摘要 專利分析是技術(shù)預(yù)見中一種獨(dú)特而實(shí)用的分析方法。本文以2000-2011年在我國(guó)申請(qǐng)的石墨專利為數(shù)據(jù)基礎(chǔ)，通過對(duì)國(guó)內(nèi)外在我所申請(qǐng)的石墨專利信息的統(tǒng)計(jì)分析，簡(jiǎn)述專利分析方法的應(yīng)用，用以揭示產(chǎn)業(yè)發(fā)展?fàn)顩r、判斷國(guó)內(nèi)外技術(shù)研究熱點(diǎn)、技術(shù)領(lǐng)域發(fā)展趨勢(shì)等問題。

關(guān)鍵詞 專利分析；石墨產(chǎn)業(yè)

中圖分類號(hào) TB486 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼 A 文章編號(hào) 1673-9671-（2012）122-0175-01

專利分析是針對(duì)特定領(lǐng)域內(nèi)的專利數(shù)據(jù)進(jìn)行系統(tǒng)、全面的搜集，經(jīng)過整理、篩選、加工后，利用統(tǒng)計(jì)學(xué)方法和技巧，將大量的專利信息轉(zhuǎn)化為揭示產(chǎn)業(yè)發(fā)展?fàn)顩r、走勢(shì)分析及未來預(yù)測(cè)進(jìn)而得出分析結(jié)論的方法。隨著知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)意識(shí)的加強(qiáng)、專利制度功能不斷地深入人心以及專利戰(zhàn)略的重要性日益顯現(xiàn)，揭示專利所蘊(yùn)含的大量信息的專利分析工具及方法的重要性也在不斷加強(qiáng)。專利已成為科學(xué)技術(shù)發(fā)展的重要指示器，無論是制度安排還是專利文獻(xiàn)又或者是專利產(chǎn)出，與技術(shù)創(chuàng)新的關(guān)聯(lián)體現(xiàn)出了十分緊密的關(guān)系。

1 專利分析的作用

世界技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)的日益激烈，使世界各國(guó)越來越重視專利戰(zhàn)略研究，而其核心正是專利分析。日本是世界上研究專利分析較早的國(guó)家之一，在專利分析技術(shù)及應(yīng)用方面處于世界領(lǐng)先地位，專利分析的應(yīng)用，極大程度地幫助了日本國(guó)內(nèi)的技術(shù)研發(fā)，使日本能夠在許多技術(shù)領(lǐng)域保持國(guó)際領(lǐng)先。

運(yùn)用專利分析，可以揭示石墨產(chǎn)業(yè)發(fā)展?fàn)顩r、走勢(shì)分析及未來技術(shù)創(chuàng)新焦點(diǎn)。主要包括通過對(duì)專利申請(qǐng)人、專利分類號(hào)和專利數(shù)量進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析，判斷技術(shù)研究熱點(diǎn)、技術(shù)領(lǐng)域發(fā)展趨勢(shì)、觀察產(chǎn)業(yè)某一技術(shù)領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)焦點(diǎn)并得出創(chuàng)新活躍區(qū)域；通過對(duì)專利統(tǒng)計(jì)中專利分類號(hào)、專利申請(qǐng)人、專利申請(qǐng)日、專利申請(qǐng)區(qū)域、專利所屬產(chǎn)業(yè)鏈區(qū)段等進(jìn)行組配統(tǒng)計(jì)，獲得產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀、產(chǎn)業(yè)鏈重點(diǎn)區(qū)段分布、不同年度和不同創(chuàng)新主體專利申請(qǐng)的技術(shù)動(dòng)態(tài)和特點(diǎn)、比較創(chuàng)新主體的技術(shù)開發(fā)趨勢(shì)和方向、技術(shù)分支、技術(shù)關(guān)系等狀況。

2 專利分析概況

2.1 專利整體情況

從逐年申請(qǐng)情況來看，國(guó)外在華專利申請(qǐng)存在兩個(gè)上升期（2001年～2003年、2007年～2009年）、一個(gè)波動(dòng)期（2003年～2007年）和一個(gè)下降期（2009年～2011年）。我國(guó)專利申請(qǐng)量呈逐年遞增的趨勢(shì)，2000年至2010年的專利申請(qǐng)量年均增長(zhǎng)率達(dá)到32.3%。同時(shí)，我國(guó)專利申請(qǐng)所占比例逐年上升，到2011年達(dá)到98.9%。

從專利申請(qǐng)地區(qū)分布來看，美國(guó)、日本、德國(guó)和韓國(guó)是國(guó)外在華專利申請(qǐng)的主體，四國(guó)申請(qǐng)總量占世界各國(guó)在華申請(qǐng)總量的85.1%，其中美國(guó)為37.1%，日本為28.9%，德國(guó)為10.3%，韓國(guó)為8.8%。我國(guó)專利申請(qǐng)地區(qū)分布較為廣泛，全國(guó)共有30個(gè)省市申請(qǐng)專利，但主要集中于區(qū)域創(chuàng)新能力強(qiáng)的地區(qū)。

2.2 石墨專利結(jié)構(gòu)分析

2.2.1 專利申請(qǐng)主體構(gòu)成

國(guó)外在華申請(qǐng)專利以企業(yè)居多，所占比例達(dá)到88%，其次是大學(xué)的6%，研究機(jī)構(gòu)的4%，由此可見，國(guó)外企業(yè)是專利申請(qǐng)的絕對(duì)主體。與世界各國(guó)在我國(guó)申請(qǐng)專利的主體相同，我國(guó)企業(yè)亦是專利申請(qǐng)的主體，但企業(yè)申請(qǐng)的專利數(shù)占專利總數(shù)的比例僅為40.8%，遠(yuǎn)低于國(guó)外企業(yè)在華申報(bào)專利的比重。研究機(jī)構(gòu)、大學(xué)、其它的專利申請(qǐng)數(shù)量增多，所占比重分別為11.4%、31.8%、15.9%，均高于國(guó)外在華申請(qǐng)專利的比重。

2.2.2 石墨專利產(chǎn)業(yè)環(huán)節(jié)分布

世界各國(guó)在我國(guó)申請(qǐng)的專利分布在石墨深加工和應(yīng)用環(huán)節(jié)。應(yīng)用環(huán)節(jié)是國(guó)外專利的主要集中區(qū)域，占全部專利總數(shù)的85%，且石墨復(fù)合材料、石墨烯、電極＼電刷三個(gè)領(lǐng)域的專利數(shù)占應(yīng)用環(huán)節(jié)專利數(shù)的48%。深加工環(huán)節(jié)的專利則主要集中在加工工藝＼方法，所占比例為45%。

與國(guó)外在華專利申請(qǐng)相同，我國(guó)申請(qǐng)的石墨專利也主要集中在應(yīng)用環(huán)節(jié)，所占比例為73.1%。由此可見石墨應(yīng)用環(huán)節(jié)是世界各國(guó)及我國(guó)石墨產(chǎn)業(yè)高度關(guān)注的環(huán)節(jié)。在此環(huán)節(jié)，石墨烯專利數(shù)量尤其明顯，占應(yīng)用環(huán)節(jié)的29.4%，其次是石墨復(fù)合材料的14.4%、機(jī)械裝備的11.4%，電極＼電刷的比重為9.4%，較國(guó)外在華專利比重的17.4%有所降低。深加工環(huán)節(jié)的專利數(shù)量占總量的26.7%，其中79.3%集中在加工設(shè)備、加工工藝＼方法。

需要特別指出的是，從我國(guó)各產(chǎn)業(yè)環(huán)節(jié)申請(qǐng)主體結(jié)構(gòu)來看，在深加工環(huán)節(jié)，企業(yè)、科研機(jī)構(gòu)、大學(xué)和其它類的專利比重分別為45.2%、9.2%、31.5%、14.1%。在應(yīng)用環(huán)節(jié)，企業(yè)、科研機(jī)構(gòu)、大學(xué)和其它類的比重分別為39.3%、12.3%、40.0%、8.4%。由此可見，在深加工環(huán)節(jié)，企業(yè)比重高于大學(xué)，而在應(yīng)用環(huán)節(jié)，大學(xué)則略高于企業(yè)。

2.3 重點(diǎn)技術(shù)領(lǐng)域分析

通過專利IPC小類排名可知，世界各國(guó)及我國(guó)的石墨技術(shù)領(lǐng)域均集中在C01B（非金屬元素；其化合物）、H01M（用于直接轉(zhuǎn)變化學(xué)能為電能的方法或裝置，例如電池組）、C04B（石灰；氧化鎂；礦渣；水泥；其組合物，例如砂漿、混凝土或類似的建筑材料；人造石；陶瓷；耐火材料；天然石的處理）三大技術(shù)領(lǐng)域。其中，國(guó)外在C01B、H01M、C04B三大技術(shù)領(lǐng)域的專利數(shù)分別占國(guó)外在華專利申請(qǐng)總量的33.3%、17.6%、6.9%，我國(guó)在此三大技術(shù)領(lǐng)域的比例分別為19.7%、7.4%、4.7%。尤其是H01M技術(shù)領(lǐng)域，在2011年專利申請(qǐng)總量出現(xiàn)下滑的情況下，仍然出現(xiàn)了大幅度的增長(zhǎng)，這與全球大力發(fā)展新能源技術(shù)趨勢(shì)相符。

從重點(diǎn)技術(shù)領(lǐng)域在產(chǎn)業(yè)環(huán)節(jié)的分布來看，國(guó)外在我國(guó)專利申請(qǐng)所涉及的三大重點(diǎn)技術(shù)領(lǐng)域主要分布在石墨產(chǎn)業(yè)的應(yīng)用環(huán)節(jié)，三類重點(diǎn)技術(shù)在應(yīng)用環(huán)節(jié)的比重達(dá)到82.6%。我國(guó)專利申請(qǐng)所涉及的重點(diǎn)技術(shù)領(lǐng)域同樣分布在石墨產(chǎn)業(yè)的應(yīng)用環(huán)節(jié)，但較國(guó)外機(jī)構(gòu)在應(yīng)用環(huán)節(jié)重點(diǎn)技術(shù)重視程度有所降低，比重為68.3%。與國(guó)外在華專利申請(qǐng)不同，深加工環(huán)節(jié)的加工設(shè)備在國(guó)內(nèi)關(guān)注程度更高。

2.4 專利申請(qǐng)主體主要研發(fā)方向

通過對(duì)專利申請(qǐng)機(jī)構(gòu)的排名，可以得出各申請(qǐng)主體的主要研發(fā)方向和創(chuàng)新優(yōu)勢(shì)。國(guó)外機(jī)構(gòu)申請(qǐng)的專利雖涉及眾多IPC小類，

但主要集中于C01B和H01M。我國(guó)企業(yè)在2008年才逐步重視石墨領(lǐng)域的專利申請(qǐng)，自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)意識(shí)形成較晚，研發(fā)方向較多集中在C01B技術(shù)領(lǐng)域?？蒲袡C(jī)構(gòu)近幾年專利申請(qǐng)數(shù)量雖有波動(dòng)但申請(qǐng)數(shù)量增長(zhǎng)明顯，研發(fā)方向較為分散，主要集中于C01B、H01M、C04B，與我國(guó)石墨技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)相符。我國(guó)大學(xué)的逐年專利申請(qǐng)量波動(dòng)幅度較小，也呈逐年增加趨勢(shì)，近兩年專利申請(qǐng)量大幅增長(zhǎng)，增長(zhǎng)比例高于科研機(jī)構(gòu)，且技術(shù)研究領(lǐng)域更加分散，在開展C01B、H01M、C04B等現(xiàn)階段石墨熱點(diǎn)技術(shù)研究的同時(shí)，在其它技術(shù)領(lǐng)域也有分布。

3 專利分析綜述

世界各國(guó)均將石墨產(chǎn)業(yè)的應(yīng)用環(huán)節(jié)作為石墨產(chǎn)業(yè)技術(shù)研發(fā)的重點(diǎn)對(duì)象。因此，大力發(fā)展擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)、技術(shù)先進(jìn)、附加值高、競(jìng)爭(zhēng)力強(qiáng)的高端產(chǎn)品才能有效搶占國(guó)際市場(chǎng)。我國(guó)企業(yè)專利申請(qǐng)比例雖高，但與國(guó)外企業(yè)相比仍有差距，尚未真正成為技術(shù)創(chuàng)新的主體。加快培養(yǎng)一批研發(fā)實(shí)力強(qiáng)、與產(chǎn)業(yè)發(fā)展結(jié)合緊密、競(jìng)爭(zhēng)力強(qiáng)的領(lǐng)軍型企業(yè)勢(shì)在必行。同時(shí)，合理布局石墨產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新資源，促進(jìn)大學(xué)、科研機(jī)構(gòu)和自然人的技術(shù)和成果的轉(zhuǎn)移和轉(zhuǎn)化，能夠有效促進(jìn)產(chǎn)業(yè)發(fā)展。同時(shí)，受世界新能源技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)的影響，H01M技術(shù)領(lǐng)域會(huì)受到越來越高的重視而得到快速發(fā)展。

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