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我國有了光刻機核心技術

對于普通人來說，光刻機或許是一個陌生的名詞，但它卻是制造大規(guī)模集成電路的核心裝備，每顆芯片誕生之初，都要經(jīng)過光刻技術的鍛造。從清華大學獲悉，國家科技重大專項“光刻機雙工件臺系統(tǒng)樣機研發(fā)”通過驗收，使我國成為少數(shù)能研制光刻機雙工件臺這一超精密機械與測控技術領域尖端系統(tǒng)的國家之一。

“簡單地說，光刻機就是把工程師的設計‘印入’基底材料，其核心技術長期被荷蘭、日本、德國等把持”。“千人計劃”專家、從事密碼芯片研發(fā)的九州華興集成電路設計公司首席科學家丁丹在接受科技日報記者采訪時說，“我們研發(fā)的芯片投入生產(chǎn)時，130 nm的芯片開模就是120萬元人民幣，而28 nm的芯片開模費用高達上千萬元人民幣”。

據(jù)介紹，為了將設計圖形制作到硅片上，并在2～3 cm2的方寸之地集成數(shù)十億晶體管，光刻機需達到幾十納米甚至更高的圖像分辨率。而光刻機兩大核心部件之一的工件臺，在高速運動下需達到2 nm（相當于頭發(fā)絲直徑的三萬分之一）的

運動精度。因此光刻機雙工件臺又被稱為“超精密技術皇冠上的明珠”。

專家組認為，歷經(jīng)5年攻關，研究團隊研制出2套光刻機雙工件臺掩模臺系統(tǒng)樣機，關鍵技術指標已達到國際同類光刻機雙工件臺水平，并獲得專利授權122項，為后續(xù)產(chǎn)品研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化打下了堅實基礎。

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（出自：科技日報）