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        淺談創(chuàng)造性判斷中的“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”

        2014-04-29 02:44:21全宇軍潘聰張文平
        中國科技術(shù)語 2014年7期

        全宇軍 潘聰 張文平

        摘 要:“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”是一種假設(shè)的“人”,準確地理解“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”的知識和能力,對于客觀評價專利是否具備創(chuàng)造性至關(guān)重要。文章以一個具體的審查案例探討如何站在“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”的角度客觀地評價專利的創(chuàng)造性。

        關(guān)鍵詞:本領(lǐng)域的技術(shù)人員,創(chuàng)造性,客觀

        中圖分類號:N04;G306 文獻標識碼:A 文章編號:1673-8578(2014)S1-0176-02

        Person Skilled in the Art on the Judgment of Inventive Step of Invention

        QUAN Yujun PAN Cong ZHANG Wenping

        Abstract: The person skilled in the art refers to a fictional person. Its important that whether or not an invention involves an inventive step shall be objectively evaluated on the basis of the knowledge and capability of the person skill in the art. The paper will be discussed for an examiner how to stand on the perspective of the person skill in the art to evaluate objectively inventive step of the invention.

        Keywords: the person skilled in the art,inventive step,objective

        收稿日期:2014-06-09

        作者簡介:全宇軍(1978—),男,湖北武漢人,國家知識產(chǎn)權(quán)局專利局專利審查協(xié)作北京中心助理研究員。通信方式:quanyujun@sipo.gov.cn。

        一 所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員

        《審查指南》中規(guī)定:發(fā)明是否具備創(chuàng)造性,應(yīng)當基于所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員的知識和能力進行評價。所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員,也可稱為本領(lǐng)域的技術(shù)人員,是指一種假設(shè)的“人”,假定他知曉申請人或者優(yōu)先權(quán)日之前發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域所有的普通技術(shù)知識,能夠獲知該領(lǐng)域中所有的現(xiàn)有技術(shù),并且具有應(yīng)用該日期之前常規(guī)實驗手段的能力,但他不具備創(chuàng)造能力。如果所要解決的技術(shù)問題能夠促使本領(lǐng)域的技術(shù)人員在其他技術(shù)領(lǐng)域?qū)ふ壹夹g(shù)手段,他也應(yīng)具有從該其他技術(shù)領(lǐng)域中獲知該申請日或優(yōu)先權(quán)日之前的相關(guān)現(xiàn)有技術(shù)、普通技術(shù)知識和常規(guī)實驗手段的能力。設(shè)定這一概念的目的,在于統(tǒng)一審查標準,盡量避免審查員主觀因素的影響[1]。

        下面以一個具體的審查案例探討:如何站在“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”的角度,盡量避免主觀因素的影響,客觀地評價專利的創(chuàng)造性,達到正確認識“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”的內(nèi)涵和適用范圍的目的,以供審查員和專利代理人或當事人(如專利申請人或?qū)@麢?quán)人、專利權(quán)無效宣告請求人)參考。

        二 案例介紹

        某專利的權(quán)利要求保護一種半導體裝置,包括:一對的第一襯底及第二襯底;形成在所述第一襯底和所述第二襯底之間的液晶層;形成在所述第一襯底和所述液晶層之間的顏色濾光片;防止由于所述顏色濾光片引起的光反射的光干涉層,所述光干涉層形成在所述第一襯底和所述顏色濾光片之間;形成在所述顏色濾光片和所述液晶層之間的第一偏振元件;形成在所述第二襯底和所述液晶層之間的像素電極及薄膜晶體管;以及形成在所述第二襯底的外側(cè)一面的第二偏振元件。

        從現(xiàn)有技術(shù)中檢索到對比文件1和2,創(chuàng)造性的具體評述過程如下:對比文件1公開了一種液晶顯示裝置,并具體公開了上述權(quán)利要求中的大部分特征,上述權(quán)利要求與對比文件1相比,區(qū)別僅在于:該裝置還具有防止由于所述顏色濾光片引起的光反射的光干涉層,所述光干涉層形成在所述第一襯底和所述顏色濾光片之間。因此,可以確定本申請實際解決的技術(shù)問題是:如何防止由于所述顏色濾光片所引起的光反射。對比文件2也公開了一種液晶顯示裝置,并具體公開了以下技術(shù)特征:光干涉層形成在透明襯底和透明電極之間,其作用也是防止光的反射。由于對比文件1中的襯底和顏色濾光片之間存在光反射,從而影響圖像顯示的質(zhì)量。對比文件2中的透明襯底和電極之間也會存在光反射而影響圖像顯示的質(zhì)量,為了解決如何提高顯示圖像質(zhì)量的技術(shù)問題,對比文件1和2都需要解決防止光反射的技術(shù)問題,這是性質(zhì)相同的技術(shù)問題。為了解決如何防止由于襯底和顏色濾光片所引起的反射的技術(shù)問題,本領(lǐng)域的技術(shù)人員按照對比文件2的啟示,容易想到在襯底和顏色濾光片之間設(shè)置抗反射的光干涉層,從而消除襯底和顏色濾光片之間的反射。由于對比文件2中光干涉層的作用與發(fā)明要求保護的技術(shù)方案中的光干涉層的作用相同,因此本領(lǐng)域的技術(shù)人員有動機將對比文件1和2相結(jié)合,從而得到發(fā)明所述的技術(shù)方案。因此,可認為現(xiàn)有技術(shù)中存在上述技術(shù)啟示。

        從上述案例可以看出,準確地理解“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”的知識和水平在創(chuàng)造性的判斷中至關(guān)重要。首先,事實認定要準確。通過檢索得到現(xiàn)有技術(shù)中的對比文件1和2,“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”應(yīng)能夠準確理解對比文件1和2中的技術(shù)方案,還應(yīng)能夠準確地推導出發(fā)明要求保護的技術(shù)方案和對比文件1之間的區(qū)別技術(shù)特征;其次,“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”應(yīng)能夠根據(jù)上述區(qū)別技術(shù)特征所能達到的技術(shù)效果確定發(fā)明實際解決的技術(shù)問題。此時發(fā)明實際解決的技術(shù)問題必須是局限于“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”的能力和水平之內(nèi),也就是說,上述確定的技術(shù)問題必須是“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”能夠認識到的,如果認識發(fā)明所要解決的技術(shù)問題已經(jīng)超出了“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”的能力和水平,此時,發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比是非顯而易見的,因而具有創(chuàng)造性;最后,“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”不具有創(chuàng)造力,在判斷創(chuàng)造性的過程中,要確定現(xiàn)有技術(shù)整體上是否存在某種技術(shù)啟示。對上述案例而言,要確定:上述區(qū)別技術(shù)特征是否為對比文件2所公開的相關(guān)的技術(shù)手段,且該技術(shù)手段在對比文件2中所起的作用與該區(qū)別技術(shù)特征在要求保護的發(fā)明中為解決上述技術(shù)問題所起的作用是否相同?如果上述作用相同,則說明對比文件2中存在技術(shù)啟示,這種啟示會使得“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”在面對上述技術(shù)問題時,有動機和能力改進與其最接近的現(xiàn)有技術(shù)并獲得要求保護的發(fā)明;如果上述作用不相同,則說明對比文件2中不存在技術(shù)啟示,則發(fā)明對“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”而言是非顯而易見的,具有創(chuàng)造性。

        三 結(jié) 語

        在專利審查的創(chuàng)造性判斷中,只有準確地理解“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”的知識和能力,才能客觀、公正地評價發(fā)明的創(chuàng)造性。在“本領(lǐng)域的技術(shù)人員”的知識和水平范圍內(nèi),事實認定必須準確,而且要客觀地確定發(fā)明實際解決的技術(shù)問題。

        參考文獻

        [1] 中華人民共和國國家知識產(chǎn)權(quán)局. 專利審查指南[M]. 北京:知識產(chǎn)權(quán)出版社,2010:161-166.

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