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        激光加工硅片的膜片式法-珀干涉型光纖壓力傳感器*

        2013-04-21 01:55:34姜麗娟王少華
        傳感器與微系統(tǒng) 2013年1期
        關(guān)鍵詞:膜片硅片光纖

        劉 宇,王 萌,王 博,姜麗娟,王少華

        (1.天津大學(xué) 精密儀器與光電子工程學(xué)院,天津300072;2.天津大學(xué) 光電信息技術(shù)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,天津300072)

        0 引 言

        光纖法-珀壓力傳感器抗電磁干擾,結(jié)構(gòu)多變,體積小巧,并能夠忍受惡劣條件,廣泛應(yīng)用于航空、油井等領(lǐng)域的壓力[1]與液位[2]測(cè)量以及橋梁[3]等大型建筑物健康監(jiān)測(cè)中?;谀て姆潜菊鞴饫w法-珀干涉型[4,5]壓力傳感器由膜片直接感受壓力,與本征型光纖法-珀壓力傳感器相比,傳感器結(jié)構(gòu)多樣化[6],且在不同壓力測(cè)量場(chǎng)合可以選擇適合的膜片材料[7,8]。根據(jù)光譜法解調(diào)的要求,并結(jié)合激光加工技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)和硅材料在光學(xué)及機(jī)械方面的優(yōu)良特性,本文提出了采用激光加工硅片的膜片式光纖法-珀壓力傳感器,其制作過(guò)程快速、過(guò)程簡(jiǎn)單、操作簡(jiǎn)易,所制成的傳感器壓力響應(yīng)靈敏度有所提高[9]。

        1 傳感器原理與結(jié)構(gòu)

        對(duì)于周邊固定的圓形硅片在受均勻施加的壓力時(shí)發(fā)生變形,硅膜片上與中心點(diǎn)距離為r 處的撓度為[10]

        其中,p 為施加均勻壓力的壓強(qiáng),a 為未約束硅膜片半徑,h 為膜片厚度,E 為硅材料的楊氏模量,ν 為其泊松比。采用硅片作為膜片的膜片式光纖法-珀壓力傳感器頭的結(jié)構(gòu)示意圖如圖1。對(duì)硅片施加壓力從而引起膜片變形,使得法-珀腔長(zhǎng)在壓力變化時(shí)發(fā)生線性的變化。硅片已經(jīng)過(guò)拋光的A2 面與經(jīng)光纖刀切割的端面平整的裸單模光纖端面A3 面構(gòu)成法-珀腔的2 個(gè)反射面。光從光纖入射并經(jīng)過(guò)法-珀腔的反射后再耦合入光纖。

        圖1 膜片式光纖法-珀傳感器結(jié)構(gòu)示意圖Fig 1 Structure diagram of diaphragm-type optical fiber F-P sensor

        一般將硅片的A1 面進(jìn)行表面紋理化、即毛化處理,以消除外部雜散光的干擾和復(fù)合法-珀腔對(duì)光譜法解調(diào)的影響。設(shè)入射光的光強(qiáng)為Ii,反射耦合回光纖內(nèi)的光強(qiáng)為Io,在不考慮損耗和色散的情況下,根據(jù)多光束干涉理論[11],可知在沒(méi)有復(fù)合法-珀腔,即只有2 個(gè)反射面A2 和A3 形成法-珀腔時(shí)的法-珀腔反射率[12]

        其中,r1為A3 面的反射系數(shù),r2為A2 面的反射系數(shù),二者與反射面兩側(cè)材料有關(guān)且可根據(jù)菲涅爾定律計(jì)算,φ為參與干涉的兩光束的相位差,n 為法-珀腔折射率,L 為法-珀腔長(zhǎng),λ 為入射光波長(zhǎng)。若硅片A1 面為拋光面,則存在3 個(gè)反射面A1,A2 和A3 形成復(fù)合法珀腔,此時(shí)的法-珀腔反射率[13]

        其中,r3為A1 面的反射系數(shù),t1為A3 面的透射系數(shù),t2為 A2 面的透射系數(shù),t3為 A1 面的透射系數(shù),,i=1,2,為光束經(jīng)過(guò)第i 個(gè)法-珀腔后產(chǎn)生的相位差,Li為第i 個(gè)法-珀腔腔長(zhǎng)。

        若選取法-珀腔介質(zhì)為空氣、腔長(zhǎng)L1=90 μm,膜片材料為硅、厚度L2=120 μm,不考慮光纖傳輸損耗和色散時(shí),根據(jù)式(2)和式(4)可以分別計(jì)算出單個(gè)法-珀腔和復(fù)合法-珀腔的反射率,如圖2 所示。由圖可見(jiàn),復(fù)合腔法-珀反射率同時(shí)受到了膜片形成的法-珀腔和實(shí)際空氣法-珀腔的雙重調(diào)制。因此,一般須將硅片A1 面進(jìn)行毛化處理以消除復(fù)合法-珀腔對(duì)光譜法解調(diào)的影響,降低解調(diào)的難度。

        圖2 復(fù)合法-珀腔的反射率Fig 2 Reflections of compound F-P cavities

        2 傳感器制作

        2.1 傳感頭的激光加工制作

        對(duì)1 060 nm 波段的光,硅材料有較強(qiáng)烈的吸收。利用激光高能量、高脈沖,對(duì)物體表面按照設(shè)定的形貌和分布進(jìn)行照射,使得被照射部位的硅材料急劇升溫,發(fā)生急速融化、氣化和冷卻,在光照區(qū)域形成具有一定尺寸的凸凹的微結(jié)構(gòu),在硅膜片表面形成毛化效果[14~16]。改變激光器的參數(shù)并增加照射次數(shù),可在硅片表面留下較深的蝕刻痕跡;經(jīng)反復(fù)操作,則可將較薄的硅片切割成圓形以適合傳感器封裝。

        采用實(shí)驗(yàn)室自行搭建的Nd∶YAG 脈沖激光器和精密三維控制系統(tǒng)組成的激光加工系統(tǒng)對(duì)兩面拋光、厚度為30 μm的硅片中的一個(gè)表面進(jìn)行毛化處理。激光加工系統(tǒng)光路如圖3 所示,其中,2 個(gè)掃描振鏡分別實(shí)現(xiàn)X 方向和Y 方向的掃描,動(dòng)態(tài)聚焦鏡調(diào)整激光聚焦位置,進(jìn)行Z 向掃描,從而可完成三維結(jié)構(gòu)的加工。激光加工系統(tǒng)輸出功率、X 方向和Y 方向的激光掃描速度、聲光Q 開(kāi)關(guān)的調(diào)制頻率以及圖案的網(wǎng)格填充密度均可調(diào)。

        圖3 Nd∶YAG 脈沖激光器加工系統(tǒng)光路示意圖Fig 3 Optical path diagram of Nd∶YAG pulse laser processing system

        設(shè)定激光平均功率10 W,X 方向和Y 方向的激光掃描速度100 m/s,聲光Q 開(kāi)關(guān)的調(diào)制頻率5 kHz,網(wǎng)格填充密度0.1 mm,在硅膜片表面進(jìn)行一次掃描可以得到寬度約30 μm、深度約6 μm 的刻槽。將“正交網(wǎng)格型”圖案輸入激光加工系統(tǒng)中,放置硅片樣品并對(duì)焦,按以上參數(shù)設(shè)置后對(duì)硅膜片進(jìn)行表面紋理化處理,處理后的紋理如圖4(a)所示。設(shè)定激光平均功率20 W,X 方向和Y 方向的激光掃描速度15 m/s,聲光Q 開(kāi)關(guān)的調(diào)制頻率3 kHz,以圓形為圖案在已經(jīng)過(guò)毛化處理的硅片處反復(fù)照射9~10 次可將硅片以圓形為圖案切割下來(lái),如圖4(b)所示。

        圖4 激光加工后的硅片F(xiàn)ig 4 Si chip after laser processing

        2.2 傳感器封裝

        采用熱膨脹系數(shù)與硅材料相近的Pyrex7740 材料的玻璃毛細(xì)管作為傳感器體。其一端有約500 μm 的沉孔以便形成法-珀腔,中部鉆有直徑約127 μm 的通孔以便已去除涂覆層的裸單模光纖從中穿過(guò)。將已經(jīng)過(guò)激光毛化處理的圓形硅片其拋光一面朝向玻璃毛細(xì)管沉孔,兩者中心對(duì)齊后用Loctite 454 膠在硅片周邊小心涂抹,使其兩者粘結(jié)。將裸單模光纖從通孔另一端穿入,當(dāng)光纖端面與硅片拋光面相距約90 μm(即法-珀腔初始腔長(zhǎng),可通過(guò)光譜儀或低相干干涉儀實(shí)時(shí)測(cè)量)時(shí),在玻璃毛細(xì)管尾部涂環(huán)氧膠以固定光纖位置。最后套入松套管以對(duì)光纖進(jìn)行保護(hù)。封裝好的壓力傳感器如圖5 所示。

        圖5 封裝好的壓力傳感器Fig 5 Packaged pressure sensor

        3 壓力測(cè)試實(shí)驗(yàn)與分析

        采用高精度氣壓源提供穩(wěn)定的40 ~240 kPa 靜氣壓對(duì)已封裝好的傳感器在室溫下進(jìn)行壓力測(cè)試,每20 kPa 采集反射光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行解調(diào),并實(shí)時(shí)計(jì)算法-珀腔長(zhǎng),結(jié)果如圖6所示。傳感器壓力靈敏度為 11.9 nm/kPa,線性度為1.51%。

        圖6 氣壓40 ~240 kPa 時(shí)的法-珀腔長(zhǎng)Fig 6 Cavity length under air pressure range 40~240 kPa

        4 結(jié) 論

        本文采用Nd∶ YAG 激光加工系統(tǒng)對(duì)薄硅片進(jìn)行了表面毛化處理以消除外部雜散光的干擾和復(fù)合法-珀腔對(duì)光譜解調(diào)的影響,采用激光進(jìn)行切割處理,快速、精準(zhǔn),操作簡(jiǎn)單,適合硅膜片的規(guī)?;恐谱骱蛡鞲衅餍∨靠焖僦谱饕约把芯康膱?chǎng)合。壓力實(shí)驗(yàn)表明:在低壓范圍內(nèi)傳感器線性度良好,靈敏度達(dá)到11.9 nm/kPa。而在傳感器封裝過(guò)程中膠的使用為傳感器引入了不確定性,因此,激光熔接等技術(shù)有待應(yīng)用于光纖法-珀傳感器的封裝過(guò)程中,以進(jìn)一步完善傳感器的全激光加工封裝。

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