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        石英晶體元件內(nèi)部水汽含量的控制

        2014-03-28 01:53:18呂培青史文香陜西華星電子集團(tuán)有限公司陜西咸陽712099
        電子設(shè)計(jì)工程 2014年7期
        關(guān)鍵詞:元器件水汽石英

        呂培青,史文香(陜西華星電子集團(tuán)有限公司 陜西 咸陽 712099)

        石英晶體元件是一種被廣泛使用的電子元件,早期應(yīng)用在軍事通訊領(lǐng)域,隨著石英晶體元件加工技術(shù)的發(fā)展以及產(chǎn)能的增加,逐步應(yīng)用到民用產(chǎn)品,許多電子產(chǎn)品都離不開石英晶體元件,正是因?yàn)榫w具有很高的品質(zhì)因數(shù)(高Q值),使許多消費(fèi)類電子產(chǎn)品同樣具有良好品質(zhì),沒有晶體就沒有琳瑯滿目的電子產(chǎn)品。

        隨著科學(xué)技術(shù)的快速發(fā)展,整機(jī)對(duì)石英晶體元器的性能指標(biāo)要求越來越高,特別是航空、航海、野外探測(cè)、兩極探險(xiǎn)及動(dòng)力車組的運(yùn)行等,石英晶體元器的使用環(huán)境越來越嚴(yán)酷,對(duì)其自身的穩(wěn)定性提出了更高的要求,為了適應(yīng)科學(xué)的發(fā)展,滿足整機(jī)對(duì)元器件需求的日益增長(zhǎng),我們通過對(duì)石英晶體元件加工工藝的改進(jìn),在加工過程中增加特殊控制,降低其內(nèi)部水汽含量,達(dá)到MIL-883E、GJB548A-96、GJB33A-97標(biāo)準(zhǔn)水汽含量規(guī)定范圍的要求,具體為:100℃±5 ℃,烘24小時(shí)以上,小于5 000 ppmV[1]。可以認(rèn)為:水汽含量界線與貯存使用中密封元器件的失效和可靠性有著直接關(guān)系[6]。

        1 內(nèi)部水汽的來源

        1)由于石英晶體元件密封氣密性差,水汽在長(zhǎng)期貯存、環(huán)境試驗(yàn)及在相對(duì)濕度

        大的環(huán)境中使用等時(shí)滲入元器件內(nèi)部而引起;

        2)密封時(shí)周邊氣氛中的水汽被密封入內(nèi)腔中引起的,因密封氣氛沒有有效控制或密封臺(tái)與周圍環(huán)境密封不良而被周圍環(huán)境的濕氣所擴(kuò)散滲透;

        3)內(nèi)部吸附(束縛)的水汽在高溫100 ℃±5 ℃,烘焙24小時(shí)過程中釋放出來的[2],如玻璃絕緣子、內(nèi)腔壁、晶片粘結(jié)材料等。

        2 內(nèi)部水汽對(duì)石英晶體元件造成的危害

        石英晶體元件封裝形式基本上是采用密封封裝,密封封裝的產(chǎn)品內(nèi)部水汽含量過高,由于采用密封封裝這些水汽又不能隨著時(shí)間而減少,這些存在于石英晶體元件內(nèi)部的水汽逐漸導(dǎo)致電連接系統(tǒng)發(fā)生各種物理、化學(xué)反應(yīng),特別是在嚴(yán)酷的試驗(yàn)環(huán)境下,如高空、低壓、低溫等環(huán)境中水汽就會(huì)凝結(jié)成細(xì)小的水珠附著在石英晶體元件晶片的表面上,給石英晶體元件的電性能造成很大的影響,從而致使整機(jī)器件電性能參數(shù)不穩(wěn)定,嚴(yán)重的甚至使整機(jī)不工作。為了保證密封的石英晶體元件在高空、低溫環(huán)境下的可靠性,不僅需要檢測(cè)產(chǎn)品封裝的氣密性,而且需對(duì)產(chǎn)品內(nèi)部水汽含量進(jìn)行有效的控制。

        3 內(nèi)部水汽含量的控制

        3.1 石英晶體元件的組成

        HC-49外形石英晶體元件的組成見圖1。

        圖1 石英晶體元件結(jié)構(gòu)圖Fig.1 Structure diagram of Quartz crystal components

        3.2 石英晶體元件的加工過程中產(chǎn)品水汽過程的分析

        對(duì)于各種尺寸的封裝可以進(jìn)行類似的計(jì)算,針對(duì)一定的表面積相對(duì)于體積的比例r,我們可以計(jì)算出其相應(yīng)的ppm值。對(duì)于水汽控制,空腔較大的器件也有一定的優(yōu)勢(shì),因?yàn)樵谙嗤穆┞是闆r下,較大空腔的器件需要更多的時(shí)間使內(nèi)部達(dá)到一定的水汽含量[3]。

        要控制石英晶體元件內(nèi)部水汽含量先從石英晶體元件成品加工藝開始分析,常用石英晶體元件成品加工工藝主要流程見圖2。

        從石英晶體元件制作工藝流程圖中可以看出,在認(rèn)為密封很好的情況下,在封焊工序之后工序的加工,不會(huì)影響到石英晶體諧振器的內(nèi)部水汽的含量,而封焊前的各工序在加工過程中要經(jīng)過很多次的高溫烘烤,殘留在晶片表面、銀層中及銀膠中的水汽已經(jīng)剩余很少,經(jīng)我們分析影響內(nèi)部水汽含量的主要工序就是碰焊時(shí)石英晶體元件組成部分的水汽含量、碰焊過程中填充氣體的水汽含量及操作環(huán)境空氣中的水汽含量。所以要解決的難點(diǎn)就是如何去除焊時(shí)石英晶體元件組成部分的水汽含量、碰焊過程中石英晶體諧振器內(nèi)部填充氣體的水汽含量以及碰焊操作環(huán)境空氣中的水汽含量。

        3.3 吸附(束縛)性水汽的去除

        1)盡可能地使用低含水量和不易吸濕的材料,在我們使用的材料中容易吸濕的材料只有用于防止接地的絕緣襯套,所以我們采用不易吸濕的材料來替換易吸濕的絕緣襯套材料;

        2)不使用殼體材料致密度差的外殼,選用質(zhì)地優(yōu)良的一類外殼,并在使用前進(jìn)行密封性試驗(yàn)及外觀篩選,確保封焊后元件的密封性;

        3)封裝材料在貯存、封焊過程中水汽很容易被吸入,為了防止封裝材料在貯存、封焊過程中水汽被吸入,我們?cè)诜庋b材料貯存、封焊中增加除濕機(jī)進(jìn)行除濕的過程,改善貯存環(huán)境,避免材料在貯存過程中水汽被吸附;

        4)粘結(jié)材料要充分固化,我們通常使用的粘結(jié)材料是環(huán)氧樹脂銀膠,為了防止在銀膠不能充分的固化,延長(zhǎng)烘烤時(shí)間,使銀膠內(nèi)部的水汽充分的釋放;

        5)加熱烘烤,真空—充氮烘箱中將毛細(xì)孔隙中的水汽的排出。

        3.4 密封時(shí)環(huán)境氣氛中的水汽控制

        1)在密封前充分的除濕來除掉材料及粘結(jié)材料中的水分[4],除掉這一部分的水分的最好的辦法是在300 ℃以上的高溫下進(jìn)行,但這個(gè)溫度對(duì)石英晶體元件有破壞性的影響,所以這個(gè)辦法不適用石英晶體元件的加工,對(duì)于石英晶體元件可以考慮采用除濕機(jī)來除去這一部分的水分,這樣可以很好的排除水汽,而且除濕機(jī)內(nèi)氣氛中的水汽含量很低,對(duì)內(nèi)部水汽含量要求不是特別高的產(chǎn)品,也可以在充氮?dú)獾臓t中進(jìn)行;

        2)密封時(shí)采用邊抽真空邊通入高純N2的方法來縮短密封時(shí)水汽的浸入。封焊設(shè)備帶除濕氣系統(tǒng)并用溫濕度儀監(jiān)測(cè),密封臺(tái)內(nèi)保持正壓,阻止外部高濕度的氣體滲入。氮?dú)馐呛康偷墓艿?或瓶裝)高純N2,一般在5 ppmV以下,露點(diǎn)在-69 ℃以下。抽真空充N2的時(shí)候,注意防止機(jī)械泵的廢氣倒灌而造成內(nèi)部氣氛被污染(除非是干泵)。抽真空充N2次數(shù)與內(nèi)腔N2含量的變化如圖3。

        圖3 氮?dú)夂孔兓疐ig.3 Nitrogen content change

        4 測(cè)試結(jié)果對(duì)比

        通過各方面的控制基本上滿足了內(nèi)部水汽含量標(biāo)準(zhǔn)要求的≤5 000 ppmv ,常規(guī)工藝加工的產(chǎn)品加工的產(chǎn)品和采用特殊控制工藝加工的產(chǎn)品測(cè)試結(jié)果對(duì)比見表l。

        試驗(yàn)條件:

        方法:按GJB3128A-97方法1018程序l;

        100 ℃±5 ℃預(yù)烘焙24 h;

        環(huán)境溫度:23 ℃;

        環(huán)境濕度:24%RH;

        表1 產(chǎn)品測(cè)試結(jié)果對(duì)比Tab.1 Product test results contrast

        5 結(jié) 論

        測(cè)量密封元件內(nèi)部水汽含量是證明其可靠性和工藝合理性的重要步驟之一[5],通過表l中采用兩種工藝加工的產(chǎn)品內(nèi)部水汽含量測(cè)試結(jié)果對(duì)比可以看出,采用特殊控制工藝生產(chǎn)的產(chǎn)品的內(nèi)部水汽含量合格(該項(xiàng)檢驗(yàn)的合格判據(jù)是小于5 000 ppm[6]),達(dá)到了控制石英晶體元件內(nèi)部水汽含量的目的,使其內(nèi)部水汽含量符合標(biāo)準(zhǔn)的要求,提高了產(chǎn)品的穩(wěn)定性,提升了產(chǎn)品的性能,充分說明了我們采取的這種工藝是合理的??蓮V泛的應(yīng)用于航空、航海、登山、兩極探險(xiǎn)及各類嚴(yán)酷的環(huán)境中使用。

        [1] GJB 548A-96.微電子器件試驗(yàn)方法和程序[S].1996.

        [2] GJB 33A-97.半導(dǎo)體分立器件總規(guī)范[S].1997.

        [3] 楊晨,張素娟.密封封裝內(nèi)部水汽含量判據(jù)研究[J].電子產(chǎn)品可靠性與環(huán)境試驗(yàn),2002(5):18-22.YANG Chen,ZHANG Su-juan. Encapsulation criterion of water vapor content in the research[J].Electronic Product Reliability and Environmental Testing,2002(5):18-22.

        [4] 王庚林,王莉研,董立軍.電子元器件內(nèi)部水汽含量與密封性關(guān)系的研究[J].電子元器件應(yīng)用,2009(2):78-81.WANG Geng-lin,WANG Li-yan,DONG Li-jun.Electronic components and sealing steam content in the research[J].Electronic Component at Device Applications,2009(2):78-81.

        [5] 吳文章.密封元器件的殘余氣氛分析[J].電子產(chǎn)品可靠性與環(huán)境試驗(yàn),2004(2):2-4.WU W en-zhang.Residual Gas Analysis of hermetic device[J].Electronic Product Reliability and Environmental Testing,2004(2):2-4.

        [6] 徐愛斌.密封電子元器件內(nèi)部水汽含量問題探討[J] .電子可靠性與環(huán)境試驗(yàn),2002(6):29-31.XU Ai-bin. Problem of Internal Water vapor content in domestic sealed device[J].Electronic Product Reliability and Environmental Testing,2002(6):29-31.

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