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        ICP-AES測定金屬硅中的硼

        2013-10-22 06:31:18卞大勇
        天津化工 2013年1期
        關(guān)鍵詞:氫氟酸工作液容量瓶

        卞大勇

        (天津華北地質(zhì)勘查局,天津 300181)

        金屬硅是工業(yè)提純的單晶硅,主要用于生產(chǎn)有機(jī)硅、制取高純度的半導(dǎo)體材料以及配制有特殊用途的合金等。是非常重要的工業(yè)材料。硼作為金屬硅中的一項重要雜質(zhì)元素,能夠準(zhǔn)確快速地測定具有非常重要的意義。電感耦合等離子發(fā)射光譜儀(ICP-AES)現(xiàn)已得到廣泛應(yīng)用,金屬硅中鐵、鋁、鈣、鈦、錳、鎳的國家標(biāo)準(zhǔn)檢驗方法就是在對此儀器的應(yīng)用基礎(chǔ)上制定的。相較之下,ICP-MS的實際普及應(yīng)用就要略遜一籌。而且,三氟化硼極易揮發(fā),即使用微波消解或用水域控溫也難以避免有所損失。另外,消除元素干擾的基體匹配法,雖然可用,但實際操作較為繁瑣,更加不適合測試大批量的樣品。本文基于ICP-AES應(yīng)用的現(xiàn)狀探討更加適合實踐運(yùn)用的測試方法。

        1 儀器與試劑

        1.1 儀器:美國PE公司生產(chǎn)的OPTIMA 2000DV電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀。

        1.2 儀器條件:高頻頻率40MHZ;功率1.3kW;冷卻氣流量15L/min;輔助氣流量0.2L/min;載氣流量0.8L/min;溶液提升量1.5mL/min;觀察高度15mm;預(yù)燃時間15s;積分時間10s;延遲時間30s。

        1.3 試劑:硝酸(ρ=1.40 g/mL)(分析純)、氫氟酸(ρ=1.13 g/mL)(分析純)、水:蒸餾水;高純二氧化硅(純度99.99%)。

        1.4 鐵標(biāo)準(zhǔn)工作液(ρ=2mg/mL):稱2.8595g預(yù)先在600℃灼燒1h并于干燥器中冷卻至室溫的三氧化鐵置于燒杯中,加入100mL(1+1)鹽酸,低溫加熱溶解,冷卻,移入1000mL容量瓶中,定容,搖勻。

        硼儲備液(ρ=100 μg/mL):稱取硼酸(純度 99.99%)0.5719g于聚四氟乙烯燒杯中,用水溶解后移入1000mL聚四氟乙容量瓶中,以水定容,搖勻。

        硼標(biāo)準(zhǔn)工作液(ρ=5 μg/mL):分取 5mL 硼儲備液與100mL聚四氟乙容量瓶中,以水定容,搖勻。

        2 實驗步驟

        2.1 準(zhǔn)確稱取0.2000g(精確至0.0002g)試樣小心置于50mL聚四氟乙容量瓶中(隨同做空白試驗),用少量水沖洗瓶口,加入5mL硝酸,輕微搖晃使試樣盡量散開并與試劑盡量均勻接觸,緩慢加入2.5mL氫氟酸,隨即把瓶蓋輕放于瓶口上,待試樣與試劑反應(yīng)結(jié)束并冷卻至室溫后,定容并搖勻試液。

        2.2 曲線:分別分取0mL,1mL,2.5mL,5mL硼標(biāo)準(zhǔn)工作液與50mL聚四氟乙容量瓶中,以下步驟同2.1。

        2.3 分取1mL鐵標(biāo)準(zhǔn)工作液與50mL聚四氟乙容量瓶中,以下步驟同2.1。

        3 結(jié)構(gòu)與討論

        3.1 譜線選擇:在可選的4條譜線中,208.957nm和208.889nm,雖然干擾較小,但靈敏度低,檢出線高,造成的分析結(jié)果偏差較大。而249.677nm和249.772nm,雖然干擾較大,但靈敏度高且檢出線低,分析結(jié)果偏差較小。故本文選用249.772nm作為分析線(2)。

        3.2 精密度試驗:稱取同一金屬硅試樣分別進(jìn)行11次獨立實驗和分析測定,對11次結(jié)果計算其相對標(biāo)準(zhǔn)偏差為2.09%,數(shù)據(jù)如下:

        3.3 準(zhǔn)確度試驗:本文采用加標(biāo)回收方法來驗證本實驗方法的準(zhǔn)確度,數(shù)據(jù)見表1。

        表1

        3.4 干擾試驗

        金屬硅中雜質(zhì)含量處于微量或痕量級別,且在硼元素周圍對其有干擾作用的元素主要為鐵和錫,而錫的含量極低影響可以忽略。而金屬硅中一般會殘存一定量的鐵;另外為了避免硼的揮發(fā),不能加熱蒸發(fā)驅(qū)趕硅和氫氟酸,因此溶液中有大量的硅質(zhì)存在。

        3.4.1 硅的干擾

        以高純二氧化硅制成基體空白試液,對其測試分析結(jié)果表明硅對硼造成的影響低于檢出線,故可以忽略不計。

        3.4.2 鐵的干擾

        由于金屬硅中一般會殘存一定量的鐵,且鐵對硼的譜線干擾較為明顯。而一般采用的基體匹配法應(yīng)用較為繁瑣,得先準(zhǔn)確測定干擾元素的含量,然后再按干擾元素含量匹配,較為繁瑣。尤其不適合大批量樣品的應(yīng)用測試,因為每個樣品的干擾元素含量均不同。所以本文采用ICP-AES中的干擾元素校正程序IEC對鐵的干擾加以消除??梢允∪ゲ槐匾膶嶒灢襟E,提高效率。因金屬硅中的鐵含量極少情況下超過1%,故采用2.3試液建立IEC模型。

        4 結(jié)論

        本文采用氫氟酸和硝酸直接在聚四氟乙烯容量瓶中溶解樣品,最大限度的避免了樣品沾污和揮發(fā)損失,并用干擾元素校正程序IEC替代傳統(tǒng)的基體匹配法,方便快捷,實用性強(qiáng)。結(jié)果表明回收率為96%~104%,相對標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD)(n=11):2.09%,數(shù)據(jù)較為理想。本方法準(zhǔn)確快速,易于實際運(yùn)用。

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