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        電鑄銅的應(yīng)用研究

        2015-11-28 03:06:50靳志強(qiáng)郭帝江
        山西電子技術(shù) 2015年3期
        關(guān)鍵詞:電鑄鍍液鍍層

        常 志,靳志強(qiáng),張 峰,王 玉,郭帝江

        (中國電子科技集團(tuán)公司 第二研究所,山西 太原 030024)

        電鑄是利用電沉積方法在作為陰極的原型進(jìn)行加厚電鍍,從而復(fù)制出與原型一樣的制品方法,是電沉積技術(shù)的重要應(yīng)用技術(shù)之一[1]。電鑄作為一種精密加工技術(shù)具有復(fù)制精度高和工藝簡單等優(yōu)點(diǎn),電鑄銅作為電鑄的一個鑄種,在具有以上優(yōu)點(diǎn)的同時,還具有優(yōu)良的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性及延展性[2],在儀器儀表、塑料、銅版浮雕模、雕塑藝術(shù)創(chuàng)作、精密機(jī)械、模具制造、電子工業(yè)及納米材料制備等方面獲得廣泛應(yīng)用。

        本文通過對電鑄銅工藝及工藝條件影響的初步分析,獲得工藝條件對電鑄銅鍍層影響規(guī)律,為進(jìn)一步優(yōu)化工藝及電鑄槽的設(shè)計奠定了基礎(chǔ)。

        1 電鑄銅工藝

        1.1 電鑄銅的工藝流程

        原型表面預(yù)處理—清洗—電鍍—電鑄—純水噴洗、氮?dú)獯蹈伞撃!?/p>

        在電鑄銅工藝中原型表面預(yù)處理,對于非金屬原型電鑄銅,首先要進(jìn)行表面修整后再進(jìn)行表面金屬化;如果原型為導(dǎo)電材料,造型和表面質(zhì)量符合要求即可。

        1.2 銅電鑄液成分

        本設(shè)備銅電鑄采用的為酸性硫酸銅鍍液,該電鑄液具有鍍液穩(wěn)定及在高電流密度下工作的優(yōu)點(diǎn),通過電鑄添加劑,可獲得高速及整平性好的光亮鍍層,這種鍍層的結(jié)晶細(xì)致,其內(nèi)應(yīng)力及硬度也可得到一定的控制。

        電鑄液主要成分:

        2 銅電鑄工藝條件的影響

        2.1 脈沖參數(shù)

        選用雙脈沖電源,脈沖電鑄可以細(xì)化晶粒、改變鑄層的金屬結(jié)構(gòu)、取向及復(fù)合沉積層的成分和結(jié)構(gòu)[3]。反向脈沖電流改善了鍍層的厚度分布而使鍍層厚度均勻,并因溶解了陰極鍍層上的毛刺而整平,起到拋光效果,有利于得到更加致密光亮的電鑄層。研究表明使用脈沖電源、酸性硫酸銅電鑄液,選擇適當(dāng)?shù)拿}沖參數(shù)可以獲得具有一定厚度均勻致密的超細(xì)晶銅材料[4]。

        在實(shí)際生產(chǎn)中,采用通斷比r=2 ∶3,電流密度JK=10 A/dm2的脈沖參數(shù)就可以滿足生產(chǎn)要求。

        如圖1 所示為在生產(chǎn)中,采用上述參數(shù)得到的鍍層微觀圖。

        圖1 電鑄銅鍍層微觀圖

        2.2 溫度

        溫度對于酸性硫酸銅鍍液是很敏感的,在現(xiàn)代光亮酸性鍍銅工藝中,光亮劑都要求30 ℃以下才能發(fā)揮出最好的光亮效果。本設(shè)備在該溫度情況下,既能保證鍍層的一致性和均勻性,又能滿足生產(chǎn)效率的要求。

        2.3 攪拌、陰極移動

        加強(qiáng)攪拌或陰極移動是酸性光亮鍍銅的必備條件,這是因?yàn)殛帢O移動或攪拌可以有效地降低擴(kuò)散層的厚度,提高擴(kuò)散速度[5];并且可以消除濃差極化,提高極限電流密度的上限,加快沉積速度,這對電鑄銅非常重要。陰極移動與極限電流密度的關(guān)系,如圖2 所示。

        圖2 陰極移動與極限電流密度關(guān)系

        2.4 陽極

        酸性硫酸銅電鑄一般采用專用的含磷陽極,這種磷銅陽極在工作中處于半鈍化狀態(tài),保證陽極以二價銅離子形式溶解,以避免產(chǎn)生大量的銅粉,影響鍍層質(zhì)量。如果采用一般的電解銅板,會產(chǎn)生銅粉進(jìn)而影響鍍層的組織結(jié)構(gòu),會使結(jié)晶粗糙,鍍層疏松。如果磷含量過高,就會完全處于鈍化狀態(tài),會導(dǎo)致鍍液的銅離子因消耗過快而補(bǔ)充不足,鍍液就會失去平衡,使電鑄銅無法正常工作。研究表明磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為:0.030%~0.075%的銅陽極性能最為優(yōu)良[6]。

        2.5 電鑄液中雜質(zhì)的影響

        酸性硫酸鹽電鑄銅對雜質(zhì)的允許濃度比其他的電鑄種類要高一些,這是因?yàn)殂~的電極電位比校正,在強(qiáng)酸溶液中,其他的金屬離子不容易與銅離子共沉積。因此雜質(zhì)影響較小,但是砷、銻及鐵雜質(zhì)會使鍍層變脆、變粗糙,有機(jī)雜質(zhì)過量也會導(dǎo)致鍍層發(fā)脆。

        3 電鑄槽關(guān)鍵部件設(shè)計

        根據(jù)電鑄工藝及工藝條件影響,結(jié)合心模結(jié)構(gòu)。電鑄槽的設(shè)計主要包括:陰極旋轉(zhuǎn)裝置、環(huán)形陽極及循環(huán)過濾系統(tǒng)。圖3 所示。

        圖3 電鑄槽

        3.1 陰極旋轉(zhuǎn)裝置

        該陰極旋轉(zhuǎn)裝置采用了帶傳動,并且該裝置可移動、易拆卸,以利于電鑄完成后,能順利取下工件。電機(jī)的轉(zhuǎn)速可調(diào),滿足生產(chǎn)要求的旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速。

        3.2 環(huán)形陽極

        環(huán)形陽極圍繞心模一周,插入內(nèi)噴杯環(huán)形卡槽內(nèi),外噴杯與內(nèi)噴杯結(jié)構(gòu)相似,以利于更換噴杯,環(huán)形陽極材質(zhì)采用鈦網(wǎng)焊接而成。

        3.3 循環(huán)過濾系統(tǒng)

        循環(huán)過濾系統(tǒng)主要是保持電鑄液的均勻防止沉積,濾除生產(chǎn)中產(chǎn)生的沉淀和雜質(zhì),保證鍍層組織的一致性,從而獲得質(zhì)量良好的鍍層。

        該系統(tǒng)將采液口與排液口集于一個閥門上,減少了可能由于閥門過多而引起的鍍液泄露等現(xiàn)象。在循環(huán)過濾中要盡量避免使用活性炭濾芯,雖然該濾芯具有吸附有機(jī)物和過濾兩個步驟二合一,縮短過濾處理時間,但是由于其制作工藝,濾芯中會含有一定量的鐵等雜質(zhì),該慮芯多次使用,會造成電鑄銅鍍層粗糙疏松[7]。

        4 結(jié)束語

        電鑄技術(shù)具有其他鑄造技術(shù)所不可比擬的特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn),電鑄銅由于成本低,沉淀率高而在諸多領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。

        本文著中介紹了電鑄工藝及電鑄工藝條件對電鑄銅鍍層的影響,并對影響因素進(jìn)行了初步的分析。在此基礎(chǔ)上,對電鑄槽的關(guān)鍵部件設(shè)計進(jìn)行了論述。隨著市場對電鑄銅產(chǎn)品需求量的不斷增大,對其性能要求逐步提高,電鑄銅研究和技術(shù)也將得到不斷地完善和發(fā)展。

        [1]劉仁志.現(xiàn)代電鍍手冊[M].北京:化學(xué)工業(yè)出版社,2010,5:582.

        [2]Zeng Hualiang,Wu Zhongda,Qin Yuewen,et al.Plating Technics Handbook[M].Beijing:China Machine Press,1989:529.

        [3]Lei W N.Pluse Plating Ni Nanocrystalline[J].Trans IMF,2002,80(6):205-209.

        [4]關(guān)麗雅,鄭秀華,王富恥,等.脈沖參數(shù)對電鑄銅組織形態(tài)和硬度的影響[J].電鍍與精飾,2008,30(6):1-5.

        [5]王慶浩.影響電鑄銅速率的因素[J].電鍍與環(huán)保,2008,28(2):13-16.

        [6]程良,鄺少林,周騰芳.再談硫酸鹽光亮鍍銅的磷銅陽極[J].電鍍與涂飾,1999,18(2):20-26.

        [7]奚吳敏.活性炭濾芯造成硫酸鹽電鑄銅鍍層粗糙疏松[G].上海市電子電鍍學(xué)術(shù)年會議論文集,2007:202-203.

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