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我國(guó)有了光刻機(jī)核心技術(shù)

對(duì)于普通人來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)或許是一個(gè)陌生的名詞，但它卻是制造大規(guī)模集成電路的核心裝備，每顆芯片誕生之初，都要經(jīng)過(guò)光刻技術(shù)的鍛造。從清華大學(xué)獲悉，國(guó)家科技重大專項(xiàng)“光刻機(jī)雙工件臺(tái)系統(tǒng)樣機(jī)研發(fā)”通過(guò)驗(yàn)收，使我國(guó)成為少數(shù)能研制光刻機(jī)雙工件臺(tái)這一超精密機(jī)械與測(cè)控技術(shù)領(lǐng)域尖端系統(tǒng)的國(guó)家之一。

“簡(jiǎn)單地說(shuō)，光刻機(jī)就是把工程師的設(shè)計(jì)‘印入’基底材料，其核心技術(shù)長(zhǎng)期被荷蘭、日本、德國(guó)等把持”?！扒擞?jì)劃”專家、從事密碼芯片研發(fā)的九州華興集成電路設(shè)計(jì)公司首席科學(xué)家丁丹在接受科技日?qǐng)?bào)記者采訪時(shí)說(shuō)，“我們研發(fā)的芯片投入生產(chǎn)時(shí)，130 nm的芯片開(kāi)模就是120萬(wàn)元人民幣，而28 nm的芯片開(kāi)模費(fèi)用高達(dá)上千萬(wàn)元人民幣”。

據(jù)介紹，為了將設(shè)計(jì)圖形制作到硅片上，并在2～3 cm2的方寸之地集成數(shù)十億晶體管，光刻機(jī)需達(dá)到幾十納米甚至更高的圖像分辨率。而光刻機(jī)兩大核心部件之一的工件臺(tái)，在高速運(yùn)動(dòng)下需達(dá)到2 nm（相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑的三萬(wàn)分之一）的

運(yùn)動(dòng)精度。因此光刻機(jī)雙工件臺(tái)又被稱為“超精密技術(shù)皇冠上的明珠”。

專家組認(rèn)為，歷經(jīng)5年攻關(guān)，研究團(tuán)隊(duì)研制出2套光刻機(jī)雙工件臺(tái)掩模臺(tái)系統(tǒng)樣機(jī)，關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國(guó)際同類光刻機(jī)雙工件臺(tái)水平，并獲得專利授權(quán)122項(xiàng)，為后續(xù)產(chǎn)品研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化打下了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

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（出自：科技日?qǐng)?bào)）