陳德章 王 忱 李加余
(勝宏科技(惠州)股份有限公司,廣東 惠州 516211)
印制電路板的制作過(guò)程中,電鍍均勻性是檢驗(yàn)鍍層質(zhì)量的一個(gè)重要指標(biāo),對(duì)生產(chǎn)而言,板面鍍銅均勻性直接影響后續(xù)精細(xì)線路的制作與形成?,F(xiàn)結(jié)合實(shí)戰(zhàn)案例,對(duì)板面電鍍均勻性改善進(jìn)行分析和說(shuō)明一些方法。
(1)方案。檢測(cè)現(xiàn)行鍍銅均勻性→針對(duì)不合格的均勻性制定初步方案排查影響均勻性的主因→初步方案實(shí)施→重新檢測(cè)→針對(duì)不合格的均勻性制定有效解決方案→最終方案實(shí)施→重新檢測(cè)→報(bào)告總結(jié)。
(2)均勻性檢測(cè)時(shí)的掛板方式,如圖1。
圖1 鍍銅掛板方式
說(shuō)明:A 飛靶有效掛板長(zhǎng)度為4800 mm,缸體有效掛板深度為622 mm;B 設(shè)計(jì)掛板規(guī)格為480 mm×622 mm,共計(jì)10塊板一飛靶。
(1)檢測(cè)板面電鍍線的7#銅缸未清洗陽(yáng)極前鍍銅均勻性,數(shù)據(jù)見(jiàn)表1。
表1 板電7#銅缸鍍銅均勻性(未清洗陽(yáng)極前)
小結(jié):整飛鈀的板子無(wú)論哪一面的COV%都大于12%,分析影響原因:
①陽(yáng)極泥積累后影響板子中下部的鍍層厚度,導(dǎo)致中下部鍍層偏薄;
②夾點(diǎn)位置陽(yáng)極擋網(wǎng)不能起到有效阻隔電場(chǎng)線的作用,導(dǎo)致夾點(diǎn)位置高電位區(qū)域鍍層偏厚;
③陽(yáng)極擺放太靠近缸體邊緣,導(dǎo)致飛靶邊緣的板子鍍層厚度較厚。
(2)針對(duì)性改善措施。
①對(duì)該銅缸的陽(yáng)極及陽(yáng)極袋進(jìn)行清洗,去除陽(yáng)極泥堵塞陽(yáng)極袋的影響;
②制作簡(jiǎn)易PP陽(yáng)極擋板,對(duì)夾點(diǎn)位置相對(duì)應(yīng)的陽(yáng)極進(jìn)行遮擋,有效阻隔高電位區(qū)電場(chǎng)線,見(jiàn)下圖2(圖中紅色射線為電場(chǎng)線)。
圖2 銅缸陽(yáng)極與陰板排列
③對(duì)所有陽(yáng)極籃進(jìn)行重新排布,邊緣陽(yáng)極籃由原來(lái)距缸壁約20 cm調(diào)整至30 cm(即陽(yáng)極籃整體向飛靶中間收縮),見(jiàn)下圖3(電鍍缸俯視圖)。
圖3 銅缸陽(yáng)極與陰板排列俯視圖
(3)初步方案(清洗陽(yáng)極和加入陽(yáng)極擋板)實(shí)施后,檢測(cè)7#銅缸鍍銅均勻性,數(shù)據(jù)見(jiàn)表2。
(4)最終方案(清洗陽(yáng)極,加入陽(yáng)極擋板并重新排布陽(yáng)極)實(shí)施后,重新檢測(cè)7#銅缸鍍銅均勻性,數(shù)據(jù)見(jiàn)表3。
(1)依據(jù)測(cè)試結(jié)果看,影響鍍銅均勻性原因歸根結(jié)底為電場(chǎng)線分布不均勻;
表2 板電7#銅缸鍍銅均勻性(清洗陽(yáng)極及加入陽(yáng)極擋板后)
表3 板電線7#銅缸鍍銅均勻性(清洗陽(yáng)極及加入陽(yáng)極擋板并調(diào)整陽(yáng)極距離后)
(2)根據(jù)庫(kù)倫定律及電場(chǎng)分布特性,ME對(duì)設(shè)備及物料作出整改,從而均衡電鍍過(guò)程中的電場(chǎng)分布及高低電位區(qū)電量,最終解決了鍍銅均勻性不佳的問(wèn)題;
(3)我公司板面電鍍線鍍銅均勻性改善措施如下:
①所有缸體陽(yáng)極的擺放重新排布,保證邊緣陽(yáng)極籃距缸壁30cm;
②所有電鍍銅缸要求設(shè)置PP陽(yáng)極擋板;
③陽(yáng)極銅球及陽(yáng)極袋要求按3月/次的頻率定期清洗。