盛維琛,吳 萍,陳 橋,陳彩鳳,陳 斌
(1.江蘇大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,江蘇鎮(zhèn)江212013;2.江蘇大學(xué)后勤服務(wù)集團(tuán),江蘇鎮(zhèn)江212013)
石墨型氮化碳(graphitic carbon nitride,g-C3N4)因其是最穩(wěn)定的氮化碳同素異形體,成為近年來的研究熱點(diǎn)[1].g-C3N4是二維片層間以弱的范德華力相互作用堆疊而成,二維片層則以C3N4或C6N7環(huán)組成[2].強(qiáng)大的CN網(wǎng)絡(luò)保證g-C3N4在周圍環(huán)境下具有高度的熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性,同時(shí),中等的禁帶寬度,特殊的光學(xué)和光電化學(xué)特性也引起高度重視.目前,國內(nèi)外關(guān)于g-C3N4的研究主要集中在改性光催化性能方面,如負(fù)載金屬或金屬氧化物;與另一種半導(dǎo)體材料形成復(fù)合材料來提高光催化性能[3].而對(duì)g-C3N4的導(dǎo)電性能及電化學(xué)性能的研究較少.聚吡咯(Polypyrrole,PPy)是一種重要的雜環(huán)共軛型導(dǎo)電高分子[4],具有較高導(dǎo)電性、環(huán)境穩(wěn)定性、合成簡(jiǎn)單等優(yōu)良特性.把無機(jī)化合物與聚吡咯進(jìn)行復(fù)合制備新型復(fù)合材料,可以調(diào)節(jié)材料的導(dǎo)電、電化學(xué)及磁學(xué)性能[5-6].這些新型復(fù)合材料在超級(jí)電容器、氣體探測(cè)、染料吸附及生物傳感等方面具有潛在的應(yīng)用價(jià)值.如,PPy/MnO2復(fù)合材料具有較高的比電容,可作為超級(jí)電容器的電極材料[7];Mn/PPy納米線具有很高的比表面積,可作為電化學(xué)傳感界面來檢測(cè)過氧化氫[8];PPy/TiO2復(fù)合材料吸附亞甲基藍(lán)的量是PPy/P25的3.6倍及純PPy的5.5倍[9].因此,新型聚吡咯復(fù)合材料正逐漸成為今后的重要研究方向.目前,關(guān)于聚吡咯/石墨型氮化碳(PPy/g-C3N4)復(fù)合材料導(dǎo)電/電化學(xué)性能研究的報(bào)道很少.本研究利用原位聚合反應(yīng)制備PPy/g-C3N4復(fù)合材料,利用掃描電子顯微鏡(SEM)、透射電子顯微鏡(TEM)、X-射線衍射技術(shù)(XRD)及紅外光譜(FTIR)對(duì)復(fù)合材料的結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征,利用四探針測(cè)試儀和電化學(xué)工作站對(duì)復(fù)合材料的導(dǎo)電性能及電化學(xué)性能進(jìn)行深入研究.
吡咯單體(化學(xué)純,阿拉丁試劑有限公司),二氰二胺(化學(xué)純,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司),過硫酸銨(分析純,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司),氯化鉀(分析純,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司).
將10 g二氰二胺加入到帶蓋的氧化鋁坩堝中,再把氧化鋁坩堝放入馬弗爐中進(jìn)行熱聚合,以7℃·min-1速率升溫到600℃,保持600℃下維持5 h后,冷卻至室溫,收集產(chǎn)物并進(jìn)行研磨.
將一定量的石墨型氮化碳加入裝有25 mL去離子水的三口圓底燒瓶中,磁力攪拌30 min,形成分散液,然后用微量移液器向該分散液加入1 g吡咯并在0℃下攪拌30 min,隨后將10 mL APS溶液(含APS 3.4 g)逐滴加入上述混合液,于0℃下反應(yīng)10 h.所得產(chǎn)物用去離子水反復(fù)清洗,60℃下真空干燥24 h可得到PPy/g-C3N4復(fù)合材料.
FTIR測(cè)試?yán)肁VATAR 360傅里葉變換紅外光譜儀進(jìn)行,樣品制備采用KBr壓片法,掃描范圍是4 000~500 cm-1.形貌測(cè)試采用JSM-7001F型掃描電子顯微鏡(SEM)和JEM-2100(HR)型透射電子顯微鏡(TEM)觀察.TEM測(cè)試樣品按以下方法制備:將待測(cè)樣品分散在乙醇中,進(jìn)行超聲分散,在銅網(wǎng)中滴入1滴分散液,烘干備用.X-射線衍射測(cè)試?yán)肈8ADVANCE型衍射儀.電導(dǎo)率測(cè)試采用RTS-9型四探針測(cè)試儀在室溫下進(jìn)行測(cè)量,樣品粉末利用壓片機(jī)在8 MPa下壓制成圓片(直徑10 mm,厚1 mm).循環(huán)伏安試驗(yàn)在CHI760e電化學(xué)工作站利用三電極體系測(cè)試,Pt電極作為對(duì)電極,Ag/AgCl為參比電極,電解質(zhì)為1 mol·L-1KCl,循環(huán)伏安測(cè)試(CV)測(cè)試電位窗口為 -0.3~0.2 V,掃速為5 mV·s-1.循環(huán)伏安試驗(yàn)工作電極制備:取一定量的PPy/g-C3N4納米復(fù)合材料粉末,在8 MPa下壓制成圓片(直徑10 mm,厚1 mm),圓片電極的一面用導(dǎo)電銀膠與一根銅引腳相連,再用環(huán)氧樹脂包覆此面以將導(dǎo)電銀膠與電解質(zhì)隔絕.
圖1是純聚吡咯、石墨型氮化碳及聚吡咯/石墨型氮化碳復(fù)合材料的SEM圖.由圖1可知,純PPy的形貌呈直徑為100~300 nm的亞微米球狀,由于顆粒間的相互作用力,這些顆粒之間相互堆疊.而g-C3N4具有明顯的層狀結(jié)構(gòu),大小不一,同時(shí)出現(xiàn)堆疊現(xiàn)象.復(fù)合材料PPy和純PPy的形貌都是球狀,PPy顆粒是沉積在g-C3N4表面上,分布在g-C3N4邊緣及微量插層于g-C3N4片層間.
圖1 3種材料的SEM照片
為進(jìn)一步細(xì)致了解復(fù)合材料的形貌特征,本研究對(duì)樣品進(jìn)行了TEM測(cè)試,如圖2所示.純PPy為100~300 nm的亞微米球形狀,顆粒之間由于相互作用產(chǎn)生堆疊,與SEM圖片觀察一樣(圖2a).g-C3N4具有典型層狀結(jié)構(gòu)(圖2b).復(fù)合材料中,PPy(黑色聚集體)沉積在g-C3N4片層表面,分布在g-C3N4的邊緣及微量插層于g-C3N4的片層間(圖2c).
圖2 3種材料的的TEM照片
圖3 為PPy,g-C3N4及PPy/g-C3N4的XRD圖.PPy具有較弱的特征衍射峰,位于2θ=24.2°,這可能是由于聚吡咯分子鏈周期平行排列導(dǎo)致產(chǎn)生[10](圖3a).純石墨型氮化碳具有2個(gè)明顯的特征衍射峰,位于2θ=13.0°的峰主要與層間堆疊有關(guān),位于2θ=27.4°的峰則可能由共軛雙鍵堆疊引起,這2個(gè)特征峰與文獻(xiàn)[11]所述石墨型氮化碳相一致(圖3b).PPy/g-C3N4隨著g-C3N4質(zhì)量分?jǐn)?shù)的遞增,特征衍射峰逐漸明顯,當(dāng)g-C3N4質(zhì)量分?jǐn)?shù)超過30%時(shí),可以清晰地看到石墨型氮化碳2個(gè)明顯的特征衍射峰(圖3c).
圖3 3種材料的XRD圖
圖4為g-C3N4,PPy及PPy/g-C3N4的FTIR光譜.在g-C3N4的圖譜中,位于1 573,1 237 cm-1的特征吸收峰為CN雜環(huán)伸縮振動(dòng)吸收峰,位于890,808 cm-1的特征吸收峰為三嗪?jiǎn)卧暮粑駝?dòng)峰[12].純PPy的FTIR圖譜中,位于1 549,1 457 cm-1的特征吸收峰分別是吡咯環(huán)非對(duì)稱環(huán)伸縮振動(dòng)吸收峰和吡咯環(huán)對(duì)稱環(huán)伸縮振動(dòng)吸收峰,位于1 301,1 045 cm-1的特征吸收峰是雜環(huán)CN伸縮振動(dòng)吸收峰,位于916 cm-1的特征吸收峰是PPy雙極化子狀態(tài)[13].PPy/g-C3N4特征吸收峰與純PPy相似,隨著g-C3N4的引入,來自于PPy的特征吸收峰1 549,1 457和1 045 cm-1藍(lán)移至1 557,1 469 和1 046 cm-1,表明聚吡咯/石墨型氮化碳納米復(fù)合材料已形成.
圖4 3種材料的FTIR圖
圖5是聚吡咯/石墨型氮化碳納米復(fù)合材料電導(dǎo)率曲線.
圖5 聚吡咯/石墨型氮化碳電導(dǎo)率曲線
由圖5可知,純的聚吡咯電導(dǎo)率是1.38 S·cm-1,隨著g-C3N4質(zhì)量分?jǐn)?shù)的增加,復(fù)合材料電導(dǎo)率呈現(xiàn)先增大后減小的趨勢(shì).當(dāng)g-C3N4質(zhì)量分?jǐn)?shù)增加至15%時(shí),復(fù)合材料電導(dǎo)率達(dá)到1.85 S·cm-1,然后隨著g-C3N4質(zhì)量分?jǐn)?shù)的增加,復(fù)合材料電導(dǎo)率逐漸降低.說明隨著g-C3N4質(zhì)量分?jǐn)?shù)提高,g-C3N4分子插入PPy分子鏈間,使PPy分子軌道電子占有情況發(fā)生變化,能級(jí)差減小,自由電子遷移阻力降低,電導(dǎo)率提高.但g-C3N4是不良的電子導(dǎo)體,過多的加入反而會(huì)使電導(dǎo)率降低.由圖5可知,隨著g-C3N4質(zhì)量分?jǐn)?shù)提高,聚吡咯/石墨型氮化碳物理混合的電導(dǎo)率逐級(jí)降低.原因主要是物理摻雜不能有效形成均勻的納米復(fù)合材料,影響自由電子的傳遞,導(dǎo)致電導(dǎo)率降低.足以證明原位化學(xué)氧化聚合反應(yīng)產(chǎn)物中產(chǎn)生了復(fù)合協(xié)同作用,從而對(duì)復(fù)合材料的電導(dǎo)率具有一定影響.
循環(huán)伏安測(cè)試在濃度為1 mol·L-1的KCl電解液中進(jìn)行,電壓掃描范圍為-0.3~0.2 V,掃描速率為5 mV·s-1.純PPy,g-C3N4及其復(fù)合材料循環(huán)伏安CV曲線見圖6.所有復(fù)合材料CV曲線的形狀與純PPy相似.純g-C3N4的CV曲線具有一對(duì)明顯氧化還原峰,氧化波和還原波的峰高近似相等,對(duì)稱性良好,表明其電極表面反應(yīng)具有可逆性.隨著g-C3N4質(zhì)量分?jǐn)?shù)增加,復(fù)合材料CV曲線逐漸出現(xiàn)一對(duì)氧化還原峰,當(dāng)g-C3N4質(zhì)量分?jǐn)?shù)達(dá)到30%和50%時(shí),氧化還原峰更加明顯,曲線面積也大量增加.
為進(jìn)一步了解g-C3N4對(duì)PPy電活性的影響,根據(jù)CV曲線,由c=s/(2mvU)計(jì)算比電容.其中,c為比電容,s為曲線積分面積,m為活性物質(zhì)質(zhì)量,v為掃描速率,U為電壓范圍.圖7為計(jì)算所得復(fù)合材料的比電容.當(dāng) g-C3N4質(zhì)量分?jǐn)?shù)分別為30%,50%時(shí),比電容分別為 126.3,151.3 F·g-1,是純PPy(58.6 F·g-1)的2.2和2.6倍.說明由于g-C3N4的引入,增加了反應(yīng)活性點(diǎn),提高了PPy的比電容.
圖6 3種材料的CV曲線
圖7 聚吡咯/石墨型氮化碳比電容
通過原位聚合反應(yīng)制備出聚吡咯/石墨型氮化碳納米復(fù)合材料.SEM和TEM測(cè)試表明聚吡咯是分散在g-C3N4表層及邊緣,微量插層于g-C3N4片層中.導(dǎo)電性能研究可知,隨著g-C3N4質(zhì)量分?jǐn)?shù)增加,電導(dǎo)率呈先增大后減小的趨勢(shì),當(dāng)g-C3N4質(zhì)量分?jǐn)?shù)達(dá)到15%時(shí),復(fù)合材料電導(dǎo)率最大.同時(shí),通過測(cè)試物理混合的電導(dǎo)率,可得出原位聚合反應(yīng)對(duì)復(fù)合材料電導(dǎo)率具有一定的影響.電化學(xué)性能研究表明復(fù)合材料具有良好的氧化還原可逆性,當(dāng)g-C3N4質(zhì)量分?jǐn)?shù)分別為30%和50%時(shí),比電容分別為純PPy(58.6 F·g-1)的2.2倍和2.6倍.
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