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        光學(xué)表面非均勻中頻誤差的評價與修正

        2015-05-29 09:19:44張昊宇趙世杰李瑞潔李海波陳賢華
        應(yīng)用光學(xué) 2015年2期
        關(guān)鍵詞:光學(xué)合格次數(shù)

        張昊宇,鐘 波,趙世杰,李瑞潔,李海波,陳賢華

        (成都精密光學(xué)工程研究中心,四川 成都610041)

        引言

        中頻誤差指空間頻率在0.030 3mm-1~8.3mm-1頻段內(nèi)的波前誤差,表現(xiàn)為波紋誤差,在光學(xué)元件使用過程中,中頻誤差在經(jīng)過長的傳輸距離后,轉(zhuǎn)化為較大的強度調(diào)制,惡化系統(tǒng)輸出的光束質(zhì)量。以國家點火裝置(NIF)為例,中頻誤差將影響焦斑拖尾、近場調(diào)制與散射性能[1]。因此,抑制光學(xué)表面的中頻誤差是光學(xué)元件加工的重要內(nèi)容之一。美國利弗莫爾實驗室(LLNL)在研制NIF的過程中提出了以功率譜密度(PSD)特征曲線評價中頻誤差[2-4],其主要的思路是通過計算得出光學(xué)元件表面中頻誤差的PSD曲線,然后將其與PSD特征曲線相比較,當(dāng)光學(xué)元件表面誤差的PSD曲線在特征曲線之上則為不合格。作為中頻誤差評價指標(biāo),PSD能夠準(zhǔn)確測定出不合格的頻段,但卻無法定位不合格頻段在元件表面的區(qū)域,從而不能進行確定性加工。針對此,國防科技大學(xué)的戴一帆、楊智等人提出使用二維小波變換確定不合格頻段所對應(yīng)的區(qū)域,從而指導(dǎo)確定性加工[5-8]。上述方法適用于中頻誤差均勻的光學(xué)表面,而處理誤差空間尺度有所波動的光學(xué)表面則較為困難。為解決其在非均勻中頻誤差表面的問題,本文提出一種新型的中頻誤差突出頻率提取方法,相比于傳統(tǒng)的提取方法,此方法改變了樣本的采樣方式,充分考慮樣本方向性與局部性對數(shù)據(jù)處理結(jié)果的影響,并采用了基于統(tǒng)計學(xué)的樣本數(shù)據(jù)處理,由傳統(tǒng)的單根PSD曲線對比變?yōu)镻SD曲線中不合格頻率出現(xiàn)次數(shù)統(tǒng)計處理,新方法的優(yōu)勢在于可以更為全面地反映光學(xué)表面的中頻信息。得到突出誤差頻率后,使用二維小波變換對其進行區(qū)域檢測,并指導(dǎo)確定性加工。

        1 光學(xué)加工中的小波變換

        為確定性修正光學(xué)表面中頻誤差,需要從采樣信號中提取空間信息,小波變換是空間和頻率的局部變換,其本質(zhì)是將一個函數(shù)分解成各頻率分量的小波基,由于小波基只在非常短的一段區(qū)間有非零值,且可以按比例伸展和壓縮以獲取低頻和高頻信號,因此可以得到不同頻率的具體空間信息,函數(shù)f(t)的小波變換如下:

        式中:ψ(t)為小波基;a,b分別為伸縮因子和平移因子;*表示取共軛。

        考慮到光學(xué)表面是二維平面,因此需要使用二維連續(xù)小波變換(CWT2D)作為分析工具,一般通過下式表示:

        WTf(a,θ,b) =當(dāng)選取各向同性的基本小波分析時,θ=0,rθ=而在本文中,所選取的小波基為各項同性的Mexican2d小波,因此公式可化簡為[9-11]

        2 中頻誤差非均勻性分析

        2.1 PSD指標(biāo)的計算

        中頻誤差PSD曲線的計算是一種基于傅里葉變換的處理方法,通常所選用的傅里葉變換方法為一維離散傅里葉變換,公式如下:

        而PSD特征曲線的計算公式如下:

        PSD=L·f-b(0.030 3mm-1≤f≤8.3mm-1)式中:n是序列中的采樣點數(shù);L,b均為經(jīng)驗取值,在本文中,L=0.000 5,b=2。

        在分別計算得到中頻誤差PSD曲線與PSD特征曲線后,使用雙對數(shù)曲線函數(shù)描述兩者,通過對比,即可得到中頻誤差不合格的頻率點。

        2.2 中頻誤差的方向性與局部性

        評價光學(xué)表面中頻誤差前,需要先選取樣本,由于光學(xué)表面的面形分布不均勻,不同區(qū)域不同方向的樣本存在較大的差異,如圖1所示。

        圖1 光學(xué)表面的采樣線選取Fig.1 Sample line on optic surface

        圖中x,y為不同方向的采樣線,x,z為相同方向不同區(qū)域的采樣線,分別畫出其PSD誤差曲線并與PSD特征曲線對比,如圖2所示。

        可以看出,由于光學(xué)表面的非均勻性,采樣線x中的中頻誤差成分更為豐富,因此中頻誤差不合格的頻率較多;而采樣線y的方向與面形波紋方向近乎垂直,誤差的頻帶不在中頻范圍內(nèi),因此中頻誤差不合格的頻率較少。雖然采樣線x與z的采樣方向相同,但采樣區(qū)域的不同也會造成計算結(jié)果不同。比如采樣線a在0.044mm-1空間頻率下處于合格狀態(tài),而采樣線z處于不合格狀態(tài)。通過以上分析可以得出,PSD誤差曲線的計算與采樣線的區(qū)域和方向均有很大的相關(guān)性,因此在實際檢測和加工過程中,需要對其進行特定處理,以便得到準(zhǔn)確的誤差頻率。

        圖2 不同方向不同區(qū)域采樣線的PSD誤差對比Fig.2 PSD errors of sample lines in different directions or areas

        3 非均勻中頻誤差突出頻率提取

        在傳統(tǒng)的功率譜密度特征曲線評價中,不合格頻率的提取方法:在同一方向上選取數(shù)條采樣線,分別對其進行傅里葉變換,得到PSD誤差。再對數(shù)條采樣線的PSD誤差進行平均處理,得到光學(xué)表面的PSD誤差曲線,PSD誤差曲線在PSD特征曲線上方時,即為不合格,通過此方法可以提取出不合格頻率。但正如前文中所提到的,在非均勻的光學(xué)表面中,中頻誤差有著較強的方向性與局部性,若按照傳統(tǒng)方法提取,不合格頻率往往會被掩蓋。因此,本文采取如下方法提取中頻誤差:

        1)首先選取某一方向作為參考方向,再選擇與參考方向一致的多條采樣線,對每一條采樣線均進行傅里葉變換并得到PSD誤差曲線。

        2)將得到的PSD誤差曲線與PSD特征曲線進行對比,統(tǒng)計出所有不合格頻率并記錄。對每一條PSD誤差曲線均作此處理,并將不合格頻率出現(xiàn)的次數(shù)疊加。

        3)根據(jù)統(tǒng)計結(jié)果得到出現(xiàn)次數(shù)較多的數(shù)個不合格頻率。

        4)選取其他方向的采樣線,重復(fù)上述過程,通過各個方向的不合格頻率即可提取光學(xué)表面中頻誤差。

        以上采樣方法可以覆蓋不同方向不同區(qū)域的中頻誤差信息,相比于傳統(tǒng)的提取方法,此方法更加完備,能更有針對性地加工數(shù)個突出誤差頻率所對應(yīng)的區(qū)域。

        4 實驗驗證

        為驗證前文提出方法的可行性,在口徑為410mm的透鏡表面進行加工實驗。采樣線的選取方向如圖3所示。首先選取A方向作為參考方向,按照上述方法得到出現(xiàn)次數(shù)最多的3個不合格頻率,然后再選取B方向、C方向和D方向的采樣線,重復(fù)上述過程。

        圖3 實驗中采樣線的選取Fig.3 Sample line in experiment

        統(tǒng)計結(jié)果如表1所示,可以看出,每個方向都有其特定的突出不合格頻率,且各方向的不合格頻率的出現(xiàn)次數(shù)也有較大差距,此結(jié)論也驗證了光學(xué)表面中頻誤差的非均勻性。

        針對表中不合格頻率,通過多次二維小波變換得到不合格頻率所對應(yīng)的區(qū)域,此方法在文獻[7]中已有介紹。通過確定性加工修正這些區(qū)域,確定性加工的主要參數(shù)如下:拋光盤材料為73#瀝青,直徑50mm,偏心距為5mm,公轉(zhuǎn)速度為180r/min,自轉(zhuǎn)速度為50r/min。由于有多個不合格頻率,因此對應(yīng)多個不合格區(qū)域,在每個區(qū)域的加工時間與該頻率的不合格次數(shù)相關(guān),不合格次數(shù)越多,加工該誤差頻率區(qū)域的時間越長,本次加工的總時間約為40min。

        表1 不同采樣線的突出誤差頻率與不合格次數(shù)Table 1 Marked error frequency and unqualified number in different sample lines

        經(jīng)過確定性修正后,仍按照同樣的方法選取采樣線,考察加工前各個方向采樣線突出的不合格頻率,并給出不合格頻率次數(shù)的對比圖4。

        可以看出所有突出誤差頻率對應(yīng)的不合格次數(shù)均有所減少,以A方向為例,加工后,空間頻率0.044 1mm-1,0.085 8mm-1,0.041 7mm-1所出現(xiàn)的不合格次數(shù)分別降至加工前的23.9%,18.3%,29.2%。說明經(jīng)過確定性修正,特定頻率的中頻誤差得到很好地抑制。而D方向的不合格頻率出現(xiàn)次數(shù)減少的幅度較小,推測原因如下:D方向的初始不合格頻率次數(shù)較小,已接近確定性加工的極限精度,因此加工效果并不明顯。

        圖5給出加工前后空間頻率為0.044 1mm-1的區(qū)域,可以看出,加工前此頻率對應(yīng)的區(qū)域有較強的方向性,拋光過程中的走刀痕跡較為明顯,加工后的誤差區(qū)域分布較為均勻,且總體的幅值也有所降低。

        為定量分析光學(xué)表面的整體中頻誤差是否被抑制,統(tǒng)計所有不合格頻率出現(xiàn)的總次數(shù),并得到圖6。

        圖4 加工前后不合格頻率出現(xiàn)次數(shù)對比圖(按順序依次為ABCD方向)Fig.4 Unqualified frequency in different sample directions before and after processing(order is ABCD)

        圖5 0.044 1mm-1空間頻率所對應(yīng)區(qū)域(左圖加工前,右圖加工后)Fig.5 Area corresponding to 0.044 1 mm-1 spatial frequency(left:before processing,right:after processing)

        圖6 加工前后不合格頻率出現(xiàn)的總次數(shù)Fig.6 Number of unqualified frequency before and after processing

        可以看出,加工后總不合格頻率出現(xiàn)的次數(shù)降至加工前的50.1%。經(jīng)過確定性加工,中頻誤差在某些采樣方向上得到較好地抑制,而在某些方向的抑制效果較差,總體來說光學(xué)表面的整體中頻誤差情況有所改善。造成特定頻率的中頻誤差大幅度改善,而整體表面的中頻誤差改善效果隨著采樣方向變化而變化的原因是:目前所采用的確定性去除針對中頻誤差較為突出的頻率,因此特定頻率的中頻誤差大幅度改善;同時,在去除過程中,由于加工工具的口徑及精度限制,并不能非常精確地進行特定區(qū)域修正,因此會對整體中頻誤差的改善造成不可控的影響。

        5 結(jié)束語

        使用本文中的誤差頻率提取方法,能夠準(zhǔn)確得到非均勻光學(xué)表面不合格中頻誤差頻率。在此基礎(chǔ)上,通過確定性修正加工,不合格頻率對應(yīng)區(qū)域的中頻誤差得到大幅度抑制,在某特定方向,空間頻率0.044 1mm-1,0.085 8mm-1,0.041 7mm-1所出現(xiàn)的不合格次數(shù)分別降至加工前的23.9%,18.3%,29.2%。同時,整個光學(xué)表面的中頻誤差也得到較好地控制,加工后總不合格頻率出現(xiàn)的次數(shù)降至加工前的50.1%。實驗證明,本文提出的中頻誤差提取方法降低了由光學(xué)表面空間頻率方向性與局部性引起的不確定性,能夠有效地應(yīng)用于非均勻中頻誤差評價與修正。

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