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        基于散焦的三維顯微粒子追蹤測(cè)速

        2015-06-01 14:54:40趙攀杰王昊利
        關(guān)鍵詞:方向深度實(shí)驗(yàn)

        趙攀杰,王昊利

        (中國(guó)計(jì)量學(xué)院 計(jì)量測(cè)試工程學(xué)院,浙江 杭州 310018)

        顯微散焦數(shù)字圖像追蹤測(cè)速技術(shù)是在宏觀散焦測(cè)速技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)的.該散焦理論最初是由 Willert等人[1]提出,之后Pereira等人[2]對(duì)散焦光學(xué)理論進(jìn)行了詳細(xì)的解釋,并推導(dǎo)出了相關(guān)的幾何光學(xué)方程式,以此可估算出粒子在三微流場(chǎng)中的位置.Kajitani等人[3-4]對(duì)散焦方程式進(jìn)行了修正,并通過(guò)不確定分析建立了三維幾何不確定度的模型.Wu等人[5]利用示蹤粒子散焦時(shí)產(chǎn)生衍射環(huán)的特殊圖像方式對(duì)三維粒子的運(yùn)動(dòng)進(jìn)行了追蹤,但該方法得到的粒子圖像像散現(xiàn)象嚴(yán)重,誤差比較大.Yoon等人[6]成功地將散焦技術(shù)用到了微尺度流動(dòng)的測(cè)量中,并針對(duì)后臺(tái)階結(jié)構(gòu)通道內(nèi)流體雷諾數(shù)Re=0.025的微流動(dòng)進(jìn)行了測(cè)量,獲得了粒子的運(yùn)動(dòng)軌跡和深度可達(dá)50μm的三維速度場(chǎng).Pereira等人[7]基于此技術(shù)而設(shè)計(jì)了一個(gè)高速三維顯微散焦粒子測(cè)速系統(tǒng),成功地實(shí)現(xiàn)了蒸發(fā)液滴內(nèi)流動(dòng)速度達(dá)到1.5mm/s的2μm熒光粒子的三維追蹤.Lu等人[8]也用此高速顯微粒子測(cè)速系統(tǒng)對(duì)動(dòng)態(tài)生物細(xì)胞運(yùn)動(dòng)進(jìn)行了定量分析.

        由于實(shí)驗(yàn)中所研究的測(cè)試流體是多種多樣的,流體的折射率成為了該系統(tǒng)標(biāo)定的一關(guān)鍵因素.Yoon等人[9]提出了一種新穎的微流體裝置,測(cè)得的折射率與五種流體樣品標(biāo)準(zhǔn)的折射率最大偏差為0.0036(0.24%).Yoon等人[10]通過(guò)實(shí)驗(yàn)的方法推算出了流體折射率和相應(yīng)的標(biāo)定系數(shù)之間的相互關(guān)系,減少了不同測(cè)試流體需重復(fù)標(biāo)定的工作.此外,除了常用的三孔擋板外,為了克服由于粒子多次曝光造成的圖像飽和極限,Tien等人[11]在擋板的每個(gè)孔上放置了一個(gè)可過(guò)濾不同單色光的濾色片.另外,Lin等人[12]提出了一種基于環(huán)形孔擋板的散焦技術(shù),該擋板結(jié)構(gòu)光學(xué)效率高,是一種很有前景的方法.

        本文設(shè)計(jì)加工了散焦粒子圖像測(cè)速技術(shù)的核心元件三孔擋板(three pinhole mask),搭建了高速顯微散焦粒子測(cè)速系統(tǒng),在研究標(biāo)定和粒子識(shí)別方法的基礎(chǔ)上,對(duì)臺(tái)階結(jié)構(gòu)微通道運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行了追蹤測(cè)速.

        1 實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)和微通道

        圖1給出了高速 Micro-DDPIV/DDPTV系統(tǒng)裝置示意圖,從圖中可以看到三孔擋板的安裝位置.該系統(tǒng)是在現(xiàn)有的德國(guó)LaVison公司生產(chǎn)的Micro-PIV/PTV系統(tǒng)裝置的基礎(chǔ)上改造而成.光源采用了波長(zhǎng)為532nm,功率為5W的連續(xù)激光器(型號(hào)為L(zhǎng)IF-532-5).圖像采集裝置使用了日本生產(chǎn)的MEMRECAM HX-6型CMOS高速相機(jī),最大幀頻可達(dá)5000幀/s.根據(jù)實(shí)驗(yàn)裝置的實(shí)際狀況,本文設(shè)計(jì)的擋板為邊緣厚度0.1mm,距擋板邊緣間厚度成線性分布的三孔擋板,小孔直徑為2mm,過(guò)三孔圓心的圓直徑為4mm.使用20×0.4倍的顯微物鏡對(duì)微流場(chǎng)中直徑為2μm的熒光粒子進(jìn)行觀測(cè),所觀測(cè)的微流體視場(chǎng)為205μm×205μm×50μm.實(shí)驗(yàn)中CMOS相機(jī)設(shè)定為1000幀/s的掃描速率記錄序列圖片,圖片的規(guī)格為640×640pixel.

        圖1 高速M(fèi)icro-DDPIV/DDPTV系統(tǒng)裝置示意圖Figure 1 Device diagram of the high speed Micro-DDPIV/DDPTV system

        為了驗(yàn)證實(shí)驗(yàn)結(jié)果的可靠性,設(shè)計(jì)了倒置臺(tái)階結(jié)構(gòu)微通道,如圖2.通道由下端的玻璃板和上端的PDMS材料制作而成(圖2(a)),其長(zhǎng)L和寬w分別為11mm和2mm,進(jìn)口處深度h1為50μm,出口處深度h2為25μm,兩端口水平長(zhǎng)度L1和L2均為5.5mm(圖2(b)).實(shí)驗(yàn)中所配溶液中純水與熒光粒子液的體積比為2000∶1,注射泵(格蘭公司生產(chǎn))的流量為371.6μl/h,微通道進(jìn)口處流體的雷諾數(shù)Re=0.1.其中此方形微管的水力直徑d=2wh1/(w+h1).

        2 散焦測(cè)速原理

        圖3為高速顯微散焦粒子測(cè)速系統(tǒng)的光路原理簡(jiǎn)圖.從圖中可以看到,熒光通過(guò)三孔擋板后在CMOS相機(jī)圖像傳感器上形成散焦圖像.散焦圖像通常為等邊三角形構(gòu)型,其邊長(zhǎng)和方向由熒光粒子的空間位置決定,而在參考平面(Reference plane)上三個(gè)像點(diǎn)聚焦為一點(diǎn).參考平面內(nèi)外等距離處(圖3中z>0和z<0處)粒子的散焦圖像所成的等邊三角形邊長(zhǎng)相等但方向相反,即“等大反向”,從而避免了深度歧義的問(wèn)題.

        圖2 倒置臺(tái)階結(jié)構(gòu)微通道示意圖Figure 2 Schematic diagram of microchannel for the inverted step

        圖3 散焦光路系統(tǒng)原理簡(jiǎn)圖Figure 3 Principle diagram of the defocusing optical system

        以粒子三角模型散焦像外接圓的直徑D和圓心(X,Y)來(lái)分別表示粒子的像徑及其在水平面的位置.由幾何關(guān)系,有:

        式中:a,b和c—三個(gè)像點(diǎn)的間距,p=(a+b+c)/2.(X1,Y1),(X2,Y2)和(X3,Y3)分別為粒子所對(duì)應(yīng)三個(gè)像點(diǎn)的質(zhì)心.

        2.1 標(biāo)定方法

        標(biāo)定方法如圖4,熒光粒子固定于上端載玻片下表面,通過(guò)精確調(diào)整上載玻片的垂向位置,建立垂向坐標(biāo)與熒光粒子散焦圖像幾何構(gòu)型(如三孔距離和方向)之間的關(guān)系,獲得標(biāo)定結(jié)果.由于實(shí)驗(yàn)所用工作流體是多種多樣的,為了減少這種重復(fù)的標(biāo)定工作,Yoon等人[10]通過(guò)實(shí)驗(yàn)的方法推算出了流體折射率和相應(yīng)的標(biāo)定系數(shù)之間的相互關(guān)系.對(duì)于不同的流體,根據(jù)光路分析可以獲得實(shí)驗(yàn)流體和標(biāo)定所用的參考流體之間的標(biāo)定關(guān)系式,見(jiàn)式(4).

        圖4 標(biāo)定原理簡(jiǎn)圖Figure 4 Principle diagram of the calibration

        其中:nfluid和nref—實(shí)驗(yàn)溶液和參考流體的折射率,(?z/?D)fluid和(?z/?D)ref為這兩種溶液對(duì)應(yīng)的標(biāo)定系數(shù).而根據(jù)Yoon等人[10]的實(shí)驗(yàn)結(jié)果可以看出,以在空氣中標(biāo)定得到的深度標(biāo)定系數(shù)為參考,將空氣換成純水后,經(jīng)公式(4)計(jì)算出的深度標(biāo)定系數(shù),與在純水中標(biāo)定得到的深度標(biāo)定系數(shù)相比,其誤差只有0.013(1.38%).因此,本實(shí)驗(yàn)采用空氣作為工作介質(zhì)進(jìn)行標(biāo)定.

        基于上述標(biāo)定原理,本文采用了一類簡(jiǎn)便易行的方法:將低濃度的熒光粒子溶液沉積在載玻片表面,蒸發(fā)后在載玻片上形成固定的熒光粒子,將其作為標(biāo)定粒子;利用系統(tǒng)自帶的高精度三維坐標(biāo)架對(duì)z方向進(jìn)行精確定位(最小分辨率可達(dá)0.1μm),沿深度方向每間隔2μm采集一次粒子散焦圖像;建立散焦圖像構(gòu)型特征與深度位置的標(biāo)定關(guān)系式,利用公式(4)完成工作介質(zhì)空氣與水溶液兩者相應(yīng)標(biāo)定系數(shù)的轉(zhuǎn)換,從而實(shí)現(xiàn)粒子深度方向位置的標(biāo)定.

        2.2 粒子識(shí)別

        粒子圖像識(shí)別采用了Yoon等人[6]提出的相似度理論,其公式見(jiàn)式(5),幾何關(guān)系如圖5所示.其中,向量(r1,r2,r3)和(c1,c2,c3)分別表示參考模式(以標(biāo)定中顆粒對(duì)應(yīng)的散焦像作參考)和正在識(shí)別中的三角形模式.根據(jù)圖5,建立判別準(zhǔn)則進(jìn)行粒子識(shí)別.當(dāng)S≥0.99時(shí),則認(rèn)為識(shí)別中的三個(gè)像斑為粒子對(duì)應(yīng)的三角模式.

        圖5 參考的三角形(圖中虛線)與識(shí)別中的三角形Figure 5 Reference triangle(the dotted line)and the triangle in recognition

        3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果及分析

        3.1 粒子散焦圖像

        圖6給出了距參考平面一定間距處的散焦粒子圖像.其中,第一排為近場(chǎng)(參考平面以內(nèi),z>0)中提取的不同深度處的標(biāo)定圖像,第二排為遠(yuǎn)場(chǎng)(參考平面以外,z<0)的結(jié)果.從圖中可以看出,在遠(yuǎn)離參考平面的過(guò)程中,粒子散焦圖像的大小呈現(xiàn)正比例增大的趨勢(shì).在z>0和z<0方向上距參考平面相同距離的深度處粒子散焦成像基本呈等大反向規(guī)律.鑒于粒子距參考平面較遠(yuǎn)時(shí)所成散焦像點(diǎn)易變得模糊,在深度較大的流場(chǎng)中,可同時(shí)取近場(chǎng)和遠(yuǎn)場(chǎng)的散焦圖像,并通過(guò)這種不同深度處“等大反向”的成像方式來(lái)對(duì)測(cè)量區(qū)域進(jìn)行歸類.

        3.2 粒子追蹤結(jié)果

        圖6 距參考平面一定間距處的散焦粒子圖像Figure 6 The defocused particle images with a certain distance from the reference plane

        從散焦光路的幾何分析中可知,同一深度處不同水平位置的粒子所成的散焦像的大小應(yīng)是相等的.這里本文取同一深度處11個(gè)粒子像徑的均值作為該深度處所對(duì)應(yīng)的粒子像徑.從圖7(a)中可以看出,粒子像徑與其對(duì)應(yīng)的深度呈較好的線性關(guān)系.然而,根據(jù)Pereira等[2]的研究結(jié)果,在大深度方向上粒子像徑隨深度的變化呈現(xiàn)非線性特征.本文研究結(jié)果也表明,在離參考平面較近的區(qū)域粒子像徑隨深度表現(xiàn)出弱非線性特征.如圖7(b),粒子像徑與深度增量之比ΔD/Δz隨深度在參考線(圖中水平虛線,-1.665)上下浮動(dòng),其均方根誤差(RMS)為0.1162.

        圖7 粒子平均像徑及ΔD/Δz隨粒子深度的變化Figure 7 Changes in average diameter of the particle andΔD/Δz with z positions of the particle

        固定粒子散焦圖像及其上下左右四端粒子像徑隨粒子深度的變化如圖8.其中,圖8(a)給出了上下左右四個(gè)位置的粒子圖像,圖8(b)繪制出這四個(gè)位置粒子像徑隨深度的變化的趨勢(shì)分布.從圖8中可以看出,不同深度下,四個(gè)位置像徑非常接近,說(shuō)明同一深度處粒子像徑的大小基本不受其水平位置的影響.

        圖8 固定粒子散焦圖像及上下左右四端粒子像徑隨粒子深度的變化Figure 8 Focus image of the fixed particles and changes of diameter D according to z positions of the particles at left edge,upper edge,lower edge and right edge.

        根據(jù)深度方向的標(biāo)定方法,在參考平面附近的粒子深度z與其像徑D之間的關(guān)系可寫(xiě)為如下線性方程:

        式(6)中:標(biāo)定系數(shù)a=(?z/?D)ref,b—一常量.

        通過(guò)關(guān)系式(4)可以求得在工作流體熒光粒子溶液中進(jìn)行標(biāo)定時(shí)粒子深度與其像徑的關(guān)系式如下:

        實(shí)驗(yàn)中發(fā)現(xiàn):同一粒子不同深度處和同一深度粒子不同水平位置處,粒子的相對(duì)位移Δx和Δy均是不同的.由于深度方向上能對(duì)粒子的相對(duì)位移進(jìn)行定量分析,粒子相對(duì)位移隨深度變化呈現(xiàn)出明顯的非線性趨勢(shì).鑒于固定粒子在玻璃板上是隨機(jī)分布的,在水平方向上這種定量分析有一定難度,但很顯然,粒子的相對(duì)位移與粒子的水平位置有關(guān),而實(shí)驗(yàn)測(cè)量中須盡可能消除這種相對(duì)位移(即粒子位置漂移).為了消除位置漂移,本文采用了多項(xiàng)式補(bǔ)償函數(shù)方法[6]:

        其中:X和Y—粒子在像平面中的坐標(biāo)位置,z—其實(shí)際深度,x和y—其在水平方向上的實(shí)際位置.本文利用最小二乘法對(duì)不同深度不同水平位置處與粒子三維空間坐標(biāo)有關(guān)的154組數(shù)據(jù)進(jìn)行了二元二次多項(xiàng)式的擬合,得到了粒子位置x和y的補(bǔ)償函數(shù).

        圖9給出了樣品粒子位置x和y補(bǔ)償前后的情況,這里把粒子在深度方向z=0處的水平位置(x,y)定義為粒子的參考位置.從圖9(a)和(b)中可以看出,經(jīng)x/y補(bǔ)償函數(shù)修正后粒子的水平位置得到了明顯改善,其大小隨深度在參考線(圖9中過(guò)參考點(diǎn)的水平虛線)上下輕微浮動(dòng).

        圖10給出了粒子測(cè)量位置x/y/z的誤差分析結(jié)果.其中,Re為均方根誤差RMSE(Root Mean Square Error).經(jīng)深度標(biāo)定函數(shù)測(cè)得的同一深度處所有粒子的位置與其標(biāo)定深度的均方根誤差Re隨標(biāo)定深度在參考線Rz=0.4739μm附近變化.而經(jīng)x/y補(bǔ)償函數(shù)修正后的同一深度處的所有粒子的位置與其各自的水平參考點(diǎn)的均方根誤差Re隨標(biāo)定深度分別在參考線Rx=0.177μm和Ry=0.2155μm上下輕微變化.由于粒子像徑隨標(biāo)定深度的輕微非線性變化和其三維方向分辨率的不同等因素,粒子深度方向的測(cè)量誤差是其水平方向測(cè)量誤差的2~3倍.與Pereira[2]及 Yoon[6]等對(duì)粒子在深度與水平方向測(cè)量誤差的比對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果一致.

        圖9 樣品粒子修正前后位移x/y的比較Figure 9 Comparisons of the sample between the non-compensated and the compensated x/ypositions

        圖10 粒子測(cè)量位置x/y/z誤差分析Figure 10 Error analysis of particle's x/y/z positions measurement

        3.3 倒置臺(tái)階繞流測(cè)量結(jié)果與分析

        采用高速CMOS相機(jī),以1000幀/s的掃描速率對(duì)倒置臺(tái)階結(jié)構(gòu)微通道中粒子軌跡和流場(chǎng)進(jìn)行了測(cè)量.對(duì)高速相機(jī)采集的圖像序列經(jīng)過(guò)維納濾波去噪,獲得高質(zhì)量的散焦粒子圖像;將同參考模式的相似度值大于0.99的三角形作為粒子對(duì)應(yīng)的模式(圖5)進(jìn)行粒子識(shí)別;利用像點(diǎn)追蹤軟件Vide Spot Tracker v07.02對(duì)其相應(yīng)的三個(gè)像點(diǎn)進(jìn)行單獨(dú)追蹤(針對(duì)低體積密度溶液中粒子的追蹤),計(jì)算三個(gè)像點(diǎn)構(gòu)成的等邊三角形質(zhì)心,獲得追蹤粒子的質(zhì)心;利用深度標(biāo)定函數(shù)和x/y補(bǔ)償函數(shù)對(duì)粒子的實(shí)際深度和水平位置進(jìn)行計(jì)算和修正,獲得了臺(tái)階繞流流場(chǎng)中熒光粒子的瞬時(shí)位置,最終實(shí)現(xiàn)粒子運(yùn)動(dòng)軌跡的追蹤和速度矢量的測(cè)量.

        圖11 倒置臺(tái)階微通道內(nèi)粒子追蹤軌跡及平均速度矢量場(chǎng)Figure 11 Particle trajectory and the average velocity vector field in a micro channel with inverted step

        圖11給出了流向尺度約為180μm范圍內(nèi)的粒子軌跡及流線和三維速度分布.其中圖11(a)給出了流向和深度方向不同位置粒子運(yùn)動(dòng)的軌跡圖.由于流動(dòng)為定常,粒子運(yùn)動(dòng)的跡線也即為流場(chǎng)的流線.為了驗(yàn)證實(shí)測(cè)結(jié)果的有效性,圖11(b)給出了采用流體動(dòng)力學(xué)軟件Fluent進(jìn)行數(shù)值仿真結(jié)果,可以看到實(shí)測(cè)和仿真所獲流型是一致的.對(duì)粒子軌跡坐標(biāo)進(jìn)行求導(dǎo)后可獲得二維速度分布,在此基礎(chǔ)上進(jìn)行展向拉伸得到三維速度場(chǎng)分布(為了清楚起見(jiàn),主要給出流場(chǎng)繞臺(tái)階拐點(diǎn)位置的三維分布),見(jiàn)圖11(c).該測(cè)量結(jié)果表明,粒子分層的運(yùn)動(dòng)軌跡符合后臺(tái)階繞流流場(chǎng)的基本特征,表明利用散焦粒子追蹤測(cè)速技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)三維流場(chǎng)的測(cè)量.

        4 結(jié) 語(yǔ)

        本文在通過(guò)對(duì)顯微散焦粒子三孔擋板進(jìn)行設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)上,搭建了高速顯微散焦粒子測(cè)速系統(tǒng).研究了散焦粒子圖像與粒子三維空間之間的標(biāo)定函數(shù)關(guān)系,編寫(xiě)了標(biāo)定和粒子識(shí)別算法.針對(duì)倒置臺(tái)階結(jié)構(gòu)微通道流動(dòng)的粒子進(jìn)行了三維追蹤測(cè)速,獲得了粒子的運(yùn)動(dòng)軌跡和微通道流動(dòng)的速度矢量,實(shí)驗(yàn)結(jié)果驗(yàn)證了散焦測(cè)速系統(tǒng)的可行性和追蹤測(cè)速算法的有效性.

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