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        含磷石墨層間化合物的制備及其膨化性能研究

        2015-03-15 07:25:02周明善
        新型炭材料 2015年5期
        關(guān)鍵詞:插層層間容積

        周明善, 黃 遙, 陶 勇

        (1.云南開放大學(xué)化工學(xué)院,云南昆明 650023;2.南京理工大學(xué)化工學(xué)院,江蘇南京 210094)

        含磷石墨層間化合物的制備及其膨化性能研究

        周明善1, 黃 遙1, 陶 勇2

        (1.云南開放大學(xué)化工學(xué)院,云南昆明 650023;2.南京理工大學(xué)化工學(xué)院,江蘇南京 210094)

        以天然鱗片石墨、HClO4、H3PO4、CrO3為原料,按質(zhì)量比1∶1∶2∶0.3,利用化學(xué)氧化法制備出低溫易膨脹、高膨脹容積的石墨層間化合物,300℃時膨脹容積為350mL·g-1,800℃時達(dá)到最大膨脹容積610mL·g-1,明顯優(yōu)于傳統(tǒng)硫酸插層的石墨層間化合物。采用SEM、EDS、XPS、FT-IR、XRD、TG等技術(shù)對石墨層間化合物的組成、結(jié)構(gòu)、性能進(jìn)行表征和分析,結(jié)果表明:石墨層間的插入物為;并對化學(xué)氧化法插層機(jī)理進(jìn)行了探討。

        石墨層間化合物;化學(xué)氧化;膨脹石墨;膨脹容積

        1 前言

        石墨層間化合物是一種利用物理或化學(xué)的方法使無機(jī)、有機(jī)或復(fù)合物插入石墨層間,與炭素的六角網(wǎng)絡(luò)平面結(jié)合的同時又保持了石墨層狀結(jié)構(gòu)的晶體化合物[1,2]。石墨層間插入的物質(zhì)種類不同,所形成的石墨層間化合物的性能及應(yīng)用領(lǐng)域也有所不同[3,4]。膨脹石墨是石墨層間化合物的高溫膨化產(chǎn)物,由于其獨(dú)特的網(wǎng)絡(luò)狀微孔結(jié)構(gòu)[5,6],漂浮性好,以及高導(dǎo)電、導(dǎo)磁性,近年來被廣泛地應(yīng)用,作為寬波段發(fā)煙干擾材料[7]。石墨層間化合物的實際應(yīng)用是通過含能煙火藥劑的供熱,使石墨層間化合物瞬時膨化,在特定的區(qū)域形成膨脹石墨“干擾煙云”。單純的高膨脹容積膨脹石墨對3 mm、8mm波具有很好的衰減效果[8,9],但對紅外的衰減能力有限[10],然而磷煙卻對可見光和紅外具有很強(qiáng)的遮蔽干擾效果[11,12]。

        單純地插入H3PO4不易形成較高膨脹容積的膨脹石墨,目前,中國化學(xué)氧化法制備中,使用CrO3作為氧化插層劑的鮮有報道,而其他國家使用CrO3的一般也是通過電化學(xué)方法制備石墨層間化合物[13]。筆者首次采用HClO4/H3PO4/CrO3復(fù)合氧化插層體系,利用化學(xué)氧化法制備出具有較高膨脹容積且含有磷酸的石墨層間化合物,HClO4、CrO3的插入有利于獲得較高的膨脹容積,而插入的H3PO4高溫下形成的磷煙對可見光和紅外的衰減,具有一定的貢獻(xiàn)。因此,實際應(yīng)用時,有利于實現(xiàn)從可見光、紅外到毫米波段的寬波段干擾的兼容性。

        2 實驗

        2.1 原料

        天然鱗片狀石墨:粒徑500~560 μm,青島南墅石墨礦;磷酸(H3PO4):AR,南京化學(xué)試劑一廠,質(zhì)量分?jǐn)?shù)85.0%;高氯酸(HClO4):AR,上海金鹿化工有限公司,質(zhì)量分?jǐn)?shù) 70.0~72.0%;三氧化鉻(CrO3):AR,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司。

        硫酸插層的石墨層間化合物:粒徑 500~560 μm,青島南墅石墨礦。

        2.2 石墨層間化合物制備

        稱取1.5 g的三氧化鉻(Cr2O3),在不斷攪拌下將其加入盛有10 g磷酸的燒杯中,待三氧化鉻充分溶解,加入5 g天然鱗片狀石墨,最后加入5 g高氯酸(HCCO4),在室溫下攪拌反應(yīng)1 h,產(chǎn)物水洗至溶液無色且pH值為中性,抽濾脫水后在60℃下干燥1 h,得到石墨層間化合物。

        2.3 結(jié)構(gòu)與性能表證

        紅外光譜(FT-IR)測定采用美國NICOLET公司NEXUS870型紅外光譜儀,分辨率:0.09 cm-1,試樣質(zhì)量2 mg與KBr 300 mg混合均勻壓片后測試;XRD采用瑞士ARL公司X,TRA型X射線衍射儀測定,測試條件為Cu靶、Kα線,輸出功率12 kW,分辨率≤0.07°,λ=0.154 056 nm;形貌結(jié)構(gòu)表證采用荷蘭TEI-SIRTON掃描電子顯微鏡(SEM)、美國EDAX電子能譜儀(EDS),最高加速電壓:200 kV,分辨率:4.5 nm,最大放大倍數(shù):250 000;石墨層間化合物分析采用英國VG公司ESCALBMK-II型X射線光電子能譜儀(XPS),分辯率:1.1 eV/2× 105CPS,信噪比:500∶1;熱分析(TGA)使用日本島津Shimadzu TG-50型熱分析儀,試樣量:1.012 mg;反應(yīng)氣氛:氮?dú)?;流動速?20 mL·min-1;升溫速率:20℃·min-1。

        石墨層間化合物膨脹容積的測定方法參照GB10698-89進(jìn)行,單位用mL·g-1表示。

        3 結(jié)果與討論

        3.1 SEM和EDS

        圖1和圖2分別為天然石墨和石墨層間化合物的層狀結(jié)構(gòu)及表面形貌SEM照片,由圖1a可以看出天然石墨微粒的層與層之間結(jié)合較為緊密,層與層之間排列整齊有序,在這些片層有序區(qū)內(nèi)部,鱗片的層狀結(jié)構(gòu)具有較高的有序程度。圖1b石墨層間化合物仍保持為層狀結(jié)構(gòu),但層與層之間距離明顯增大。在化學(xué)氧化插層的過程中,插入物在整個鱗片中的層間分布遠(yuǎn)非理想和均勻,插入物多位于石墨晶體的周邊和缺陷處,因此,插層劑的插入破壞了原有石墨層的緊密結(jié)構(gòu),使碳-碳層間距增大。

        圖1 (a)天然石墨和(b)石墨層間化合物的層狀結(jié)構(gòu)SEM照片F(xiàn)ig.1 SEM images for sandwich structure of(a)natural graphite and(b)graphite intercalation compound.

        從圖2可看出,天然石墨經(jīng)一系列氧化插層處理后,其表觀形貌發(fā)生了顯著的變化,天然鱗片石墨表面比較平整,且具有一定的金屬光澤,而石墨層間化合物表面變得凹凸不平,層與層之間已部分打開,并出現(xiàn)了裂縫。而石墨層間化合物的表面具有許多小的形狀不規(guī)則的粘連、疊合的碎片,這是由于化學(xué)氧化插層過程中,較強(qiáng)的氧化劑對原料石墨表面過度氧化后而形成的。

        圖3是石墨層間化合物樣品的X射線電子能譜(EDS)分析圖,由圖中可以看出除石墨本身的碳元素外,還有P、Cl、Cr、O元素的存在,其中P的質(zhì)量含量為4.07%。

        3.2 XPS光電子能譜分析

        X射線光電子能譜(XPS)信息來自樣品表面幾個至十幾個原子層,可用來分析樣品表面的元素組成和化學(xué)狀態(tài)。對石墨層間化合物進(jìn)行的表面元素分析,與EDS分析結(jié)果相似,圖4a的全掃描圖譜表明除石墨固有的C元素外,還具有P、Cl、Cr、O四種元素,圖4c~4f是四種元素的窄掃描分析結(jié)果及有關(guān)峰的標(biāo)定。

        圖2 (a)天然石墨和(a)石墨層間化合物的表面形貌SEM照片F(xiàn)ig.2 SEM images for outside morphology of(a)natural graphite and(a)graphite intercalation compound.

        圖3 石墨層間化合物的EDS能譜圖及元素成份分析Fig.3 EDS for element composition of graphite intercalation compound.

        光電子能譜分析獲得的C ls譜如圖4b,其特征峰值為284.3 eV,與石墨特征峰一致。說明化學(xué)氧化插層過程并沒有破壞石墨片層的結(jié)構(gòu),插層反應(yīng)發(fā)生在石墨的片層之間,致使石墨層間距離擴(kuò)大,形成石墨層間化合物。圖4c中P2p的結(jié)合能為133.7~133.9 eV,與的結(jié)合能133.2~133.6 eV比較接近,說明P在石墨層間化合物中是以+5價含氧酸鹽的形式存在。圖4d顯示Cl2p的結(jié)合能位于207.9~208.5 eV之間,根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)圖譜[14],應(yīng)為+7價氯元素,同樣是以含氧酸鹽形式存在。圖4e中Cr離子的2p3/2和2p1/2結(jié)合能分別為578.3 eV和587.4 eV,與文獻(xiàn)[15]Cr6+結(jié)合能579 eV和588 eV的結(jié)果基本一致,說明作為氧化劑的CrO3在化學(xué)氧化插層過程中也有部分進(jìn)入了石墨的層間,并以Cr6+的形式存在。

        由圖4f可見O1s的主峰位于532.1 eV,且峰型基本上對稱,與相關(guān)文獻(xiàn)[15]顯示中O2-的結(jié)合能大致相符,說明石墨層間化合物中的O元素主要是以酸根的形式存在。

        3.3 FT-IR

        圖5是實驗制備的石墨層間化合物的FT-IR圖譜。由圖5可以看出,627 cm-1處出現(xiàn)Cl-O鍵的較強(qiáng)吸收峰,而1 088 cm-1處的強(qiáng)吸收峰是的特征吸收峰。998 cm-1處較強(qiáng)的吸收峰是的特征吸收峰。1 146 cm-1是P=O鍵的振動吸收峰, 1 112 cm-1處較強(qiáng)吸收峰是磷氧四面體PO4結(jié)構(gòu)中P-O的鍵伸縮振動[18]。在3 399 cm-1處的吸收峰是水的吸收峰,可能來自樣品本身及用于壓片的溴化鉀的微量水分。由此可以判斷、已插入石墨層間,形成了石墨層間化合物。

        3.4 XRD

        圖6是天然鱗片石墨及石墨層間化合物的X射線衍射圖。圖6a在2θ=26.58(d=0.335 1 nm)處有一強(qiáng)峰,這是天然石墨層狀結(jié)構(gòu)的特征峰。當(dāng)插入石墨層間時,會引起層間距的增大,根據(jù)Bragg方程,2dsinθ=nλ(d為石墨層間距,θ為衍射角,λ為入射波長),石墨的層間距增大,衍射峰對應(yīng)得角度減小,如圖6b,天然石墨2θ=26.58(d=0.335 1 nm)處的強(qiáng)峰并沒有出現(xiàn),而是發(fā)生了分裂,在2θ=25.08(d=0.354 8 nm)和2θ=30.22(d=0.295 5 nm)處出現(xiàn)了新的衍射峰,插層分子進(jìn)入原料石墨層間時,使其沿C軸方向膨脹,即C軸方向上原料石墨形成的復(fù)層的周期性重復(fù)排列受到破壞。天然石墨 2θ=54.68(d=0.167 7 nm)處較弱的衍射峰也分裂為2θ=57.10 (d=0.161 2 nm)和2θ=51.62(d=0.176 9 nm),同時,在2θ=4.94(d=1.787 3 nm)處出現(xiàn)了新的衍射峰。由此可以判斷,插層物進(jìn)入了原料石墨的層間,形成了石墨層間化合物。

        圖4 石墨層間化合物的XPS譜圖Fig.4 X-ray photoelectron spectra of graphite intercalation compound.

        圖5 石墨層間化合物的紅外光譜圖Fig.5 FT-IR spectrum of graphite intercalation compound.

        根據(jù)dn=d0+nC0[16,17]結(jié)合Bragg方程(式中, C0:天然石墨的層間距(C0=0.335 nm);d0:插入劑分子或基團(tuán)的直徑;n:石墨層間化合物的階數(shù)),由XRD結(jié)果可確定所制產(chǎn)物主要為一階石墨層間化合物。

        圖6 天然石墨和石墨層間化合物的X射線衍射圖Fig.6 XRD patterns of natural graphite and graphite intercalation compound.

        3.5 TG

        圖7為石墨層間化合物的熱重曲線,由圖可知,石墨層間化合物的熱失重過程大致可分為三個階段:第一階段是在升溫初始階段,溫度為 30~220℃,隨著溫度的升高,石墨層間化合物中水分汽化蒸發(fā),引起了石墨層間化合物的輕微失重,約為2.2%。第二階段是石墨層間化合物發(fā)生急劇失重的階段,位于 250~400℃,此過程的失重率為13.8%,這主要是石墨層間插入物劇烈分解、汽化所致,它是熱分解的主要階段。第三階段在400~600℃,此過程隨著溫度的上升,熱失重趨于平緩,約為7%。此后,隨著溫度的繼續(xù)升高,失重率逐漸減小。總的來說,開始急劇熱失重時的臨界溫度在250~300℃,也就是說達(dá)到或超過此溫度時,石墨層間化合物將表現(xiàn)出較為明顯的熱失重、膨脹,整個熱分解過程總失重約為28.5%。

        3.6 膨脹容積

        參照GB10698-89石墨層間化合物膨脹容積的測定方法,單位用mL·g-1表示,測得所制石墨層間化合物(1#)及市售硫酸插層石墨層間化合物(2#)的膨脹容積與膨脹溫度之間關(guān)系曲線如圖8。由圖可知,對于1#,其起始膨脹溫度為250℃,此時膨脹容積為50 mL·g-1,300℃時,石墨層間化合物已發(fā)生較為明顯的膨脹,膨脹容積為350 mL·g-1,400℃時石墨層間化合物的膨脹容積急劇上升到550 mL·g-1,說明所制石墨層間化合物,具有低溫易膨脹的特點,與TG曲線這一階段的熱失重特征相吻合。溫度繼續(xù)升高時,膨脹容積的上升趨于平緩,至800℃時達(dá)到最大膨脹容積610 mL·g-1,說明此溫度下,石墨層間的插入物已分解、汽化完全。900℃時膨脹容積反而略有下降,這是由于分解完全后,過高的溫度促使石墨發(fā)生了部分氧化而損耗,導(dǎo)致膨脹容積的下降[19]。

        圖7 石墨層間化合物的熱重分析曲線Fig.7 TG curve of graphite intercalation compound.

        圖8 石墨層間化合物膨脹容積與溫度的關(guān)系Fig.8 Relationship between temperature and expanded volume of graphite intercalation compound.

        市售硫酸插層的石墨層間化合物,300℃時,石墨層間化合物只有輕微的膨脹,約為50 mL·g-1,隨著溫度的升高,膨脹容積緩慢上升,800℃時僅為330 mL·g-1,900℃時達(dá)到最大350 mL·g-1。

        很顯然,通過H3PO4/HClO4/CrO3氧化插層體系制備的石墨層間化合物,具有更優(yōu)越的較低溫度下獲得高膨脹容積性能。

        3.7 化學(xué)氧化法反應(yīng)過程及機(jī)理

        運(yùn)用化學(xué)氧化法,采用HClO4/H3PO4/CrO3體系制備石墨層間化合物時,其反應(yīng)過程及機(jī)理大致如下:

        a.氧化劑對石墨的氧化

        天然鱗片狀石墨具有層狀結(jié)構(gòu),每一層的碳原子以共價鍵形成網(wǎng)狀平面大分子,而層與層之間以較弱的范德華力結(jié)合,在CrO3的強(qiáng)氧化作用下,網(wǎng)狀平面大分子失去電子,成為帶正電荷的平面大分子,用化學(xué)方程式可表示為:

        b.石墨對插入劑的吸附

        c.插入劑插入石墨層間

        在電荷力的作用下,極性較強(qiáng)的插入劑陰離子ClO-4打破范德華力,首先進(jìn)入石墨層間,并形成通道;

        d.插入劑在石墨層間的傳輸、擴(kuò)散

        e.成階反應(yīng)

        當(dāng)石墨層間內(nèi)插入的離子與分子達(dá)到一定濃度時,插入反應(yīng)與脫嵌反應(yīng)構(gòu)成動態(tài)平衡,此時帶正電的石墨平面大分子與插入劑離子、分子達(dá)到電荷平衡;

        隨著反應(yīng)繼續(xù),產(chǎn)物逐漸由高階向低階演變,反應(yīng)的最終產(chǎn)物是在該熱力學(xué)條件下具有較為穩(wěn)定階結(jié)構(gòu)的石墨層間化合物。

        4 結(jié)論

        采用天然鱗片石墨、高氯酸、磷酸、三氧化鉻,按照質(zhì)量比1∶1∶2∶0.3,制備出石墨層間化合物,且工藝簡單易行。SEM、EDS、XPS、FT-IR、XRD結(jié)果說明,石墨層間的插入物為。

        石墨層間化合物的膨脹容積與膨脹溫度之間關(guān)系及熱重分析表明,300℃時,石墨層間化合物已發(fā)生了較為劇烈的失重、膨脹,膨脹容積為350 mL·g-1,而 800℃ 時達(dá)到最大膨脹容積610 mL·g-1,明顯優(yōu)于傳統(tǒng)硫酸插層的石墨層間化合物。石墨層間化合物具有低溫易膨脹、高膨脹容積的性能。

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        Preparation and expansion properties of a graphite intercalation compound containing phosphorus

        ZHOU Ming-shan1, HUANG Yao1, TAO Yong2
        (1.School of Chemical Engineering,Yunnan Open University,Kunming 650023,China; 2.School of Chemical Engineering,Nanjing University of Science and Technology,Nanjing 210094,China)

        A graphite intercalation compound(GIC)was prepared by the chemical oxidation method using natural graphite flakes,HClO4,H3PO4and CrO3as raw materials with mass ratios of 1∶1∶2∶0.3.It was characterized by SEM,EDS,XPS,FTIR,XRD and TGA.The expansion volume of the GIC was 350 mL·g-1at 300℃ and reached the highest value of 610 mL·g-1at 800℃.The expansion volume of this GIC was obviously higher than the GICs using H2SO4as an intercalating agent.The intercalating agents of the GIC were.

        Graphite intercalation compounds;Chemical oxidation;Expanded graphite;Expansion volume Author introduction:ZHOU Ming-shan,Postdoctor.E-mail:zhmingshan@163.com

        O613.71

        A

        2015-05-16;

        2015-08-10

        周明善,博士后.E-mail:zhmingshan@163.com

        1007-8827(2015)05-0438-07

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