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        鎳在H2SO4溶液中鈍化行為線性電位掃描法描述

        2015-06-12 12:03:28巴曉微楊國(guó)程

        巴曉微, 柳 翱, 李 默, 劉 穎, 楊國(guó)程

        (長(zhǎng)春工業(yè)大學(xué) 化學(xué)與生命科學(xué)學(xué)院,吉林 長(zhǎng)春 130012)

        0 引 言

        金屬及其制品與周圍介質(zhì)接觸發(fā)生化學(xué)及電化學(xué)等作用而使其遭受破壞的現(xiàn)象稱為金屬的腐蝕[1]。金屬發(fā)生腐蝕后顯著影響了它的使用性能,其危害不僅是金屬本身受損失,更嚴(yán)重的是金屬結(jié)構(gòu)遭破壞,所以,研究金屬的腐蝕與防護(hù)以減緩和防止金屬的腐蝕是一項(xiàng)非常有意義的工作[2]。研究金屬腐蝕的方法因腐蝕機(jī)理的不同而不同。目前,金屬的電化學(xué)防腐蝕方法主要有非金屬保護(hù)層法、金屬保護(hù)層法、陰極電保護(hù)法、陽(yáng)極電保護(hù)法、緩蝕劑保護(hù)法等[3]。其中,陽(yáng)極保護(hù)法在化工生產(chǎn)中被廣泛應(yīng)用,它是用陽(yáng)極極化使金屬鈍化,防止金屬腐蝕的方法。測(cè)定陽(yáng)極極化曲線可以獲得金屬在介質(zhì)中溶解腐蝕和鈍化過(guò)程的信息,從而為金屬的防護(hù)提供理論依據(jù)。

        鎳及其合金是廣泛使用的耐腐蝕金屬材料,同時(shí)也是不銹鋼的主要組成成分,金屬鎳具有耐腐蝕性好、機(jī)械強(qiáng)度高等特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于電鍍和制作合金等領(lǐng)域。因此研究鎳的鈍化具有十分重要的理論和實(shí)際意義。

        線性電位掃描技術(shù)(Linear Sweep Voltammetry,LSV)[4]用于研究電極的電位隨時(shí)間線性連續(xù)地變化,同時(shí)記錄隨電位改變而變化的瞬時(shí)電流,得到完整的極化曲線圖。利用這種技術(shù)測(cè)定鎳在硫酸溶液中的鈍化行為,LSV圖可以提供整個(gè)金屬的陽(yáng)極鈍化曲線,分為4個(gè)區(qū)域:金屬的正常溶解區(qū)、過(guò)渡鈍化區(qū)、金屬的鈍化區(qū)以及超(過(guò))鈍化區(qū)。鈍化曲線給出鈍化電勢(shì)E鈍、鈍化電流I鈍,為評(píng)價(jià)鎳在硫酸溶液中的鈍化行為提供了重要的實(shí)驗(yàn)參數(shù)。文中利用CHI852D電化學(xué)工作站,采用線性電位掃描法測(cè)定鎳在硫酸溶液中的鈍化行為,研究氯離子濃度、掃描速率、溶液酸度、溫度以及緩蝕劑等因素對(duì)鎳鈍化的影響。

        1 實(shí)驗(yàn)部分

        1.1 儀器與試劑

        LSV實(shí)驗(yàn)均在CHI852D電化學(xué)工作站(上海辰華儀器公司)進(jìn)行。電化學(xué)測(cè)試采用三電極系統(tǒng),Ni電極為工作電極,Hg/Hg2SO4電極為參比電極,鉑電極為輔助電極。H2SO4(北京化工廠)、丙酮(北京化工廠)及其它試劑均為分析純。

        1.2 實(shí)驗(yàn)方法

        首先打開儀器和計(jì)算機(jī)的電源開關(guān),預(yù)熱10min。在測(cè)試之前,將Ni電極用金相砂紙打磨后,用丙酮洗滌除油,再用超純水沖洗干凈,吹干后放入裝有H2SO4溶液的電解池中。放入鉑電極和硫酸亞汞電極,接好測(cè)量線路。打開CHI電化學(xué)分析儀軟件,設(shè)定參數(shù)后,系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行測(cè)定Ni的陽(yáng)極極化曲線。LSV測(cè)定條件:初始電位設(shè)定為比先前所測(cè)得的開路電位負(fù)0.1V,終止電位1.6V,掃 描 速 率0.01V·s-1,采 樣 間 隔0.001V,初始電位下的極化時(shí)間300s,電流靈敏度0.01A。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 鎳的陽(yáng)極極化曲線圖

        Ni在0.1mol·L-1H2SO4溶液的陽(yáng)極極化曲線如圖1所示。

        圖1 Ni在0.1mol·L-1硫酸溶液中的鈍化曲線

        在曲線的AB段,電流隨電勢(shì)的增加而增大,這是金屬的正常溶解區(qū)域,Ni處于活化狀態(tài),進(jìn)行陽(yáng)極溶解過(guò)程。當(dāng)電勢(shì)增至B點(diǎn)時(shí),Ni表面開始鈍化,由于金屬表面開始形成鈍化膜(氧化膜或氧的吸附層),金屬的溶解速率很快減小,B點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的電勢(shì)稱為鈍化電勢(shì)(E鈍),與此相應(yīng)的電流叫鈍化電流(I鈍)。當(dāng)電勢(shì)到達(dá)C點(diǎn)時(shí),Ni處于穩(wěn)定鈍態(tài),CD段稱為金屬的鈍化區(qū)。只要維持金屬的電勢(shì)在CD之間,金屬就處于穩(wěn)定的鈍化狀態(tài),金屬得到有效防護(hù)。D點(diǎn)以后,隨著電勢(shì)升高電流又繼續(xù)增加,表示陽(yáng)極又發(fā)生新的溶解反應(yīng)。

        2.2 Cl-的濃度對(duì)Ni鈍化的影響

        不同氯離子濃度對(duì)Ni在0.1mol·L-1硫酸溶液中鈍化的影響如圖2所示。

        圖2 不同氯離子濃度對(duì)Ni在0.1mol·L-1硫酸溶液中鈍化的影響

        從圖2可以看出,隨著氯離子濃度增加,I鈍和E鈍都增加,穩(wěn)定鈍化區(qū)間減小。這說(shuō)明氯離子的存在阻礙鎳表面鈍化膜的生成,在一定電位下已形成的鈍化膜將被破壞并出現(xiàn)活性金屬區(qū),這些活性金屬區(qū)的優(yōu)先溶解會(huì)形成部分小孔,即金屬發(fā)生孔蝕。Cl-破壞鈍化膜的途徑有如下幾種:Cl-與H2O和OH-在金屬表面的競(jìng)爭(zhēng)吸附阻礙了鈍化膜的形成;Cl-通過(guò)氧化膜的裂縫或蝕孔進(jìn)入金屬表面;吸附的氯離子與膜中的金屬離子形成氯化物并快速溶解;Cl-吸附在氧化膜表面并使氧化物膠化進(jìn)而溶解[5]。

        2.3 掃描速率對(duì)Ni鈍化的影響

        不同掃描速率下Ni在0.1mol·L-1硫酸溶液中極化曲線如圖3所示。

        圖3 不同掃描速率對(duì)Ni在0.1mol·L-1硫酸溶液中鈍化的影響

        從圖3可以看出,隨著掃描速率的增大,鈍化電流逐漸增大,鈍化電位逐漸正移,穩(wěn)定鈍化區(qū)間逐漸減小。掃描速率是影響測(cè)定陽(yáng)極化曲線的重要因素。掃描速率越慢,極化越接近于靜態(tài),圖線越完整清晰,但速率若太慢,一次實(shí)驗(yàn)時(shí)間太長(zhǎng),所以速率不能太慢。本實(shí)驗(yàn)選擇掃描速率為10mV·s-1。

        2.4 溶液酸度對(duì)Ni鈍化的影響

        Ni在不同濃度硫酸溶液中的極化曲線如圖4所示。

        隨著酸度的增大,鈍化電流逐漸增大,鈍化電位逐漸負(fù)移,穩(wěn)定鈍化區(qū)間逐漸減小。

        2.5 離子強(qiáng)度對(duì)Ni鈍化的影響

        不同電解質(zhì)對(duì)Ni在0.1mol·L-1硫酸溶液中鈍化的影響如圖5所示。

        圖4 Ni在不同濃度硫酸溶液中的鈍化曲線

        圖5 不同電解質(zhì)對(duì)Ni在0.1mol·L-1硫酸溶液中鈍化的影響

        隨著電解質(zhì)溶液離子強(qiáng)度的增大,陽(yáng)極活性溶解電流逐漸增大,這可能是因?yàn)殡x子在鎳電極表面的競(jìng)爭(zhēng)吸附,阻礙了鎳的鈍化膜的形成,從而加速了金屬的溶解??梢娙芤弘x子強(qiáng)度的增大對(duì)金屬鎳的腐蝕有加速作用并可降低其鈍化能力[6]。

        2.6 溫度對(duì)Ni鈍化的影響

        不同溫度下Ni在0.1mol·L-1硫酸溶液中的極化曲線如圖6所示。

        從圖6可以看出,溫度升高,鎳的鈍化電位正移,這意味著金屬鎳在高溫下不易進(jìn)入鈍化狀態(tài)。隨著溫度升高,鎳的穩(wěn)定鈍化區(qū)間迅速減小,其鈍化電位正移,鈍化電流也隨溫度升高而增加,這表明鈍化膜在較高的溫度下具有較差的化學(xué)穩(wěn)定性。此外,溫度升高也使得鈍化膜的擊穿電位向負(fù)的方向移動(dòng),即膜層更易于遭到破壞[7]。

        圖6 不同溫度下Ni在0.1mol·L-1硫酸溶液中的鈍化曲線

        2.7 緩蝕劑對(duì)Ni鈍化的影響

        不同濃度緩蝕劑Tw-80(吐溫-80)對(duì)Ni在0.1mol·L-1硫酸溶液中鈍化的影響如圖7所示。

        圖7 不同濃度緩蝕劑Tw-8 0對(duì)Ni在0.1mol·L-1硫酸溶液中鈍化的影響

        從圖7可以看出,Tw-80的存在導(dǎo)致氧化峰電流大幅度降低,這說(shuō)明Tw-80對(duì)鎳在硫酸溶液中腐蝕具有很好的抑制作用,Tw-80能使鎳發(fā)生鈍化。Tw-80對(duì)鎳的鈍化效果隨Tw-80濃度的升高而增大。Tw-80對(duì)鎳在硫酸溶液中的緩蝕作用主要是由于Tw-80吸附在鎳表面形成吸附膜抑制鎳的腐蝕行為。Tw-80結(jié)構(gòu)中含有的雙鍵可以和鎳形成π-d鍵,雜原子O可與Ni形成配位鍵,從而可以增強(qiáng)分子的吸附能力,因此能在鎳表面形成牢固的膜,阻止腐蝕介質(zhì)與鎳接觸[8]。

        3 結(jié) 語(yǔ)

        線性電位掃描法研究鎳在硫酸溶液中的鈍化行為,具有快速、靈敏、數(shù)據(jù)處理方便等優(yōu)點(diǎn),是發(fā)展和篩選新型耐蝕合金及其金屬鍍層的重要手段??疾炝巳芤核岫取㈦x子強(qiáng)度、氯離子濃度、溫度、掃描速率、緩蝕劑等因素對(duì)鎳鈍化的影響。結(jié)果表明,增大酸度,鈍化電流增大;增大離子強(qiáng)度,鈍化電流增大;氯離子濃度越大,鈍化電流越大,穩(wěn)定鈍化區(qū)越小,說(shuō)明氯離子的存在影響鎳表面鈍化膜的生成,這種影響隨著氯離子濃度的增加而增大;溫度升高,鈍化電流增加,加快腐蝕;掃描速率太慢或太快都不利于測(cè)試。Tw-80有助于鎳的鈍化,隨Tw-80濃度的增大,鎳亦愈容易進(jìn)入鈍化狀態(tài)。

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