前期的技術(shù)研發(fā)投入必然是非常久的過程，企業(yè)的戰(zhàn)略定力如何格外關(guān)鍵

近日，上海市國資委印發(fā)《關(guān)于鼓勵和支持本市國有企業(yè)科技創(chuàng)新的若干措施》。文件一方面將創(chuàng)新指標納入國企考核體系，一方面解除束縛，在多項政策方面均有突破。

《若干措施》明確，要牢牢把握世界科技進步大方向，把握全球產(chǎn)業(yè)變革大趨勢和人才成長規(guī)律，找準定位、明確舉措、系統(tǒng)謀劃，充分尊重企業(yè)家創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)精神，充分激發(fā)科技人員創(chuàng)新活力，充分發(fā)揮國有企業(yè)科技創(chuàng)新主體作用，鼓勵和支持本市國有企業(yè)科技創(chuàng)新。

對此，本期封面文章選取了上海微電子作為報道主角，這家企業(yè)規(guī)模不大，但詮釋了科技創(chuàng)新的巨大能量，作為一家技術(shù)全球領(lǐng)先的科技企業(yè)，營收在最近5年每年均翻倍增長，市場前途絕不容小覷。

作為一家從一開始就瞄準世界科技制高點的國有高科技企業(yè)，這家企業(yè)的成長，給了我們觀察一家科技創(chuàng)新企業(yè)的絕佳案例。

上微初成立時，國內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)為零，且投入巨大，成敗前景并不樂觀。但企業(yè)并不急于求成，而是選擇潛心研發(fā)。其于2002年成立，到2008年，自主研發(fā)成功中國第一臺IC前道投影掃描光刻機樣機，時間已經(jīng)過去6年。

一旦成功，光刻機產(chǎn)業(yè)發(fā)展的機遇已悄然到來。一方面，發(fā)展集成電路已成為國家戰(zhàn)略，給芯片上游裝備業(yè)帶來廣闊前景，另一方面，中國已發(fā)展成最大的芯片消費市場。形成了自己研發(fā)能力和創(chuàng)新力的上微迎來了跨越式發(fā)展。

據(jù)了解，并不出奇的是，上海微電子走的也是一條集成創(chuàng)新之路，即“學習、理解、消化、創(chuàng)新”，比如光刻機上的物鏡，上微是從模塊分析開始，完成后研究其構(gòu)造零件，零件研究后，再研究硬件直至圖紙。

但對于其他企業(yè)科技創(chuàng)新有極強借鑒意義的是，上微并不在高科技生態(tài)鏈上的某一個地方做局部創(chuàng)新，“這種局部創(chuàng)新，其地位不會很高，受技術(shù)局限很明顯，如果從產(chǎn)業(yè)鏈低端進行創(chuàng)新，那我們永遠只能做創(chuàng)新的附屬品。”

上微做的是基于生態(tài)鏈的系統(tǒng)創(chuàng)新，選擇的是一條難度更高的創(chuàng)新之路。這意味著，在光刻機的技術(shù)鏈上，上微公司把自身定位于頂層系統(tǒng)設(shè)計者。零部件由合作企業(yè)提供，但系統(tǒng)設(shè)計和核心技術(shù)將掌握在自己手里，且其一開始就極其注重世界前沿技術(shù)的跟蹤研究和知識產(chǎn)權(quán)的保護。

這是一條現(xiàn)實路徑。專家認為，當前，全球技術(shù)變化速度日趨加快，設(shè)備、元器件和技術(shù)信息在國際間高度流動，這種高度國際化的經(jīng)濟環(huán)境，為中國企業(yè)利用集成創(chuàng)新整合全球資源，實現(xiàn)自主創(chuàng)新的跨越式發(fā)展，提供了良好條件。

值得注意的是，對于高科技領(lǐng)域來說，前期的技術(shù)研發(fā)投入必然是非常久的過程，這一過程漫長但極其重要，如同大廈建造的地基，因此在這一領(lǐng)域，企業(yè)的戰(zhàn)略定力如何格外關(guān)鍵。