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        從廢舊63Ni放射源中回收63Ni原料技術(shù)

        2015-03-10 06:04:52王燕伶許芝劍任春俠譚小明
        同位素 2015年2期
        關(guān)鍵詞:工藝方法

        王燕伶,高 巖,許芝劍,任春俠,許 亮,譚小明

        (原子高科股份有限公司,北京 102413)

        從廢舊63Ni放射源中回收63Ni原料技術(shù)

        王燕伶,高 巖,許芝劍,任春俠,許 亮,譚小明

        (原子高科股份有限公司,北京 102413)

        為了從廢舊63Ni放射源中回收63Ni原料,對物理方法、化學(xué)方法和電化學(xué)方法優(yōu)缺點(diǎn)進(jìn)行比較后確定了電化學(xué)方法為較優(yōu)工藝,本研究優(yōu)化得到電化學(xué)法退鍍液的組成、濃度以及工藝參數(shù),該方法回收的63Ni原料比活度較高,可以重新用于63Ni源的生產(chǎn)。

        63Ni放射源;退鍍工藝;退鍍液;電化學(xué)方法

        63Ni是長半衰期(T1/2=100 a)低能放射性核素(Eβ=66 keV),63Ni放射源主要作為電子捕獲檢測器的電離源,一般使用年限為3~5年,據(jù)統(tǒng)計(jì)每年國內(nèi)需要退役的63Ni源將約500枚以上。廢舊63Ni放射源退鍍工藝,可采用鍍層退除的方法,主要包括物理方法、化學(xué)方法、電化學(xué)方法等。物理方法退除主要是用機(jī)械的方法將鍍層從基體上退除,此類方法容易造成污染,不適合放射性工作的要求?;瘜W(xué)退鍍的方法優(yōu)點(diǎn)在于效率高、成本低、設(shè)備簡單,但也會(huì)將鎳基體溶解,引入非放鎳離子,從而降低了回收原料的比活度,甚至達(dá)不到再使用的要求。本研究擬采用電化學(xué)方法,通過控制退鍍條件對鍍層進(jìn)行電化學(xué)溶解,不傷及基體材料,退除63Ni源的鍍層,并使63Ni原料得以再利用。

        1 儀器與試劑

        放射源測試儀:北京北分儀器廠;電解槽:自制;鉑金電極:自制; 氯化鉀:北京化學(xué)試劑公司;鹽酸:北京化學(xué)試劑公司;硝酸:北京化學(xué)試劑公司;電鍍液(硼酸、氯化鉀體系,自配);廢舊63Ni放射源:回收。

        2 實(shí)驗(yàn)方法

        把廢舊63Ni放射源裝入電解槽,加入電解液,以退鍍件作為陽極,分別進(jìn)行電解液成分與濃度、電流密度、退鍍時(shí)間等相關(guān)參數(shù)的實(shí)驗(yàn),確定電化學(xué)方法退鍍的工藝條件。

        3 結(jié)果與討論

        3.1 電解液的選擇

        在電解液選擇過程中,電解液不能引入有機(jī)溶劑、其他金屬離子等雜質(zhì)離子,分離過程簡單,回收原料比活度高,再電鍍過程中電沉積率高。從63Ni放射源的電鍍工藝以及退鍍后再利用角度考慮,主要考察了非放電鍍液 、 氯化鉀電解液、 鹽酸電解液 。采用63Ni 放射源制源的非放電鍍液(主要是氯化鉀與硼酸體系),退鍍效果不理想 ,在氯化鉀電解液中,可以對鎳基片的63Ni 放射源退除,但是退除速度較慢。 采用鹽酸電解液,可以快速的退除63Ni鍍層,對以鹽酸為電解液的電化學(xué)退除中電解相關(guān)參數(shù)與退除效率的關(guān)系進(jìn)行研究。

        3.2 鹽酸的濃度的選擇

        采用鹽酸體系電解液40 mL,鹽酸濃度為0.5~6.0 mol/L,進(jìn)行退鍍,實(shí)驗(yàn)結(jié)果列于表1。

        表1 不同鹽酸濃度的退鍍結(jié)果比較Table 1 Comparison of experimental results of different hydrochloric acid concentration

        由表1可見,采用鹽酸電解液,濃度越高,鍍層的退除速度越快,但濃度過高,鍍層退除速度過快,基片腐蝕嚴(yán)重,選用2 mol/L鹽酸進(jìn)行退鍍比較合適。

        3.3 電流密度的選擇

        采用鹽酸體系電解液40 mL,鹽酸濃度為2 mol/L電流密度范圍為5 mA/cm2~40 mA/cm2進(jìn)行退鍍實(shí)驗(yàn),結(jié)果見表2。

        表2 不同電流密度的退鍍結(jié)果比較Table 2 Comparison of experimental results of different current density

        由表2數(shù)據(jù)可見,電流密度越大,鍍層的退除速度越快,但為了便于操作,應(yīng)降低電流密度。同時(shí)過大的電流密度有時(shí)會(huì)造成陽極的鈍化,出現(xiàn)鈍化后的陽極將不發(fā)生金屬溶解,而是氧氣的析出。因此選擇電流密度在30 mA/cm2進(jìn)行退鍍。

        3.4 退鍍時(shí)間的選擇

        采用鹽酸體系電解液40 mL,鹽酸濃度為2 mol/L,電流密度為30 mA/cm2,退鍍時(shí)間為10 s~140 s進(jìn)行退鍍實(shí)驗(yàn),結(jié)果列于表3。

        由表3數(shù)據(jù)可見,退鍍率隨著時(shí)間增加而增加,由實(shí)驗(yàn)確定退除時(shí)間為2 min,減少基體鎳的溶入,提高了退鍍液的比活度。

        3.5 退鍍工藝

        通過以上實(shí)驗(yàn),確定了在鎳合金基體上退除63Ni電化學(xué)工藝(見表4),此種方法回收的63Ni原料雜質(zhì)含量低,63Ni再生原料不需要純化可直接使用,實(shí)際應(yīng)用電沉積率≥90%。

        表3 不同退除時(shí)間退鍍結(jié)果比較Table 3 Comparison of experimental results of different stripping time

        表4 鎳基體上退除63Ni鍍層的工藝配方Table 4 Process recipe of stripping Ni-63 in the nickel matrix

        4 小結(jié)

        本工作確定了廢舊63Ni放射源的放射性鍍層退除工藝,廢舊63Ni放射源采用電化學(xué)方法的工藝條件:2 mol/L鹽酸、電流密度30 mA/cm2、退鍍時(shí)間120 s,可有效退除鍍層。對回收的廢舊63Ni放射源按照退鍍工藝,進(jìn)行了63Ni原料的回收,退除效率≥95%,63Ni再生原料不需要純化可直接使用。

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        Technology on Recycling Nickel-63 from Spent Nickel-63 Radioactive Source

        WANG Yan-ling, GAO Yan, XU Zhi-jian, REN Chun-xia, XU Liang, TAN Xiao-ming

        (AtomHighTeahCO.LTD.,Beijing102413,China)

        The processes technology of recycling nickel-63 from spend nickel-63 radioactive source were studied. The electrochemical method was choosed as the better process. It obtained the composition and concentration of stripping solution, the process parameters of electrochemical method. Nickel - 63 raw material recovered by this method could be used for production of nickel - 63 source again for its high specific activity.

        nickel-63 radioactive source; stripping process; stripping solution; electrochemical method

        10.7538/tws.2015.28.02.0081

        2015-01-12;

        2015-03-15

        王燕伶(1976—),女,北京人,工程師,核技術(shù)應(yīng)用專業(yè)

        TL92+2

        A

        1000-7512(2015)02-0081-03

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