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        新產(chǎn)品新技術(shù)(96)

        2015-02-10 18:03:57龔永林
        印制電路信息 2015年6期
        關(guān)鍵詞:印制電路板面電解水

        New Product & New Technology (96)

        智能手機發(fā)展對電子封裝技術(shù)要求

        在2014年JPCA的一次PCB路線圖(Road map)會議上,對智能手機發(fā)展動向認(rèn)為功能方面:(1)4K高清顯示屏;(2)LTE通信速度;(3)數(shù)據(jù)量增大;(4) 4bit處理器;( )大記憶器和寬帶。對電子封裝從PoP發(fā)展為SiP,封裝基板厚度0.2 mm以下,連接盤節(jié)距40 μm,最小線寬/線距 μm/ μm,最小導(dǎo)通孔孔徑/盤徑小于30 μm/40 μm,模塊尺寸 mm×14 mm,具有I/O數(shù)1000以上。

        (電子実裝學(xué)會誌,201 /01)

        印制電路板外觀檢查新方法

        通常PCB外觀檢查設(shè)備都是二維平面的觀察,通過被測板面的平面圖像與標(biāo)準(zhǔn)平面圖像的比較,來鑒別出缺陷。最近關(guān)注的新方法是三維檢查,可以檢查線路圖形與安裝元件焊接點狀況。

        三維檢查方法一種是利用螢光照射,高解像度彩色圖形處理,兼有圖形測長比較系統(tǒng)的方法,可以對PCB表面導(dǎo)電圖形、阻焊圖形、標(biāo)記符號圖形分層檢查,從圖形尺寸來分別鑒別圖形完好性。第二種是多面鏡高速三維形狀計測裝置,采用多路激光照射和多面鏡反射、CMOS照相頭圖形處理,可以檢出PCB表面微小的凹凸,以及有裝配焊接的缺陷。第三種是板面色澤濃淡檢查,是利用光照輝度比較推斷板面狀況,可檢出變色、污染物、夾雜異物和損傷等,也有用傅里葉變換過濾頻率得出紋理圖像,于紋理差異判別缺陷。還有PCB內(nèi)層檢查,是用配備光照干涉儀實現(xiàn)相位分像的X射線檢查裝置,判別內(nèi)層線路缺陷。這些外觀檢查方法在向?qū)嵱没M(jìn)展。

        (電子実裝學(xué)會誌,201 /01)

        電解水在印制電路板的應(yīng)用

        電解水是電解質(zhì)鹽的稀薄水溶液經(jīng)過電解處理得到的水溶液,電解過程是在陽極與陰極反生氧化還原反應(yīng),得到堿性電解水與酸性電解水。如NaCl或NaSO 4水溶液在電解槽內(nèi),陰極區(qū)與陽極區(qū)有滲透膜隔開,經(jīng)過電解處理在陰極區(qū)得到堿性NaCl或NaSO 4電解水(pH=11. ),在陽極區(qū)得到酸性NaCl或NaSO 4電解水(pH=2. )。堿性電解水可用于脫脂清洗,不會腐蝕銅面,可代替表面活性清洗劑成為無害化清洗。酸性電解水可用于除去金屬表面氧化層,能溶解銅,可代替硫酸/過氧化氫溶液起到微蝕和粗化作用。

        電解水在PCB制程中可用于基板前處理脫脂、去氧化層,電鍍或涂覆前的銅面微蝕處理等。還可用于感光性樹脂顯影后去除膜殘渣,電鍍后去除板面化學(xué)物殘余物的清洗。電解水廢液易于分解處理,代替原來工藝有利于環(huán)保。

        (電子實裝技術(shù),201 /02)

        一步成型噴墨打印機亮相

        Camtek公司的Gryphon功能噴墨系統(tǒng)沉積的阻焊膜,可以按照板子不同層的三維形狀涂覆。Gryphon數(shù)字化功能噴墨系統(tǒng)在三維表面沉積得到的阻焊圖形,完全取代目前PCB制造用的傳統(tǒng)的涂布、干燥、曝光和顯影過程。(pcb00 .com,201 /3/30)

        兼有產(chǎn)品組裝的3D打印機

        在倫敦的Buzz科技公司推出稱為工業(yè)革命III (簡稱IR3)的3D打印機,可以用塑料部件內(nèi)打印導(dǎo)電材料打印完成電路布線并激光固化,及進(jìn)行電子元件安裝。這擴展的3D打印機功能,IR3的能力屬世界上第一個能產(chǎn)品組裝的3D打印機。

        (pcb00 .com,201 /4/2 )

        利用離子交換無需催化劑的樹脂表面電鍍法

        日本甲南大學(xué)的研究團隊開發(fā)出新的樹脂直接電鍍法,是利用離子交換在樹脂表面進(jìn)行還原析出,將金屬離子導(dǎo)入樹脂,即可在樹脂表面形成電鍍膜。此過程無需鈀或銀催化劑、無需粗化。目前已在印制電路用聚酰亞胺(PI)基材上形成200 nm的銅鍍膜,以此為基礎(chǔ)直接形成線路圖形。此新技術(shù)正在申請專利中,同時也將擴大到其它樹脂與金屬的應(yīng)用。

        此新技術(shù)以氫氧化鉀鹽基化為基礎(chǔ),對PI樹脂表面進(jìn)行加水分解,在維持PI形狀下于樹脂內(nèi)部導(dǎo)入陽離子交換基,置換銅離子,并以二甲胺硼烷(DMAB)還原,使得在表面形成200 nm銅鍍膜。此鍍膜是由數(shù)十納米的銅微粒聚集成的粒子膜,得以確保強度。

        (材料世界網(wǎng),201 -04-1 )

        (龔永林)

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