，企業(yè)專利維持率越低。高校、個(gè)人專利子樣本中，專利公開時(shí)間變量則不顯著。*針對企業(yè)、高校、個(gè)人專利，也根據(jù)技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模進(jìn)行了分樣本回歸。PUB在企業(yè)專利的上25%、50%、75%分位數(shù)樣本回歸中，系數(shù)依次為0.006、0.004、0.011，均在5%或者10%的水平上顯著。PUB在高校、個(gè)人專利的分位數(shù)子樣本中均不顯著。結(jié)果備索。相對于企業(yè)申請人，高校等公共研究機(jī)構(gòu)更可能是為了完成科研項(xiàng)目和職稱晉升的目的而申請專利，專利市場化應(yīng)用的動機(jī)較弱，因此專利技術(shù)溢出加劇同業(yè)競爭進(jìn)而降低專利私人價(jià)值的影響機(jī)制并不顯著。企業(yè)、高校、個(gè)人專利技術(shù)溢出在三個(gè)子樣本中基本沒有表現(xiàn)出較強(qiáng)的負(fù)效應(yīng)。

綜上，假說3部分得到了支持。

表4 技術(shù)溢出效應(yīng)企業(yè)、高校、個(gè)人分樣本回歸

五、穩(wěn)健性檢驗(yàn)

(一)已授權(quán)專利技術(shù)溢出

第三部分以專利申請公開時(shí)間反映技術(shù)溢出程度。專利申請不一定獲得授權(quán)，可能撤回或者被專利審查機(jī)構(gòu)駁回?？紤]到授權(quán)專利的技術(shù)質(zhì)量高于撤回或者駁回的專利[20]，本部分以授權(quán)專利的平均公開時(shí)間作為技術(shù)溢出的代理變量。

如表5所示，剔除未授權(quán)的專利申請后，同領(lǐng)域?qū)＠骄_時(shí)間對專利維持率仍有顯著影響：同領(lǐng)域?qū)＠骄砉_一個(gè)月，專利維持率上升0.004*在上25%、50%、75%分位數(shù)子樣本中，該系數(shù)依次為0.005、0.007、0.023，且在1%或5%的水平上顯著(結(jié)果可向作者索取)。。企業(yè)技術(shù)溢出系數(shù)與高校、個(gè)人專利明顯不同，企業(yè)專利公開得越晚，專利維持率越高，而高校、個(gè)人專利公開時(shí)間系數(shù)則方向相反或不顯著。

企業(yè)、高校、個(gè)人分樣本回歸結(jié)果與表4相差不大，基于授權(quán)專利構(gòu)建的專利技術(shù)溢出變量在企業(yè)樣本中有顯著影響，在高校、個(gè)人樣本中則不顯著。企業(yè)、高校和個(gè)人技術(shù)溢出變量則基本不顯著。

上述穩(wěn)健性檢驗(yàn)支持了表2～表4的基本結(jié)果，即同領(lǐng)域?qū)＠夹g(shù)溢出對專利維持率有顯著負(fù)向影響，且專利技術(shù)溢出對企業(yè)專利維持率的負(fù)向影響更顯著。

表5 穩(wěn)健性檢驗(yàn)：已授權(quán)專利技術(shù)溢出

續(xù)前表

(二)專利維持時(shí)間與技術(shù)溢出

第三部分以專利維持決策0—1變量反映專利私人價(jià)值，作為穩(wěn)健性檢驗(yàn)，本部分以專利維持時(shí)間(Age)*本文所選用的專利維持時(shí)間自授權(quán)日起算。對于已失效的專利，計(jì)算方法為專利權(quán)放棄日期減去授權(quán)日期；仍有效的專利維持時(shí)間為樣本觀測期末(2011年12月31日)減去授權(quán)日期。根據(jù)我國專利法，專利申請公開以后才能進(jìn)入實(shí)質(zhì)審查階段，因此提前公開能夠縮短專利審批時(shí)間。本文自授權(quán)日起算專利維持時(shí)間，剔除了受公開時(shí)間影響的專利審批階段。連續(xù)型變量為因變量，回歸結(jié)果見表6。

如列1所示，全樣本中，專利公開時(shí)間系數(shù)顯著為正，即同領(lǐng)域?qū)＠_得越晚，專利維持時(shí)間越長；企業(yè)專利公開時(shí)間系數(shù)也顯著為正(列2)。

對比三個(gè)子樣本，專利公開時(shí)間對企業(yè)、高校專利維持時(shí)間都有顯著的正向影響，其中企業(yè)樣本中專利公開時(shí)間系數(shù)大于高校子樣本。企業(yè)專利公開時(shí)間在三個(gè)子樣本中都顯著為正，高校、個(gè)人技術(shù)專利公開早晚對專利維持時(shí)間則沒有顯著的正向影響。與表2～表4的回歸結(jié)果基本一致。

表6 穩(wěn)健性檢驗(yàn)：專利技術(shù)溢出與專利維持時(shí)間

六、結(jié)論

本文以1993—2009年中國專利數(shù)據(jù)為樣本，基于專利公開視角實(shí)證檢驗(yàn)專利技術(shù)溢出對專利私人價(jià)值的影響。研究控制申請人固定效應(yīng)，以同技術(shù)領(lǐng)域前年度專利申請平均公開時(shí)滯為技術(shù)溢出的代理變量，以授權(quán)專利是否維持為專利私人價(jià)值代理變量，主要結(jié)論如下：

第一，專利技術(shù)溢出對專利私人價(jià)值有顯著負(fù)向影響，且專利技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)隨技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模的擴(kuò)大而增強(qiáng)。同領(lǐng)域?qū)＠暾埞_時(shí)間每縮短一個(gè)月，專利維持率下降0.004；隨著技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模的擴(kuò)大，專利技術(shù)溢出變量的系數(shù)和顯著性都增大。專利公開的技術(shù)信息降低了競爭對手開發(fā)替代品的成本，從而加劇了競爭，降低原專利私人價(jià)值。

第二，在規(guī)模較大的技術(shù)領(lǐng)域中，技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)主要由企業(yè)專利體現(xiàn)出來。企業(yè)專利公開得越早，專利維持率越低，而高校、個(gè)人專利公開時(shí)間的影響則不顯著。

第三，企業(yè)、高校、個(gè)人分樣本回歸表明，專利技術(shù)溢出對企業(yè)專利維持率有顯著負(fù)向影響，對高校、個(gè)人專利沒有顯著影響。相對于高校，企業(yè)作為盈利性機(jī)構(gòu)，其專利申請的市場化導(dǎo)向更強(qiáng)，專利技術(shù)溢出加劇競爭的負(fù)效應(yīng)也更為顯著。

專利公開的技術(shù)溢出效應(yīng)是一把雙刃劍。從專利制度鼓勵(lì)技術(shù)知識傳播的社會目標(biāo)角度看，技術(shù)溢出使既有專利較早進(jìn)入公共領(lǐng)域，客觀上有利于整個(gè)社會技術(shù)知識的共享和傳播。但是，從專利制度鼓勵(lì)研發(fā)投資的社會目標(biāo)角度看，技術(shù)外溢降低了既有專利的私人價(jià)值，可能降低創(chuàng)新者研發(fā)投資和申請專利的積極性。專利技術(shù)溢出與專利寬度、高度設(shè)計(jì)，專利執(zhí)法強(qiáng)度密切相關(guān)[6][9][16]，專利制度在鼓勵(lì)技術(shù)知識傳播的同時(shí)，也應(yīng)加強(qiáng)對已授權(quán)專利的保護(hù)，從而有利于我國實(shí)現(xiàn)從以技術(shù)吸收引進(jìn)為主向以自主創(chuàng)新為發(fā)展引擎的歷史轉(zhuǎn)變。

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