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        微粒的導電性對復合鍍層結(jié)構(gòu)與性能的影響

        2013-01-29 02:11:42胡紅偉李曉燕
        電鍍與環(huán)保 2013年5期
        關鍵詞:結(jié)構(gòu)

        胡紅偉, 李曉燕

        (1.河南城建學院 環(huán)境與市政工程系,河南 平頂山467036;2.河南城建學院 化學化工系,河南 平頂山467036)

        0 前言

        基于電化學原理實現(xiàn)金屬離子與不溶性固體微粒共沉積的復合電鍍,是一種新型的制備金屬基復合材料的工藝方法。與傳統(tǒng)的復合材料制備技術(shù)相比,復合電鍍具有工藝流程簡單、能耗少、成本低和操作過程容易控制等優(yōu)勢[1-2]。對于復合電鍍而言,其工藝效果受多方面因素的制約。其中微粒在鍍液中的分散狀況和所處的物理狀態(tài)是主要的影響因素之一,而這又與攪拌工藝密切相關。

        鑒于超聲波攪拌在促使微粒分散和懸浮方面能起到良好的效果,近些年,在超聲波環(huán)境下實施復合電鍍引起了業(yè)界的廣泛關注。相繼考察了超聲波功率[3]、電流密度[4-5]、微粒的粒徑及質(zhì)量濃度[6]等因素對復合鍍層結(jié)構(gòu)、硬度及耐磨性等的影響。然而截至目前,尚未見有關微粒的導電性對復合鍍層結(jié)構(gòu)與性能影響的文獻報道。針對該情況,本文開展了這方面的研究。

        1 實驗

        鍍液配方為:硫酸鎳300g/L,氯化鎳50g/L,硼酸40g/L,糖精酸鈉(共沉積促進劑和應力消除劑)1g/L。以上試劑均為分析純,用去離子水配制。鍍液的pH值約為3.8,用稀氨水溶液或稀硫酸溶液調(diào)節(jié)。陽極采用電解鎳板,陰極基底采用紫銅圓片,兩者水平正對布置。為單純研究微粒的導電性對復合鍍層結(jié)構(gòu)與性能的影響,特選用兩種直徑均為100nm的Al微粒(導電微粒)和Al2O3微粒(惰性微粒)。兩種微粒經(jīng)規(guī)范預處理去除雜質(zhì)且充分潤濕后,再按特定的質(zhì)量濃度(20g/L)加入鍍液中。電流密度采用3A/dm2,鍍液溫度保持在45℃,用磁力攪拌器控制。電沉積過程中,為避免微粒團聚,同時保證其在鍍液中盡可能懸浮且分散均勻,持續(xù)施加恒定功率(300W)的超聲波攪拌。待復合鍍層的厚度達到規(guī)定要求(約70μm)后,取出陰極,剝離鍍層。進行相關處理后,測試鍍層的結(jié)構(gòu)與性能。

        借助日本電子株式會社生產(chǎn)的JSM-5600LV型掃描電鏡觀察復合鍍層的微觀形貌,同時借助日本理學公司生產(chǎn)的D/Max 2500型X射線衍射儀測試復合鍍層的相結(jié)構(gòu)。

        復合鍍層的顯微硬度在上海光學儀器廠生產(chǎn)的HXD-1000TM型顯微硬度計上測定,加載載荷0.98N,保壓時間10s。

        復合鍍層的耐磨性實驗在美國CETR公司生產(chǎn)的UMT-3型多功能摩擦磨損試驗機上進行,采用球-盤干磨實驗方式,載荷3N,轉(zhuǎn)速400r/min。耐磨性的評價以磨損率K為指標:K=V/(F×S)。式中:V表示磨損體積,S表示滑動總行程,F(xiàn)表示載荷數(shù)。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 形貌

        圖1為Ni-Al和Ni-Al2O3兩種復合鍍層的SEM照片。由圖1可知:超聲波環(huán)境下電沉積制備的Ni-Al復合鍍層表面粗糙、平整性差;相比而言,相同工藝條件下制備的Ni-Al2O3復合鍍層的表面狀況有所改善。造成兩種復合鍍層微觀形貌差別明顯的原因在于:對于導電微粒而言,其吸附于陰極表面可增大有效沉積面積,相當于減小陰極極化,故容易形成粗大晶粒,弱化組織結(jié)構(gòu);加之微粒凸起部位容易發(fā)生電流密度的尖端分布效應(如圖2所示),因而使得復合鍍層的形貌較為粗糙。而對于惰性微粒而言,其在陰極表面吸附可起到一定的屏蔽效果,相當于增大陰極極化,因而有利于細化晶粒,改善形貌質(zhì)量[7]。

        圖1 兩種復合鍍層的SEM照片

        2.2 結(jié)構(gòu)

        圖2 復合電沉積過程中陰極表面的電流密度分布示意圖

        圖3為Ni-Al和Ni-Al2O3兩種復合鍍層的XRD圖譜。由圖3可知:Ni-Al復合鍍層存在三個衍射峰,對應的晶面指數(shù)依次為(111),(200)和(311),未呈現(xiàn)出明顯的擇優(yōu)取向;而Ni-Al2O3復合鍍層的衍射圖譜則有所不同,僅出現(xiàn)(111)和(200)兩個衍射峰,但在(200)面呈現(xiàn)出明顯的擇優(yōu)取向。這表明微粒的導電性對復合鍍層的相結(jié)構(gòu)有一定影響。其原因可能為:電鍍過程中,兩種不同性質(zhì)的微粒在陰極表面吸附,不同程度地改變了陰極過電位,從而影響了晶核生長趨向。

        圖3 兩種復合鍍層的XRD圖譜

        2.3 性能

        綜上可知,微粒的導電性對復合鍍層的形貌和結(jié)構(gòu)有一定影響。然而,結(jié)構(gòu)方面的改變是否會導致性能上存在差異,尚不清晰。為進一步考察微粒的導電性對復合鍍層性能的影響,分別借助顯微硬度計和摩擦磨損試驗機測定了Ni-Al和Ni-Al2O3兩種復合鍍層的顯微硬度和耐磨性。結(jié)果顯示:前者的顯微硬度約為3 140MPa,較后者的3 760MPa偏低。結(jié)合前文所述,從兩者組織結(jié)構(gòu)的角度切入可解釋為:復合電鍍過程中,惰性微粒對陰極表面的屏蔽效應有利于增大陰極極化,阻礙晶粒長大,一定程度改善組織結(jié)構(gòu),從而為提高鍍層的顯微硬度創(chuàng)造有利條件。

        諸多研究表明:材料的顯微硬度越高,耐磨性越好[8-9]。但本文的測定結(jié)果顯示:顯微硬度偏高的Ni-Al2O3復合鍍層的磨損率為1.58%,較Ni-Al復合鍍層的1.61%幾乎無差別,反映出兩種復合鍍層的耐磨性幾乎持平。圖4為Ni-Al和Ni-Al2O3兩種復合鍍層磨損后的形貌。由圖4可知:兩種復合鍍層磨損后的形貌差別不明顯,這進一步證實了上述結(jié)論。

        圖4 兩種復合鍍層磨損后的形貌

        3 結(jié)論

        (1)微粒的導電性對復合鍍層的形貌、相結(jié)構(gòu)和顯微硬度均有一定影響,但對耐磨性影響不明顯。

        (2)添加惰性微粒能制備出形貌良好、結(jié)構(gòu)致密、顯微硬度較高的復合鍍層。

        [1]唐致遠,郭鶴桐.復合電鍍在國內(nèi)的應用[J].電鍍與環(huán)保,1991,11(6):14-15.

        [2]馮秋元,李廷舉,金俊澤.復合電鍍機理研究及最新進展[J].稀有金屬材料與工程,2007,36(3):559-564.

        [3]傅欣欣,劉常升,吳蒙華,等.功率超聲在納米復合電沉積中的應用[J].新技術(shù)新工藝,2004(7):42-44.

        [4]譚澄宇,鄭子樵,陳準.Ni-Al2O3納米復合電鍍工藝的初步研究[J].材料保護,2003,36(4):43-45.

        [5]鄭筱梅,楊玲,劉光兵.鎳-納米Al2O3復合電鍍的工藝研究[J].重慶師范學院學報:自然科學版,2003,20(2):40-43.

        [6]王玉林,趙乃勤,董剛.Al2O3顆粒粒徑和含量對Cu-Al2O3復合鍍層性能的影響[J].復合材料學報,1998,15(1):78-82.

        [7]郭鶴桐,張三元.復合電鍍技術(shù)[J].北京:化學工業(yè)出版社,2007.

        [8]梅建庭,劉華.Ni-P-SiC化學復合鍍層耐磨性與顯微硬度的研究[J].電鍍與涂飾,2004,23(1):10-11.

        [9]王恩澤,徐雁平,鮑崇高,等.Al2O3顆粒/耐熱鋼復合材料的制備及高溫磨料磨損性能[J].復合材料學報,2004,21(1):56-60.

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