趙小興,姜 偉,李 巍
(華中科技大學(xué)數(shù)字制造裝備與技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,湖北武漢430074)
壓電陶瓷作動(dòng)器是高精度定位中的關(guān)鍵部件,如掃描探針顯微鏡、掃描隧道顯微鏡、光學(xué)校準(zhǔn)儀、金剛石車削機(jī)床和硬盤驅(qū)動(dòng)器等[1]。它能滿足納米級(jí)定位精度,具有體積小、剛度高、響應(yīng)快等優(yōu)點(diǎn)。然而,它的響應(yīng)位移與驅(qū)動(dòng)電壓之間存在著非對(duì)稱遲滯特性,同時(shí)自身的蠕變和環(huán)境溫度的變化也會(huì)造成其定位精度的漂移。
壓電陶瓷作動(dòng)器的非對(duì)稱遲滯特性對(duì)其控制精度的影響十分顯著。為減小或消除該不利影響,目前主要有兩種解決途徑:①電荷控制[2],它需要特別設(shè)計(jì)的電荷驅(qū)動(dòng)放大器,但該放大器價(jià)格昂貴,且存在漂移和過飽和等問題,因此極大地限制了其應(yīng)用范圍;②電壓控制,需要建立非線性遲滯的數(shù)學(xué)模型,并通過逆模型前饋補(bǔ)償來提高控制精度。電壓控制逐漸成為壓電陶瓷作動(dòng)器精密控制的首選方案,其關(guān)鍵是非線性遲滯的精確建模。目前,國(guó)內(nèi)外學(xué)者分別提出了多種遲滯模型,如Preisach 模型[3-4]、Prandtl-Ishlin?skii模型[5-6]、Maxwell模型[7]、極坐標(biāo)模型[8]、Bouc-Wen模型[9-10]等。Preisach模型通過對(duì)遲滯因子的雙重積分來逼近遲滯特性,由于模型中含有二次積分項(xiàng),導(dǎo)致計(jì)算效率低,難以應(yīng)用于實(shí)時(shí)系統(tǒng)。Prandtl-Ishlinskii模型是對(duì)Preisach 模型的改進(jìn),它由多個(gè)PI 算子加權(quán)疊加組成,建模的計(jì)算量較大且容易產(chǎn)生毛刺。Maxwell模型采用輸出力和滑塊位移模擬壓電陶瓷的驅(qū)動(dòng)電壓和響應(yīng)位移,須增加彈簧滑塊的數(shù)目以提高模型精度,由此導(dǎo)致求解過程復(fù)雜、計(jì)算量大。極坐標(biāo)模型采用橢圓曲線的極坐標(biāo)方法,在獲得主遲滯環(huán)模型前提下,再根據(jù)一定的遞推公式,得到次遲滯環(huán)模型。
Bouc-Wen模型(簡(jiǎn)稱B-W模型)是利用一個(gè)具有不確定參數(shù)的非線性微分方程來描述遲滯特性,通過選擇合適的參數(shù),可以得到各種形狀的遲滯環(huán)。由于它只需要用一個(gè)輔助的非線性微分方程來描述遲滯行為,因而該方法計(jì)算效率高,實(shí)時(shí)性好,且逆模型求解十分方便。但是傳統(tǒng)B-W 模型是一個(gè)關(guān)于中心點(diǎn)嚴(yán)格對(duì)稱的模型,對(duì)于非對(duì)稱遲滯特性的擬合精度有限。
本研究基于傳統(tǒng)B-W模型,提出一種改進(jìn)的B-W模型來表征壓電陶瓷作動(dòng)器的非對(duì)稱遲滯特性,針對(duì)壓電陶瓷作動(dòng)器的非對(duì)稱遲滯特性,分別基于傳統(tǒng)B-W模型和本研究所提的改進(jìn)B-W模型,對(duì)比研究前饋補(bǔ)償、前饋加PI反饋補(bǔ)償兩種控制方法的效果。
傳統(tǒng)B-W模型是由Bouc提出并由Wen改進(jìn)的一種微分方程,它用于描述壓電陶瓷作動(dòng)器遲滯非線性的微分方程為:
式中:x(t)—壓電陶瓷輸出位移;u(t)—壓電陶瓷輸入電壓;h(t)—遲滯變量;ψ(,h)—形狀控制函數(shù);dp—壓電系數(shù);α,β,γ—形狀控制參數(shù)。
由于模型參數(shù)的限制,傳統(tǒng)B-W模型的形狀控制函數(shù)只有兩個(gè)自由度(γ-β,γ+β),它是關(guān)于中心點(diǎn)嚴(yán)格對(duì)稱的,ψ(,h)特性圖如圖1所示。如果直接用它描述非對(duì)稱遲滯現(xiàn)象,很難達(dá)到較高的擬合精度。
實(shí)驗(yàn)測(cè)試結(jié)果表明,壓電陶瓷作動(dòng)器的輸出位移與輸入電壓之間存在著較強(qiáng)的非對(duì)稱遲滯特性。因此,采用傳統(tǒng)B-W模型很難達(dá)到較高的擬合精度。為了提高模型精度,研究者必須對(duì)傳統(tǒng)B-W模型進(jìn)行改進(jìn),使其能夠模擬非對(duì)稱性遲滯特性。由前文分析得知,傳統(tǒng)B-W 模型的形狀控制函數(shù)只有兩個(gè)自由度,其中只有β的符號(hào)在不同象限內(nèi)發(fā)生變化,而γ的大小不會(huì)影響形狀控制函數(shù)自由度的數(shù)目。因此,為了增加自由度,本研究假設(shè)γ=0,并將βsgn(h)變換成βsgn(h)+?sgn()+φsgn(h),具體微分方程為:
式中:α,β,?,φ—形狀控制參數(shù);x(t),u(t),h(t),ψ(,h),dp—含義與式(1)相同。
改進(jìn)后的形狀控制函數(shù)有4個(gè)自由度( -β-?+φ,β+?+φ, -β+?-φ,β-?-φ),它既可以模擬對(duì)稱遲滯,也可以模擬非對(duì)稱遲滯,如圖1所示。因此,與傳統(tǒng)B-W 模型相比,用改進(jìn)B-W 模型來描述非對(duì)稱遲滯特性能夠達(dá)到更高的精度。
圖1 ψ(,h)特性圖
由式(2)可知,改進(jìn)B-W 模型是由5 個(gè)參數(shù)決定的,它們分別是:dp、α、β、?、φ,這5個(gè)參數(shù)為本研究需要辨識(shí)的參數(shù)。目前,辨識(shí)模型參數(shù)的方法有很多,如最小二乘法、卡爾曼濾波法、差分進(jìn)化法、遺傳算法、粒子群算法等。文獻(xiàn)[11]指出,與遺傳算法相比,粒子群算法容易實(shí)現(xiàn)且調(diào)節(jié)參數(shù)少,此外它對(duì)計(jì)算機(jī)的內(nèi)存和CPU的速度要求較低,故本研究選用粒子群算法進(jìn)行參數(shù)辨識(shí)。
為了提高粒子群優(yōu)化算法的計(jì)算效率,避免反復(fù)求解微分方程,將式(2)所示的改進(jìn)B-W 模型離散化如下:
本研究采用Shi 與Eberhart 提出的一種帶慣性權(quán)重的粒子群算法,其進(jìn)化方程為:
式中:N—種群規(guī)模;D—粒子維數(shù);i=1,2…N,j=1,2…D;其他參數(shù)的含義詳見文獻(xiàn)[12]。
本研究選用模型仿真位移xBW與實(shí)測(cè)位移xr的均方根誤差eRMS作為適應(yīng)度函數(shù),具體形式如下:
式中:n—采樣點(diǎn)數(shù)。
在辨識(shí)模型參數(shù)前,首先需要通過實(shí)驗(yàn)測(cè)試得到一組壓電陶瓷作動(dòng)器的電壓—位移曲線,再利用該曲線進(jìn)行參數(shù)辨識(shí)。本研究首先由NI-PXI 測(cè)試平臺(tái)產(chǎn)生一個(gè)正弦信號(hào)u(t)=5+5sin(0.2πt-π/2),經(jīng)過驅(qū)動(dòng)電源放大處理(放大倍數(shù)為15倍),輸出給壓電陶瓷作動(dòng)器(PST 150),壓電陶瓷作動(dòng)器產(chǎn)生伸縮變形,并由激光位移傳感器(LK30,分辨率為10 nm)獲取該伸縮信號(hào),同時(shí)由NI-PXI 測(cè)試平臺(tái)將信號(hào)采集(采樣頻率為100 Hz)并保存下來。本研究對(duì)采集到的信號(hào),進(jìn)行粒子群優(yōu)化算法辨識(shí),即可得到改進(jìn)B-W模型5個(gè)參數(shù)的最優(yōu)解:dp=0.1126μm/V ,α=0.0473μm/V ,β=0.0998V-1,?=-0.0977V-1,φ=-0.0028V-1(其中,eRMS=0.121 7)。利用同樣的數(shù)據(jù)和粒子群優(yōu)化算法,即可得到傳統(tǒng)B-W 模型4 個(gè)參數(shù)的最優(yōu)解:dp=0.0709μm/V ,α=0.0226μm/V ,β=0.0420V-1,γ=-0.0172V-1(其中,eRMS=0.3173)。
實(shí)測(cè)遲滯曲線、傳統(tǒng)B-W 模型遲滯曲線和改進(jìn)B-W模型遲滯曲線的對(duì)比如圖2所示。為了比較上述兩種模型的擬合精度,本研究選用了實(shí)測(cè)位移相對(duì)于仿真位移的下述3個(gè)評(píng)價(jià)指標(biāo):均方根誤差eRMS、平均絕對(duì)誤差|e|mean、最大絕對(duì)誤差|e|max。實(shí)測(cè)位移相對(duì)于上述兩種模型的仿真位移的誤差對(duì)比情況如表1所示。
圖2 遲滯曲線的擬合
表1 仿真擬合誤差比較
觀察圖2 和表1 可知,改進(jìn)B-W 模型的擬合誤差要明顯小于傳統(tǒng)B-W模型,原因在于傳統(tǒng)B-W模型是關(guān)于中心點(diǎn)嚴(yán)格對(duì)稱的,它只能用來模擬對(duì)稱遲滯特性,然而改進(jìn)B-W 模型卻能夠模擬非對(duì)稱遲滯特性,更適用于模擬壓電陶瓷作動(dòng)器的非對(duì)稱遲滯特性。
本研究對(duì)壓電陶瓷作動(dòng)器的遲滯補(bǔ)償是基于逆模型的前饋控制,即在實(shí)際壓電系統(tǒng)中串入遲滯特性的逆模型作為補(bǔ)償器,實(shí)現(xiàn)對(duì)遲滯非線性的補(bǔ)償。
基于逆模型的前饋遲滯補(bǔ)償原理如圖4中的虛線框所示。設(shè)定期望軌跡xd(t)=4.5+4.5 sin(0.2πt-π/2),經(jīng)過遲滯補(bǔ)償器計(jì)算出壓電陶瓷作動(dòng)器的控制電壓u(t)=[xd(t)+H(t)]/dp,控制電壓u(t)激勵(lì)壓電陶瓷作動(dòng)器產(chǎn)生伸縮變形,采集實(shí)際輸出軌跡xr(t),用于評(píng)價(jià)其與期望軌跡xd(t)的誤差e(t)=xr(t)-xd(t)。
本研究分別采用傳統(tǒng)B-W模型和改進(jìn)B-W模型進(jìn)行前饋補(bǔ)償控制實(shí)驗(yàn),以便對(duì)比改進(jìn)B-W模型對(duì)于前饋補(bǔ)償控制的改善效果。期望運(yùn)動(dòng)軌跡和采用上述兩種模型進(jìn)行前饋補(bǔ)償控制的實(shí)際輸出運(yùn)動(dòng)軌跡及其軌跡跟蹤誤差如圖3所示。其中,跟蹤誤差的均方根值eRMS、平均絕對(duì)值|e|mean、最大絕對(duì)值|e|max的對(duì)比如表2所示。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:與采用傳統(tǒng)B-W模型進(jìn)行前饋補(bǔ)償控制相比,采用改進(jìn)B-W模型可使誤差降低約42%。
在上一節(jié)中,經(jīng)過逆模型前饋補(bǔ)償,遲滯現(xiàn)象雖然得到了明顯抑制,但是對(duì)于高精密位移控制,其控制精度仍然不足。為了進(jìn)一步提高控制精度,本研究在前饋補(bǔ)償?shù)幕A(chǔ)上,引入比例—積分(PI)反饋控制,其控制原理如圖4所示。
圖3 前饋補(bǔ)償控制的運(yùn)動(dòng)軌跡與誤差
表2 前饋補(bǔ)償控制誤差比較
圖4 前饋補(bǔ)償結(jié)合PI反饋控制原理
首先,在實(shí)驗(yàn)前用傳統(tǒng)B-W 模型作前饋補(bǔ)償,用改進(jìn)B-W 模型代替圖4 中的壓電陶瓷作動(dòng)器進(jìn)行仿真,仿真中不斷調(diào)節(jié)參數(shù)Kp、Ti的大小,觀察誤差e(t)的變化,確定Kp和Ti的調(diào)節(jié)范圍。其次,在實(shí)驗(yàn)過程中,參考仿真時(shí)確定的參數(shù)調(diào)節(jié)范圍,可以很快得到較為理想的Kp和Ti值,從而達(dá)到較高的控制精度。
本研究采用上述兩種模型進(jìn)行前饋補(bǔ)償加PI反饋控制的軌跡跟蹤誤差的對(duì)比如圖5所示,其誤差的均方根值eRMS、平均絕對(duì)值|e|m ean、最大絕對(duì)值|e|max的對(duì)比如表3所示。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:①與單純采用前饋控制相比,采用前饋加PI反饋控制可將控制精度提高大約一個(gè)量級(jí);②與采用傳統(tǒng)B-W模型進(jìn)行前饋加PI反饋補(bǔ)償控制相比,采用改進(jìn)B-W模型可使誤差降低約20%。
圖5 前饋補(bǔ)償結(jié)合PI反饋控制的軌跡誤差
表3 前饋+PI反饋補(bǔ)償控制誤差比較
針對(duì)傳統(tǒng)B-W 模型不能準(zhǔn)確描述壓電陶瓷作動(dòng)器遲滯的非對(duì)稱性問題,本研究提出了一種改進(jìn)的B-W 模型,并采用粒子群優(yōu)化算法辨識(shí)出了模型參數(shù)。在相同的電壓輸入條件下,仿真與實(shí)驗(yàn)結(jié)果比較顯示,改進(jìn)B-W 模型的位移輸出誤差小于傳統(tǒng)B-W模型,表明改進(jìn)B-W模型對(duì)于壓電陶瓷作動(dòng)器非對(duì)稱遲滯特性的描述精度更高;在相同的期望軌跡輸入條件下,分別采用傳統(tǒng)B-W 模型和改進(jìn)的B-W 模型進(jìn)行前饋補(bǔ)償控制實(shí)驗(yàn),以及前饋加PI反饋補(bǔ)償控制實(shí)驗(yàn)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明在相同的控制方式下,采用改進(jìn)B-W模型可得到更高的軌跡跟蹤精度,并且采用基于改進(jìn)B-W模型的前饋加PI反饋控制效果更好。
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