王彤彤

（1.中國科學院長春光學精密機械與物理研究所，吉林長春130033；2.中國科學院光學系統(tǒng)先進制造技術(shù)重點實驗室，吉林長春130033）

基于氧化物的0.8～1.7μm和3.7～4.8μm硬質(zhì)寬帶紅外增透膜研制

王彤彤1，2

（1.中國科學院長春光學精密機械與物理研究所，吉林長春130033；2.中國科學院光學系統(tǒng)先進制造技術(shù)重點實驗室，吉林長春130033）

從實際應用出發(fā),在0°入射的條件下,在ZnS基底上針對0.8～1.7μm和3.7～4.8μm兩個紅外波段,設(shè)計并制備了雙波段紅外增透膜。論述了材料選擇、膜系設(shè)計和制備方法,最終使用等離子輔助沉積技術(shù)在ZnS窗口上制備出雙波段紅外增透膜,透過率及環(huán)境測試結(jié)果表明：在0.8～1.7μm波段雙面平均透過率大于95％,在3.7～4.8μm波段雙面平均透過率大于96％。膜層結(jié)合牢固并有良好的耐摩擦性能。

紅外增透膜；硫化鋅；等離子輔助；雙波段增透膜

1 引言

現(xiàn)代航空技術(shù)的發(fā)展,使得高速飛行器發(fā)揮的作用越來越重要,并由此帶動了相關(guān)技術(shù)的研究和發(fā)展。高速度飛行和全天候工作是兩個主要發(fā)展方向,而高速飛行器的紅外裝置通常都需要在前視方向加裝紅外窗口以保護整個紅外系統(tǒng),這就要求前視紅外窗口可以滿足在高速度飛行和全天候作戰(zhàn)的條件下工作［1-3］。當飛行器高速飛行時,大氣中存在的水滴,灰塵,沙礫等都會和前視方向的紅外窗口發(fā)生強烈的撞擊及摩擦,造成窗口在高速飛行時承受高壓、熱沖擊以及明顯的雨蝕或者沙蝕等嚴酷的考驗。由于飛行過程中對窗口的破壞和磨損會造成非常顯著的光學性能損失,致使紅外系統(tǒng)整體性能嚴重下降,甚至工作異常,所以如何在嚴酷的環(huán)境下正常工作給應用于紅外波段窗口的物理、化學和機械性能提出了越來越高的要求［4-7］。

硫化鋅（ZnS）在紅外波段具有良好的光學性能,因此經(jīng)常用來制作紅外窗口。但是ZnS的折射率較高,在2.2左右,具有較大的剩余反射率,因此必須鍍制增透膜才能使用。而高速飛行器的特殊使用條件,又要求增透膜同時具有較好的防護能力,對基底提供保護。所以ZnS的增透膜需同時滿足增加透過率和保護基底兩個要求。

根據(jù)薄膜光學原理［8］,適當?shù)牟牧虾湍は翟O(shè)計可以有效提高透過率,降低剩余反射率,從而提高整個紅外光學系統(tǒng)的效率?；谶@種原理,科研人員開展了多方面的研究。采用化學氣相沉積法（CVD）制備的金剛石膜［9-10］或類金剛石［11］（Diamond Like Carbon,DLC）獲得了較好的保護效果,但是其光學性能稍差。磷化硼制備的薄膜具有較好的機械和光學性能［12］,但是這種材料有劇毒,制備困難。碳化鍺［13］也是一種良好的膜層材料,不過這種材料在近紅外區(qū)的吸收較大。

本文根據(jù)ZnS紅外窗口的技術(shù)要求,論述了應用于高速飛行器的0.8～1.7μm和3.7～4.8μm雙波段紅外增透膜的材料選擇、膜系設(shè)計和制備方法,并給出了相應的測試結(jié)果。

2 材料選擇

為了達到良好的使用效果,通常都是由多層薄膜構(gòu)成,這種薄膜結(jié)構(gòu)可以依據(jù)膜系設(shè)計的需要進行組合,具有保護性能好、可靠性好、不改變基底形狀、不增加額外的阻力和重量等特點。

圖1是頭罩鍍制具有保護作用的紅外增透膜前后的損傷示意圖。在沒有鍍制膜層之前,高速飛行時,雨滴和固態(tài)顆粒等直接沖擊窗口表面,窗口很快就會損傷,嚴重時會被完全破壞。鍍制了具有保護作用的紅外增透膜后,可以有效抵御雨滴和固態(tài)顆粒的破壞,窗口得到了保護,同時,光學性能損失也較小。

為了給基底提供較好的保護,紅外增透膜的最外層膜需要具有較高的硬度,同時和膜系中的其他材料能較好的匹配,結(jié)合牢固。自然界中最硬的材料是金剛石,摩氏硬度達到了10,但是金剛石不能用作膜層材料,通常使用的都是類金剛石（DLC）膜。DLC膜具有和金剛石相似的晶體結(jié)構(gòu),具有紅外透明,機械強度高,耐沙蝕、雨蝕,化學穩(wěn)定性好等類似金剛石膜的優(yōu)點,并且DLC膜的制備方法比較簡單,工藝參數(shù)易控制,沉積溫度較低,容易制備出符合預期要求結(jié)構(gòu)和性能的膜材料。和金剛石膜相比,DLC膜可以和Ge有相對較好的結(jié)合,但是和ZnS及ZnSe結(jié)合不牢。DLC膜在制備過程中也會產(chǎn)生較大的應力,當鍍制的薄膜過厚時,會產(chǎn)生龜裂,因此很難形成厚膜。除了應力的問題,DLC膜的光學吸收也比較大。

剛玉是除了金剛石外自然界中第二硬的材料,摩氏硬度達到了9。剛玉的主要成分是氧化鋁（Al2O3）,Al2O3的長波吸收限在6μm處,符合光學指標要求。作為蒸發(fā)材料的Al2O3在成膜之后,硬度比塊狀材料有所降低,但是依然可以對ZnS窗口有很好的保護作用。

技術(shù)要求需要在兩個波長較寬的紅外波段實現(xiàn)增透,因此高折射率材料應有較高的折射率以外,還應和Al2O3結(jié)合牢固,并且應力較小。最終選擇TiO2作為高折射率材料。

3 膜系設(shè)計

根據(jù)光學薄膜原理,通過不同厚度的高低折射率變換的膜層,可以實現(xiàn)某些特定波段的高透過率。

光學薄膜的膜系中的一層可以表示為：

其中矩陣稱為薄膜的特征矩陣,它包含了薄膜全部有用的參數(shù)。

由基片和薄膜的特征矩陣可以得到組合導納：

同理,對于多層膜可以得到膜系的特征矩陣為：

其中

式中

稱為第j層膜的特征矩陣。

通過式（3）可以計算膜系的透過率和吸收率。

根據(jù)以上光學薄膜理論推導出來的公式,結(jié)合數(shù)學運算,利用膜系設(shè)計軟件提供的強大優(yōu)化功能,可以通過對非規(guī)整膜系的復雜計算實現(xiàn)不同的要求。

根據(jù)技術(shù)指標要求,要實現(xiàn)雙波段的增透,需要復雜的非規(guī)整膜系。在膜系設(shè)計時,注意了以下幾個方面：

（1）層數(shù)盡量少,以減少膜系制備時的技術(shù)難度；

（2）每層的厚度不要過厚或過?。?/p>

（3）膜層的總厚度不要太大；

（4）Al2O3在最外層,有合適的厚度。

根據(jù)以上原則,在0°入射條件下,最終使用Essential Macleod軟件計算優(yōu)化的膜系設(shè)計結(jié)果見表1。第1層為緊挨空氣的最外層,第10層為膜系的最后一層,緊挨基底ZnS。

從膜系的設(shè)計結(jié)果可以看出,膜系的層數(shù)為10層,其中沒有過厚或過薄的膜層,總厚度也適中,最外層為Al2O3層,總體符合膜系設(shè)計之初提出的幾個要點。

圖2是膜系設(shè)計的結(jié)果,從圖中可知,在0.8～1.7μm剩余反射率小于2％,在3.7～4.8μm剩余反射率小于1.5％,相對于沒有鍍制增透膜時14％的剩余反射率,有了顯著降低。

4 薄膜制備

等離子輔助沉積（Plasma Ion Assisted Deposition,PIAD）技術(shù)是一種常用的光學薄膜制備技術(shù)［14］。霍爾離子源可以電離惰性氣體或反應氣體,輸出離子流密度均勻并具有較高能量的等離子體用于薄膜輔助沉積。而且霍爾離子源結(jié)構(gòu)簡單、工作穩(wěn)定、易于維護,很適合用于長時間的連續(xù)鍍膜工藝［15-16］。

基底采用國內(nèi)生產(chǎn)的ZnS材料,雙面拋光。在鍍膜之前,基底用去離子水,乙醇和石油醚分別進行10 min的超聲波清洗。基底采用拱形夾具固定,在制備之前,基底用烘烤加熱到250℃并恒溫2 h。在鍍制薄膜之前,真空度抽至小于2× 10-3Pa。蒸發(fā)材料被施加8 kV高壓的電子槍發(fā)射出的高能電子束加熱蒸發(fā)。同時在霍爾離子源通入純度為99.99％的氧氣作為工作氣體。使用Telemark公司生產(chǎn)的MDC-360C型石英晶體沉積控制儀控制薄膜的沉積厚度和沉積速率,Al2O3和TiO2的沉積速率分別為0.15和0.1 nm/s。圖3是鍍膜工藝示意圖。

5 結(jié)果與討論

使用同一鍍制流程中雙面鍍制的同種材料測試片進行相關(guān)的光譜測試和環(huán)境實驗性測試,在光譜測試中測試了ZnS基底的透過率作為對比。

使用Perkin Elmer公司的Lambda 900型分光光度計測試0.8～1.7μm的近紅外波段透過率。測試結(jié)果如圖4所示。

使用Perkin Elmer公司的Spectrum GX型傅里葉變換紅外光譜儀測試3.7～4.8μm的中波紅外波段透過率。測試結(jié)果如圖5所示。

在0.8～1.7μm的近紅外波段,雙面鍍制增透膜后平均透過率大于95％；在3.7～4.8μm的中波紅外波段,雙面鍍制增透膜后平均透過率大于96％。ZnS基底相對于沒有鍍制增透膜前透過率提高了22％以上,在近紅外波段和中波紅外波段都起到了良好的增透效果。

除了透過率外,膜層的結(jié)合力、耐摩擦性能及環(huán)境適應性也是重要的指標。牢固性和重摩擦實驗測試結(jié)果見表2。

6 結(jié)論

針對高速飛行器應用的ZnS窗口,進行了近紅外波段和中波紅外波段的雙波段增透膜研究,闡述了材料選擇、膜系設(shè)計和制備方法等方面。最終使用等離子輔助沉積技術(shù)制備了相關(guān)膜系。測試結(jié)果表明：ZnS窗口雙面鍍制增透膜后在0.8～1.7μm波段雙面平均透過率大于95％,在3.7～4.8μm波段雙面平均透過率大于96％,達到了設(shè)計要求。同時該膜層同基底結(jié)合牢固并具有良好的耐摩擦性能。

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Fabrication of hard infrared anti-reflection coating with broadband in the wavelength of 0.8-1.7μm and 3.7-4.8μm based on oxidematerial

WANG Tong-tong1,2
（1.Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences,Changchun 130033,China；2.Key Laboratory of Optical System Adυanced Manufacturing Technology,Chinese Academy of Sciences,Changchun 130033,China）
*Corresponding author,E-mail：wangtongtong@126.com

This paper demonstrates the design and fabrication of the dual-band antireflection coating in 0.8-1.7μm and 3.7-4.8μm wavelength region at0°incident angle on the ZnS substrate based on oxidematerials.The choosing on evaporationmaterials,optical coating design and fabricationmethod,etal.are discussed in detail.The dual-band IR antireflection coating has been successfully produced by Plasma Ion Assisted Deposition（PIAD）technique on both side of the ZnS substrate.Transmittance and environment test results show that the average transmittance is larger than 95％during 0.8-1.6μm wavelength region and larger than 96％during 3.7-4.8μm wavelength region,respectively.The firm adhesion and good tribology ability have been obtained referring to the general specification for optical coatings.

IR antireflection coating；ZnS；Plasma Ion Assisted Deposition（PIAD）；dual-band antireflection coating

O484；TN304

A

10.3788/CO.20140705.0816

2095-1531（2014）05-0816-07

2014-05-11；

2014-07-18

國家自然科學基金資助項目（No.60478035）

王彤彤（1979-）,男,吉林長春人,博士,副研究員,2002年于延邊大學獲得學士學位,2008年于中國科學院長春光學精密機械與物理研究所獲得博士學位,主要從事先進光學薄膜理論和制備方面的研究。E-mail：wangtongtong@126.com