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        濕式除污器在陶瓷行業(yè)煙氣粉塵治理中的應用

        2016-03-07 23:29:56崔宜祥陳學功羅小根
        佛山陶瓷 2015年11期

        崔宜祥++陳學功++羅小根

        摘 要:本文介紹了當前建筑陶瓷工業(yè)煙氣粉塵排放現(xiàn)狀、治理技術(shù)及存在的問題。針對當前建筑陶瓷工業(yè)煙氣粉塵排放及治理現(xiàn)狀,提出了適用于陶瓷工業(yè)煙塵治理的濕式除污器,并介紹了濕式除污器的工作原理、結(jié)構(gòu)組成及技術(shù)優(yōu)點。

        關(guān)鍵詞:建筑陶瓷;粉塵排放現(xiàn)狀;濕式除污器

        1 前言

        建筑陶瓷工業(yè)是一個高污染,高能耗的產(chǎn)業(yè)。目前,全國共有建筑陶瓷生產(chǎn)線2000多條,產(chǎn)量將近達到100億m2[1]?,F(xiàn)有的建筑陶瓷工業(yè)煙氣排放口多而散,無組織排放現(xiàn)象嚴重,治理難度較大,行業(yè)不僅要面臨激烈的競爭,還要面對節(jié)能減排的重任[2]。

        《陶瓷工業(yè)污染物排放標準》(GB25464-2010)大氣污染物排放標準(8.6%O2)[3]對粉塵、SO2及NOx排放要求十分嚴格,我國建筑衛(wèi)生陶瓷企業(yè)能夠達標的企業(yè)不超過2%。由于當時環(huán)保技術(shù)還難以支撐此標準,在2014年建筑陶瓷工業(yè)大氣污染物排放標準(2014年修改單)將基準氧調(diào)整為18%,暫時放寬了排放標準,但這只是一個過渡性的標準,2016年將會出臺新的排放標準,而當新的環(huán)保治理技術(shù)可以支撐更嚴格的排放標準時,新標準必定會更加嚴格。因此,為了應對未來更嚴格的環(huán)保標準,探討并開發(fā)出適用于建筑陶瓷工業(yè)的超低排放治理設(shè)備尤為迫切。

        2 建筑陶瓷工業(yè)煙氣粉塵排放現(xiàn)狀及治理技術(shù)

        2.1 當前排放現(xiàn)狀及治理技術(shù)

        建筑陶瓷工業(yè)煙氣來源于窯爐(一般使用水煤氣作燃料)燒成及噴霧干燥塔前的熱風爐(一般使用水煤漿作燃料)。當前建筑陶瓷工業(yè)煙氣治理技術(shù)落后,設(shè)備陳舊,有些偏遠地區(qū)甚至沒有進行任何的環(huán)保治理,直接將陶瓷生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的煙氣排放到大氣中,這些煙氣中含有大量的粉塵及重金屬等,造成巨大的環(huán)境污染。受工藝的影響,噴霧干燥塔排放的煙氣中的粉塵濃度含量較高,粉塵初始排放濃度實測值為2200~5600 mg/Nm3,具體情況如表1~表2所示。

        2.2 當前煙氣粉塵及重金屬治理存在的問題

        建筑陶瓷工業(yè)環(huán)保技術(shù)水平落后,環(huán)保設(shè)備陳舊,治理效率低,主要表現(xiàn)在以下幾方面:

        (1) 大部分陶瓷廠窯爐系統(tǒng)已配置濕法脫硫裝置,但未配置除塵設(shè)備,造成濕法脫硫出口粉塵濃度超標;

        (2) 濕法脫硫后煙囪出口煙氣中的水霧、霧滴,尤其是脫硫生成物(如:硫酸鈉)含量過多,從而形成藍色或黃色煙羽;

        (3) 煙氣中的重金屬,如:鉛(Pb)、鎘(Cd)、 鎳(Ni),以及氟化物、氯化物等沒有脫除設(shè)施,未得到有效

        脫除。

        3 建筑陶瓷工業(yè)煙氣粉塵超低排放設(shè)備——濕式除污器

        3.1 超低排放治理目標

        為了避免多次環(huán)保治理改造,引領(lǐng)陶瓷工業(yè)節(jié)能減排新導向,濕式除污器可以滿足超低排放治理目標,并且與陶瓷工業(yè)2010年、2014年修改單大氣污染物排放標準進行了對比,如表3所示。

        從表3中可以看出,超低排放目標的基準氧為18%,若折算成8.6%氧基準,對應的粉塵排放值是20.7 mg/Nm3,這個排放目標比陶瓷工業(yè)GB25464-2010的排放標準還要嚴格。因此,超低排放目標可以滿足陶瓷行業(yè)最嚴格的排放標準。

        3.2 濕式除污器設(shè)備介紹

        3.2.1工作原理

        濕式除污器是利用強電場,使固體和液體懸浮粒子與氣體分離的一個氣體凈化系統(tǒng)。在它的電極系統(tǒng)中通上高壓直流電,在極間產(chǎn)生強大的電場,使周圍的氣體發(fā)生電離,產(chǎn)生大量的電子和正負離子。當含塵煙氣及水霧進入電場后,粉塵及微細液滴在這些電子和離子的作用下,將以極快的速度荷電并在電場力的作用下迅速趨向與其極性相反的電極,最后放出電荷并吸附到電極上。由于濕法脫硫工藝產(chǎn)生的水霧,使粉塵凝并、增濕,粉塵和水霧在電場中荷電,一起被收集,水霧在收塵極板上形成水膜,水膜使極板保持清凈。噴霧清洗裝置噴出具有一定壓力的水霧噴至電極表面,加速含塵液滴順著陰陽電極的表面向下流入灰斗,最終排入沉淀池,而凈化的氣體通過出氣口排入大氣。

        濕式除污器的工作基本過程主要分三個階段:

        (1) 進入除污器內(nèi)的粉塵粒子及水霧粒子荷電;

        (2) 荷電塵粒及液滴移動并沉積;

        (3) 噴淋清洗裝置清洗電極表面加速粉塵脫落(即清灰)。濕式除污器的工作原理如圖1所示。

        濕式除污器工作原理與傳統(tǒng)電除塵器相似,依靠的都是靜電力,所不同的是工作環(huán)境為一“濕”一“干”。

        3.2.2濕式除污器結(jié)構(gòu)組成

        濕式除污器由進口封頭、氣流分布裝置、底梁、灰斗、陽極系統(tǒng)、陰極系統(tǒng)、殼體、出口封頭、噴淋清洗系統(tǒng)、高壓電源裝置、灰水處理系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)等部分組成。濕式除污器結(jié)構(gòu)組成如圖2所示。

        3.2.3濕式除污器工藝流程

        干式除污器布置在濕法脫硫的前端,而濕式除污器處理的是脫硫后的濕煙氣,布置在除塵脫硫系統(tǒng)的尾部,是煙氣治理最后的守門者。濕式除污器工藝流程如圖3所示。

        3.2.4濕式除污器優(yōu)點

        (1) 除塵效率高

        采用水噴淋方式清洗電極表面的粉塵,無二次揚塵產(chǎn)生,顯著降低了出口粉塵排放濃度,可保證除塵器的出口粉塵排放濃度≤5 mg/Nm3,達到國家粉塵“近零排放”標準。而在窯爐和噴霧干燥塔后端各增加布袋除塵器,則不能基本解決粉塵排放超標的問題。

        (2) 改造工作量小

        僅在排放口煙囪處進行改造施工,其他整個生產(chǎn)工藝系統(tǒng)不需要做任何改動。

        (3) PM2.5微細粉塵和氣溶膠脫除效率高

        通過濕式除污器的收集,可以收集濕法脫硫工藝后續(xù)煙氣中PM2.5微細粉塵和氣溶膠,去除率>90%,改善排放煙氣透明度,滿足更高的國家空氣質(zhì)量控制要求。

        (4) 解決濕法脫硫帶來的石膏雨、藍煙酸霧環(huán)境問題

        脫硫塔對SO3和水霧的去除率很低,SO3以氣溶膠的形式隨水霧和煙氣排出,導致煙囪風向的下游經(jīng)常出現(xiàn)“酸雨”、“石膏雨”等現(xiàn)象,或是有長長煙尾的“藍煙”現(xiàn)象。通過濕式除污器可以有效解決以上問題,其SO3的去除率>80%、水霧去除率>60%。

        (5) 煙氣中的重金屬脫除效率高

        通過濕式除污器的收集,可收集濕法脫硫后續(xù)煙氣中的鉛(Pb)、鎘(Cd)、 鎳(Ni)、氟化物(F)、氯化物等重金屬,其去除率>60%。

        (6) 徹底解決煙氣中粘性物料的脫除問題

        窯爐煙氣中的含濕量偏大,如果采用布袋除塵器,雖然采用純PTFE耐腐蝕濾料,但粘性粉塵會粘到濾袋表面,造成糊袋現(xiàn)象導致除塵器不能正常工作,而濕式除污則不存在這個問題,粘性物料先進入濕法脫硫吸收塔內(nèi)脫硫、預除塵,再進入濕式除污器內(nèi)最終徹底脫除。

        (7) 除污器運行阻力低

        新增的濕式除污器自身的阻力與原集煙氣的阻力相當,改造時不需要改動前端的各個引風機。而窯爐如采用布袋除塵器,則系統(tǒng)將會增加1800 Pa左右的運行阻力,甚至會更高,最終導致除塵器無法正常運行。

        4 結(jié)語

        濕式除污器可以根本解決陶瓷生產(chǎn)線粉塵排放問題,可以收集超細粉塵,可以協(xié)同處置PM2.5、石膏雨、重金屬等多種污染物,達到煙氣深度凈化的目的,是當前陶瓷生產(chǎn)線煙氣治理最先進、可靠的技術(shù)。

        參考文獻

        [1] 中國情報網(wǎng).2013年中國建筑陶瓷行業(yè)分析及2014年走勢預

        測[Z].2014,3.

        [2] 張娜.我國建筑陶瓷工業(yè)環(huán)境污染與治理[J]. 陶瓷,2006(7):9-11.

        [3] 《陶瓷工業(yè)大氣污染物排放標準》(GB25464-2010)修改單[S].

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