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        MOEMS阿達(dá)瑪變換光譜儀的可動(dòng)光柵光開關(guān)陣列

        2013-07-25 03:36:46岳秋琴張智海
        中國機(jī)械工程 2013年11期
        關(guān)鍵詞:反射面光譜儀光柵

        岳秋琴 張智海 余 華

        1.重慶電子工程職業(yè)學(xué)院,重慶,401331

        2.重慶大學(xué)新型微納器件與系統(tǒng)技術(shù)國防重點(diǎn)學(xué)科實(shí)驗(yàn)室,重慶,400044

        0 引言

        阿達(dá)瑪變換(Hadamard transform,HT)光譜儀是一種新型的多通道調(diào)制型光譜儀,它具有信噪比高、掃描速度快以及光通量大等優(yōu)點(diǎn),特別適用于微弱光譜信號(hào)測量[1-2]。阿達(dá)瑪變換光譜儀的關(guān)鍵器件——HT編碼模板主要包括:機(jī)械移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)式模板、液晶空間光調(diào)制器模板、微光機(jī)電系統(tǒng) (MOEMS)光調(diào)制器模板。MOEMS光調(diào)制器模板與前兩者相比較,不僅克服了機(jī)械式模板固有的振動(dòng)和磨損誤差,而且比液晶空間光調(diào)制器模板具有更快的調(diào)制速度、更大的帶寬和更高的效率。近年來,國內(nèi)外一些專家學(xué)者對(duì)此展開了深入研究。文獻(xiàn)[3]介紹了靜電驅(qū)動(dòng)相位式微型光柵干涉儀、可調(diào)式MEMS微型可編程光柵、周期可調(diào)式的MEMS微型可編程光柵,以及基于SOI制作的周期可調(diào)式MEMS微型可編程光柵。莫祥霞等[4]從空間采樣率的角度對(duì)光譜儀器分辨率進(jìn)行分析,從而對(duì)MOEMS微鏡面陣光譜儀進(jìn)行了優(yōu)化設(shè)計(jì)。陳小來等[5]采用FPGA(現(xiàn)場可編程門陣列)+ADV212(專用圖像壓縮編解碼芯片),設(shè)計(jì)了HT光譜儀硬件實(shí)時(shí)壓縮系統(tǒng)。

        本文構(gòu)建的MOEMS可動(dòng)光柵光開關(guān)陣列利用光衍射原理,采用HT編碼模板進(jìn)行光譜儀的編碼調(diào)制,相對(duì)于其他MOEMS微鏡型的光調(diào)制器來說,它具有加工工藝較簡單、成本較低、開關(guān)速度快、光譜范圍寬等優(yōu)點(diǎn)。本文首先分析了HT光譜儀的結(jié)構(gòu)及工作原理,然后提出了可動(dòng)式光柵光開關(guān)陣列結(jié)構(gòu),并改進(jìn)了傳統(tǒng)的HT算法,最后設(shè)計(jì)了加工工藝流程,完成了器件制作,并給出了實(shí)驗(yàn)測試結(jié)果及分析。

        1 HT光譜儀結(jié)構(gòu)及工作原理

        1.1 HT光譜儀結(jié)構(gòu)

        HT光譜儀的基本結(jié)構(gòu)如圖1所示,它的工作原理如下:寬帶光源射出的光經(jīng)過準(zhǔn)直,透過采樣池和固定光柵分光,入射到MOEMS可動(dòng)光柵光開 關(guān) 陣 列 (grating moving light modulator,GMLM)上。MOEMS光柵有兩個(gè)狀態(tài):開態(tài)和關(guān)態(tài)。不同波長的光經(jīng)調(diào)制后,只有在開態(tài)下,才能經(jīng)過透鏡匯聚到單個(gè)探測器上。通過對(duì)MOEMS可動(dòng)光柵光開關(guān)陣列按照Hadamard編碼模板編程驅(qū)動(dòng),可使不同波長的光按特定組合被探測器檢測到,再利用嵌入式系統(tǒng)進(jìn)行信號(hào)解調(diào)處理,并在屏幕上顯示光譜測量結(jié)果。新型HT光譜儀具有光通量大、光譜信噪比高的優(yōu)點(diǎn),特別是應(yīng)用于近紅外譜段時(shí),可以使用單個(gè)近紅外探測器檢測,降低了成本,提高了靈敏度和集成度。

        圖1 HT光譜儀結(jié)構(gòu)圖

        1.2 可動(dòng)光柵光開關(guān)陣列結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及工作原理

        可動(dòng)光柵光開關(guān)陣列GMLM的每個(gè)像素結(jié)構(gòu)如圖2所示。

        圖2 GMLM單像素結(jié)構(gòu)圖

        頂層為可動(dòng)光柵,在其反射面上蝕刻有鏤空的光柵;中間層為懸臂梁,它作為支撐梁,用來支撐頂層反射面;頂層反射面和底層反射面之間的間距可變。當(dāng)上下電極沒有施加電壓時(shí),底層反射面與頂層光柵平面距離為nλ/2(λ為入射光波長,n為正整數(shù)),此時(shí)上下反射表面的相位差為0,±1級(jí)的能量幾乎為0,衍射能量集中在0級(jí)。當(dāng)在上下極板之間施加電壓時(shí),由此產(chǎn)生的靜電吸引力使可動(dòng)光柵光開關(guān)向下移動(dòng)λ/4,底層反射面與光柵平面的間距是(2n-1)λ/4,下反射面與可動(dòng)光柵一起構(gòu)成的矩形槽相位光柵相位差為π。由此,入射光的相位通過光柵的上下活塞式運(yùn)動(dòng)得到調(diào)制,實(shí)現(xiàn)光的開關(guān)態(tài)。

        如圖3所示,采用GMLM實(shí)現(xiàn)被分光元件色散后的光譜面的空間調(diào)制,每個(gè)像素對(duì)應(yīng)一個(gè)光通道。采用HT編碼模板來驅(qū)動(dòng)GMLM,用HT編碼“0”或“1”來表征GMLM每個(gè)像素狀態(tài)“ON”或“OFF”。當(dāng)像素狀態(tài)為“ON”時(shí),表示通過該光通道的光可以達(dá)到探測器件,對(duì)應(yīng)HT編碼模板的“1”;當(dāng)像素狀態(tài)為“OFF”時(shí),表示通過該光通道的光不能達(dá)到探測器件,而被衍射到了其他空間位置,此時(shí)對(duì)應(yīng)HT編碼模板的“0”。

        圖3 GMLM分光示意圖

        2 HT誤差補(bǔ)償算法

        2.1 原有的HT算法

        HT應(yīng)用于光譜儀中的基本公式可以表示為

        式中,W為編碼矩陣;ψ為待測光譜的光強(qiáng)值向量;η為測量光強(qiáng)值向量。

        式(1)表示所測信號(hào)光入射到編碼矩陣W的GMLM模板上,經(jīng)過模板的光調(diào)制采集到信號(hào)光的各個(gè)頻段的光強(qiáng)值,該值已經(jīng)是經(jīng)過Hadamard編碼的光譜信號(hào)的數(shù)據(jù)值了。因此,只需對(duì)式(1)進(jìn)行逆運(yùn)算就可以得到所測光譜的數(shù)值,即

        以上算法在理論上完美,但實(shí)際應(yīng)用中會(huì)出現(xiàn)問題。原有的W編碼矩陣為0和1構(gòu)成的矩陣,其物理意義分別代表對(duì)光的完全阻擋和通過。但實(shí)際上,GMLM的現(xiàn)有加工工藝使得陣列中的像素高度并非完全均勻,這使得它對(duì)某些光波段的調(diào)制并非全關(guān)和全開,這樣就會(huì)造成編碼誤差,影響復(fù)原光譜的質(zhì)量。

        2.2 適用于GMLM的HT誤差補(bǔ)償算法

        適用于GMLM的HT誤差補(bǔ)償算法基于這樣一個(gè)更合理的假設(shè)[6]:假設(shè)GMLM在“ON”態(tài)下的通光率為to,在“OFF”態(tài)下的通光率為tc,則式(1)中編碼矩陣W中的1和0應(yīng)該相應(yīng)地修改為to和tc。這樣,原有的編碼矩陣W改善為

        其中,S為Sylvester型阿達(dá)瑪編碼矩陣[7]。這樣,測量光強(qiáng)值向量可以寫成

        其中,b是一常量向量,其中的元素由下式給出:

        修正后的測量光強(qiáng)值向量可以表示為

        于是,光譜估計(jì)值可以表示為

        這個(gè)算法考慮到了阿達(dá)瑪模板中每個(gè)像素的不完美狀況,因而可以對(duì)GMLM像素不均勻造成的編碼誤差進(jìn)行較好的補(bǔ)償。整個(gè)補(bǔ)償算法如圖4所示,它具有誤差小、速度快、容易實(shí)現(xiàn)等優(yōu)點(diǎn)。

        圖4 HT誤差補(bǔ)償算法框圖

        3 GMLM的設(shè)計(jì)理論分析及加工工藝

        3.1 GMLM的吸合電壓設(shè)計(jì)分析

        GMLM的吸合電壓非常重要,它關(guān)系到器件正常工作電壓的范圍和合理的器件驅(qū)動(dòng)方式。當(dāng)施加的電壓超過器件吸合電壓時(shí),器件兩個(gè)極板會(huì)吸合在一起。設(shè)計(jì)中考慮了電容的邊緣場效應(yīng)影響,引入修正因子γ(h)[8]如下:

        式中,a為柵條寬度;t為上極板厚度;h為上下兩極板間的等效距離。

        由此得到修正后的吸合電壓公式:

        式中,A為上下極板重合部分的面積;ε0為真空介電常數(shù);ε為上極板和絕緣層間的相對(duì)介電常數(shù);deff為上下極板間的等效距離;K為等效彈性系數(shù)。

        K的計(jì)算公式如下:

        式中,E為材料的彈性模量;σ為材料的應(yīng)力;ν為泊松比;l、b1、t2分別為每個(gè)支撐梁展開后的長度、寬度、厚度。

        根據(jù)設(shè)計(jì)參數(shù),先代入式(7),求得邊緣場效應(yīng)校正系數(shù)γ(deff);然后根據(jù)式(9)求出彈性系數(shù)K;最后將上述值代入式(8),求出吸合電壓。

        3.2 GMLM加工工藝

        GMLM加工工藝采用表面濺射Al膜(其中w(Si)=1%)的微加工工藝[9],具體工藝流程如圖5所示:(a)P型100硅片進(jìn)行熱氧化,濺射Al膜,圖形化底層電極和反射面;(b)PECVD淀積SiO2,形成絕緣層;(c)涂聚酰亞胺PI,圖形化PI,形成支撐錨點(diǎn)孔;(d)濺射Al膜,形成支柱和支撐梁;(e)涂光刻膠,曝光,但不刻蝕;(f)濺射 Al膜,形成頂層反射面;(g)干法刻蝕Al膜,形成頂層光柵;(h)等離子去膠釋放梁。

        圖5 GMLM加工工藝流程圖

        加工后的芯片如圖6所示。檢查外觀,發(fā)現(xiàn)芯片上的懸空光柵形狀完整,表面光潔,無明顯應(yīng)力翹曲現(xiàn)象,光柵底部犧牲層釋放干凈,無殘?jiān)?/p>

        圖6 可動(dòng)光柵光開關(guān)陣列SEM電鏡圖

        4 測量實(shí)驗(yàn)與結(jié)果

        在信號(hào)發(fā)生器上產(chǎn)生三角波,經(jīng)過高壓驅(qū)動(dòng)器放大后,驅(qū)動(dòng)GMLM進(jìn)行動(dòng)作。讓0級(jí)或±1級(jí)衍射光通過,觀察光電探測器上接收到的光強(qiáng)響應(yīng)信號(hào)幅值大小,用示波器可觀測光強(qiáng)響應(yīng)與驅(qū)動(dòng)電壓的關(guān)系曲線,從而確定GMLM的工作電壓和吸合電壓。GMLM的驅(qū)動(dòng)波形和光強(qiáng)響應(yīng)信號(hào)如圖7所示。圖7上面第一通道波形顯示的是驅(qū)動(dòng)電壓,下面第二通道波形顯示的是與光電探測器上接收到的0級(jí)光強(qiáng)信號(hào)成正比放大的電壓信號(hào)。從波形分析可知:隨著驅(qū)動(dòng)電壓的增大,GMLM的可動(dòng)光柵會(huì)逐漸下移,從而使0級(jí)衍射光逐漸減弱。當(dāng)可動(dòng)光柵光開關(guān)下拉λ/4距離時(shí),反射面與光柵平面距離為(2n-1)λ/4,GMLM上下反射表面相位差為π,光強(qiáng)響應(yīng)最小。此時(shí)的電壓為器件的工作電壓,對(duì)應(yīng)光強(qiáng)響應(yīng)曲線的谷底。由圖7可知,當(dāng)可動(dòng)光柵光開關(guān)對(duì)達(dá)到吸合點(diǎn)時(shí),電壓會(huì)發(fā)生跳變,光強(qiáng)響應(yīng)曲線也同時(shí)發(fā)生跳變,這個(gè)電壓值稱為吸合電壓。經(jīng)多次實(shí)驗(yàn)測量分析發(fā)現(xiàn):GMLM工作電壓為8.1V,吸合電壓為9.4V,具有工作電壓較低、便于與驅(qū)動(dòng)電路兼容的優(yōu)點(diǎn)。

        圖7 GMLM驅(qū)動(dòng)電壓和光強(qiáng)響應(yīng)曲線

        GMLM吸合時(shí)間和釋放時(shí)間的測量方法如下:用信號(hào)發(fā)生器上產(chǎn)生方波,方波幅值剛好超過吸合電壓大小,然后在示波器上觀察光強(qiáng)響應(yīng)信號(hào)的上升沿和下降沿。對(duì)GMLM的一個(gè)像素進(jìn)行測量的波形如圖8所示。圖8上面第一通道波形顯示的是與光電探測器上接收到的±1級(jí)光強(qiáng)信號(hào)成正比放大的電壓信號(hào),下面第二通道波形顯示的是驅(qū)動(dòng)電壓。使用示波器的自動(dòng)測量功能,得到測量結(jié)果,器件吸合時(shí)間trise=332μs,釋放時(shí)間tfall=384μs,所以器件對(duì)方波的動(dòng)態(tài)響應(yīng)頻率為

        圖8 GMLM的吸合時(shí)間和釋放時(shí)間測量波形

        若陣列器件為100個(gè)像素,每次掃描時(shí)間為140ms,則完全滿足實(shí)時(shí)快速測量的要求。

        對(duì)GMLM進(jìn)行分光選通能力實(shí)驗(yàn),用激光和適當(dāng)?shù)墓怅@得到頻譜面上的像素點(diǎn)光斑,如圖9所示。圖9a所示為兩個(gè)相鄰像素單元未施加電壓時(shí)的0級(jí)和±1級(jí)譜,可以看出,光強(qiáng)集中在0級(jí)。圖9b所示為兩個(gè)相鄰像素單元在下拉過程中將光能衍射到±1級(jí)時(shí)的譜面情況。實(shí)驗(yàn)證明,GMLM可以進(jìn)行特定光譜波長的分光選通。

        圖9 GMLM兩個(gè)相鄰像素單元的分光選通實(shí)驗(yàn)

        5 結(jié)語

        本文提出了適用于HT光譜儀的MOEMS可動(dòng)光柵光開關(guān)陣列,分析了其結(jié)構(gòu)和工作原理,改進(jìn)了HT編碼誤差補(bǔ)償算法,減小了誤差,并在實(shí)驗(yàn)室完成了可動(dòng)光柵光開關(guān)陣列加工。實(shí)驗(yàn)測試表明,可動(dòng)光柵光開關(guān)陣列可以在低至8.1V的電壓下進(jìn)行光調(diào)制,開關(guān)頻率達(dá)到140Hz,它具有調(diào)制速度快、光譜范圍寬、機(jī)械磨損和誤差小等優(yōu)點(diǎn),完全可以滿足阿達(dá)瑪變換光譜儀的編碼要求。

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