摘 要：該發(fā)明公開了一種鎂合金基材單向移動表面處理設(shè)備，包括電解池（1）、基材（2），第一電電極組（8、9）、第二電極組（7、11），第三電極組（10、12），第一變頻器（6）、第二變頻器（4）、第三變頻器（5）和第一變壓器（3）、第二變壓器（14），第三變壓器（13），基材（2）置于電解池（1）的磷酸電解液中，基材（2）與第一至第三電極組平行相對設(shè)置，且設(shè)置在電極下方，基材2與電極之間的距離為5～10 mm，其特征在于：基材（2）為單向運動，即由左向右運動，第一變頻器與第三變頻器的參數(shù)設(shè)置相同，120 Hz 10 min（即在120 Hz下處理10 min）或240 Hz 3 min，通過第二變頻器輸出180 Hz 10 min或200 Hz 3 min，電極電壓為40～45 V。處理方法獨特，利于表面微細(xì)化。