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        堿處理對(duì)ZSM-5分子篩膜結(jié)構(gòu)及其催化性能的影響

        2014-12-31 11:59:44胡申林
        關(guān)鍵詞:庚烷裂痕去離子水

        袁 方,厲 剛,胡申林

        (1.浙江大學(xué) 化學(xué)系,浙江 杭州 310027;2.高超聲速?zèng)_壓發(fā)動(dòng)機(jī)技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,北京 100074)

        規(guī)整結(jié)構(gòu)催化劑是近年來(lái)化工領(lǐng)域的一個(gè)研究熱點(diǎn)[1]。所謂規(guī)整結(jié)構(gòu)催化劑,就是將催化活性組分以涂層或薄膜的形式負(fù)載在具有規(guī)整結(jié)構(gòu)的載體上,其優(yōu)點(diǎn)是可減少擴(kuò)散的影響,降低流體阻力,使流體分布更均勻。

        ZSM-5分子篩是一類性能優(yōu)異的固體酸催化劑,以ZSM-5分子篩膜為催化活性組分的規(guī)整結(jié)構(gòu)催化劑得到了廣泛關(guān)注,這類催化劑已用于NOx選擇性 催 化 還 原 (NOx-SCR)[2]、 苯 一 步 氧 化 制 苯酚[3]、烴類裂解[4-6]等反應(yīng),表現(xiàn)出比一般填充床催化反應(yīng)器更好的性能。

        ZSM-5分子篩晶體內(nèi)含二維的孔道結(jié)構(gòu),沿b軸方向?yàn)橹本€型孔道,孔道截面尺寸為0.54nm×0.56nm;沿a軸方向?yàn)閦ig-zag孔道,孔道截面尺寸為0.51nm×0.55nm[7]。由于ZSM-5分子篩的孔道尺寸與反應(yīng)物分子尺寸相近,分子在孔道內(nèi)擴(kuò)散較慢,從而影響了催化劑的活性、產(chǎn)物選擇性及使用壽命。

        為了解決上述問(wèn)題,人們提出了一些研究思路,如減少晶體顆粒尺寸、制備含介孔或大孔的分子篩晶體等[8-14]。近年來(lái),通過(guò)骨架脫硅來(lái)造孔的堿處理法得到了較多關(guān)注[10,15-16]。該法的特點(diǎn)是簡(jiǎn)單易行、效果明顯,并已實(shí)現(xiàn)中試[17]。目前,堿處理法主要針對(duì)粉末樣品,關(guān)于堿處理對(duì)ZSM-5分子篩膜孔結(jié)構(gòu)及其催化性能的影響未見(jiàn)報(bào)道,在本文中,筆者將介紹這方面的研究結(jié)果,供大家參考。

        1 實(shí)驗(yàn)部分

        1.1 試劑與材料

        硅溶膠(SiO2質(zhì)量分?jǐn)?shù)30%),浙江宇達(dá)化工有限公司產(chǎn)品;異丙醇鋁(化學(xué)純,Al2O3質(zhì)量分?jǐn)?shù)≥24.7%)、氫氧化鈉(分析純,NaOH 質(zhì)量分?jǐn)?shù)≥96.0%),國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司產(chǎn)品;四丙基氫氧化銨溶液(工業(yè)級(jí),TPAOH質(zhì)量分?jǐn)?shù)25%),浙江肯特化工有限公司產(chǎn)品;正庚烷(分析純,質(zhì)量分?jǐn)?shù)≥98.5%),上海凌峰化學(xué)試劑有限公司產(chǎn)品;去離子水。

        片狀(3cm×5cm)或管狀(L=75cm,φ3mm×1mm)不銹鋼載體。在使用前依次用無(wú)水乙醇和去離子水超聲波清洗20min,干燥后在950℃下熱處理1h。

        1.2 ZSM-5分子篩膜合成

        采用水熱法合成ZSM-5分子篩膜[18],合成溫度為185℃,合成時(shí)間為24h。

        1.3 ZSM-5分子篩膜的堿處理

        水熱法合成得到的ZSM-5分子篩膜先在550℃下高溫焙燒6h,除去有機(jī)模板劑;然后將分子篩膜放在一定濃度的堿液中,于不同溫度下處理若干時(shí)間。在考察時(shí)間的影響時(shí),一般采用如下步驟:分子篩膜原樣→ 表征→ 堿處理 0.5h→ 表征→ 堿處理 1 h→ 表征→ 堿處理 1 h→ ……,堿處理的累計(jì)時(shí)間分別記為0.5h、1.5h、2.5h,……。

        1.4 XRD和SEM表征

        采用Rigaku D/max-rA X射線衍射儀表征載體表面生長(zhǎng)的分子篩晶體結(jié)構(gòu)(XRD);采用TM-3000掃描電子顯微鏡觀察載體表面生長(zhǎng)的分子篩晶體形貌(SEM)。

        1.5 低溫N2吸附-脫附實(shí)驗(yàn)

        為了考察堿處理對(duì)分子篩膜中晶體孔結(jié)構(gòu)的影響,采用合適的方法將生長(zhǎng)在載體表面的分子篩晶體脫落下來(lái),然后在77K下進(jìn)行N2吸附-脫附實(shí)驗(yàn)。

        1.6 催化劑催化性能評(píng)價(jià)

        為了考察堿處理對(duì)ZSM-5分子篩膜催化性能的影響,將ZSM-5分子篩膜原位生長(zhǎng)在不銹鋼管內(nèi)表面上,然后將該不銹鋼管作為反應(yīng)管,以正庚烷裂解為探針?lè)磻?yīng),考察堿處理對(duì)ZSM-5分子篩膜催化活性的影響。裂解溫度600℃,正庚烷流量2.0mL/min(無(wú)載氣稀釋)。采用 GC-2014C氣相色譜儀定量分析裂解產(chǎn)物。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 ZSM-5分子篩膜的XRD表征結(jié)果

        圖1為堿處理前后ZSM-5分子篩膜的XRD譜。由圖1可知,與堿處理前相比,ZSM-5分子篩膜在0.2mol/L NaOH 溶液中于65℃下處理0.5h后,其衍射峰數(shù)量及強(qiáng)度變化很小,表明在該條件下堿處理對(duì)分子篩膜結(jié)晶度及晶體結(jié)構(gòu)幾乎無(wú)影響。

        圖1 堿處理前后ZSM-5分子篩膜的XRD譜Fig.1 XRD patterns of ZSM-5films before and after alkali treatment

        2.2 堿處理對(duì)ZSM-5分子篩膜形貌的影響

        2.2.1 堿處理時(shí)間的影響

        圖2為ZSM-5分子篩膜在0.2mol/L NaOH溶液中于65℃下處理不同時(shí)間后的掃描電鏡照片。由圖2可知,載體表面幾乎被分子篩晶體完全覆蓋,膜厚與單個(gè)晶體的大小相當(dāng),約50μm。當(dāng)分子篩膜在0.2mol/L NaOH溶液中于65℃下處理0.5h后,分子篩膜表面的晶體形貌幾乎無(wú)影響,與XRD表征結(jié)果一致;對(duì)同一樣品在相同條件下再處理1h后,膜表面部分晶體開(kāi)始出現(xiàn)裂痕;當(dāng)該樣品在相同條件下繼續(xù)處理1h后,膜表面的晶體裂痕增多,說(shuō)明堿處理時(shí)間過(guò)長(zhǎng)對(duì)分子篩膜的結(jié)構(gòu)有破壞作用。

        圖2 ZSM-5分子篩膜在0.2mol/L NaOH溶液中于65℃下處理不同時(shí)間后的SEM照片F(xiàn)ig.2 SEM images of ZSM-5films after alkali treatment in 0.2mol/L NaOH solution at 65℃for various time

        為了表征堿處理對(duì)膜基界面結(jié)合強(qiáng)度的影響,進(jìn)行了熱沖擊試驗(yàn)。堿處理前的ZSM-5分子篩膜樣品在850℃下加熱1h后,在空氣中驟冷,分子篩膜形貌無(wú)明顯變化,再在去離子水中超聲波處理20min,分子篩膜也沒(méi)有從載體表面脫落下來(lái)。對(duì)于在0.2mol/L NaOH溶液中于65℃下處理2.5h后的樣品,經(jīng)過(guò)相同的熱沖擊試驗(yàn),在空氣中驟冷后,分子篩膜變白,意味著分子篩膜與載體界面的結(jié)合強(qiáng)度發(fā)生了變化,在去離子水中超聲波處理20min后,絕大部分晶體都從載體上脫落下來(lái),這可能與膜表面存在大量裂痕有關(guān)。

        2.2.2 堿處理溫度的影響

        考察了55、65和75℃3個(gè)溫度下,ZSM-5分子篩膜在0.2mol/L NaOH溶液中處理不同時(shí)間后的晶體形貌變化。結(jié)果發(fā)現(xiàn),55℃下堿處理0.5~2.5h后,分子篩膜表面形貌未出現(xiàn)明顯變化,也未出現(xiàn)裂痕;75℃下堿處理1.5h后的分子篩膜形貌與65℃下堿處理2.5h后的結(jié)果相似,即膜表面開(kāi)始出現(xiàn)裂痕(見(jiàn)圖3(a));當(dāng)該樣品在75℃下再處理1h后,膜表面的裂痕變大變多(見(jiàn)圖3(b)),而且在堿處理過(guò)程中,一部分分子篩膜直接從載體表面脫落下來(lái),表明該堿處理?xiàng)l件已過(guò)于苛刻。

        在0.2mol/L NaOH 溶 液 中 于 75℃ 下 處 理2.5h后的樣品進(jìn)行熱沖擊試驗(yàn)后發(fā)現(xiàn),該樣品表面變白,在去離子水中超聲波處理20min后,分子篩晶體幾乎都從載體表面脫落下來(lái),與65℃下處理2.5h后的樣品情況相似。

        由上面分析得知,當(dāng)堿處理的時(shí)間偏長(zhǎng)或溫度偏高時(shí),堿處理后的ZSM-5分子篩膜表面會(huì)出現(xiàn)裂痕,這些裂痕降低了膜基界面結(jié)合強(qiáng)度。另外,在0.2mol/L NaOH 溶液中于65℃下處理0.5h后的分子篩膜樣品表面未見(jiàn)明顯裂痕;經(jīng)850℃的熱沖擊試驗(yàn)及在去離子水中超聲波處理20min后,也未發(fā)現(xiàn)脫落,表明該堿處理?xiàng)l件比較合適。在該條件下繼續(xù)考察堿處理對(duì)分子篩膜中晶體的孔結(jié)構(gòu)及催化性能的影響。

        圖3 ZSM-5分子篩膜在0.2mol/L NaOH溶液中于75℃下處理不同時(shí)間后的SEM照片F(xiàn)ig.3 SEM images of ZSM-5films after alkali treatment in 0.2mol/L NaOH solution at 75℃for various time

        2.3 堿處理對(duì)ZSM-5分子篩膜孔結(jié)構(gòu)的影響

        圖4為堿處理前后ZSM-5分子篩膜的N2吸附-脫附等溫線(77K)。由圖4可知,堿處理前后2個(gè)樣品的吸附-脫附等溫線很相似,表明堿處理對(duì)分子篩膜中晶體的孔結(jié)構(gòu)影響很?。粔A處理后樣品的吸附-脫附等溫線也沒(méi)有出現(xiàn)如粉末樣品那樣的滯后環(huán)[19],表明堿處理后的分子篩膜樣品中并未出現(xiàn)介孔,與粉末樣品的結(jié)果不同。

        根據(jù)圖4所示的N2吸附-脫附實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),計(jì)算了堿處理前后分子篩膜中晶體的比表面積和孔體積等結(jié)構(gòu)參數(shù),結(jié)果列于表1。表1數(shù)據(jù)進(jìn)一步證實(shí),在所述條件下的堿處理對(duì)ZSM-5分子篩膜中晶體的孔結(jié)構(gòu)影響很小。

        圖4 ZSM-5分子篩膜在堿處理前后的N2吸附-脫附等溫線(77K)Fig.4 N2adsorption-desorption isotherms at 77K for ZSM-5films before and after alkali treatment

        圖5為堿處理前后ZSM-5分子篩膜的高分辨率掃描電鏡照片。由圖5可知,堿處理前的分子篩膜樣品中,晶體表面堆積著大量40nm左右的顆粒(圖5(c)),因尺寸太小,XRD無(wú)法判斷其為晶體還是無(wú)定形物質(zhì);堿處理后的樣品中,晶體表面變得很光滑(圖5(f)),這些小顆??赡鼙蝗芙庠趬A溶液中了。

        2.4 堿處理對(duì)ZSM-5分子篩膜催化性能的影響

        表2列出了600℃時(shí)正庚烷在堿處理前后ZSM-5分子篩膜反應(yīng)管內(nèi)裂解反應(yīng)的轉(zhuǎn)化率。由表2可知,反應(yīng)管內(nèi)壁原位生長(zhǎng)ZSM-5分子篩膜后,提高了正庚烷的裂解轉(zhuǎn)化率,這與ZSM-5分子篩晶體具有酸催化活性中心有關(guān);當(dāng)ZSM-5分子篩膜在0.2mol/L NaOH 溶液中于65℃下處理0.5h后,正庚烷的裂解轉(zhuǎn)化率進(jìn)一步提高。

        根據(jù)催化反應(yīng)結(jié)果,筆者推測(cè)在高倍率掃描電鏡下觀察到的晶體表面的小顆粒,可能是無(wú)定型物質(zhì),堿溶液處理可將其溶解,從而使分子篩晶體表面暴露在外,反應(yīng)物分子更容易與活性中心接觸而發(fā)生反應(yīng)。

        表1 堿處理前后ZSM-5分子篩膜的孔結(jié)構(gòu)參數(shù)Table 1 Textural parameters for ZSM-5film before and after alkali treatment

        圖5 堿處理前后ZSM-5分子篩膜的高分辨SEM照片F(xiàn)ig.5 High resolution SEM images of ZSM-5films before and after alkali treatment

        表2 600℃時(shí)正庚烷在堿處理前后ZSM-5分子篩膜反應(yīng)管內(nèi)裂解的轉(zhuǎn)化率Table 2 Conversion of n-heptane during cracking at 600℃in the ZSM-5film reactors before and after alkali treatment

        3 結(jié) 論

        堿處理時(shí)間過(guò)長(zhǎng)或溫度過(guò)高,均會(huì)導(dǎo)致ZSM-5分子篩膜表面晶體出現(xiàn)裂痕,影響膜基界面結(jié)合強(qiáng)度。采用合適的堿處理?xiàng)l件,可避免產(chǎn)生裂痕,雖然不能產(chǎn)生介孔,但能溶解晶體表面的無(wú)定型物質(zhì),從而提高分子篩膜的催化性能。

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