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        Pb-Zn多孔電極電還原順丁烯二酸

        2012-12-29 02:31:10王森林李彩彩

        王森林,李彩彩

        (華僑大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,福建 廈門(mén) 361021)

        Pb-Zn多孔電極電還原順丁烯二酸

        在甲磺酸鍍液中電沉積Pb-Zn鍍層,采用體積分?jǐn)?shù)為10%的H2SO4腐蝕鍍層使鋅溶出,得到Pb-Zn多孔電極.通過(guò)線性掃描伏安法和恒電位階躍實(shí)驗(yàn)分析多孔Pb-Zn電極的電化學(xué)性質(zhì),表明電極對(duì)順丁烯二酸電還原合成丁二酸具有較好的電催化活性.研究無(wú)膜電合成丁二酸,探討硫酸濃度、電流密度、初始順丁烯二酸濃度、溫度對(duì)電流效率的影響,得到合適的陰極電解條件,即在硫酸濃度為1.0mol·L-1,初始順丁烯二酸濃度為1.0~1.5mol·L-1,電流密度為100mA·cm-2,反應(yīng)溫度為50~60℃時(shí),電流效率超過(guò)88%.

        Pb-Zn多孔電極;順丁烯二酸;丁二酸;電還原

        丁二酸(SA)及其酸酐分子中因含有亞甲基而具有許多獨(dú)特的性能,是合成各種復(fù)雜有機(jī)化合物的中間體,用化學(xué)方法和電化學(xué)方法都很容易通過(guò)順丁烯二酸合成丁二酸.許多傳統(tǒng)陰極材料都被曾嘗試用于電解合成丁二酸,大多數(shù)都有良好的電催化性能[1-10].電合成丁二酸的工業(yè)生產(chǎn)中,鉛是主要的陰極材料.但由于純鉛陰極質(zhì)地較軟,容易變形,而且容易產(chǎn)生局部腐蝕,縮短電極的使用壽命.因而,在硫酸介質(zhì)中電還原順丁烯二酸制備丁二酸有必要選擇適宜的陰極材料.鉛合金具有較好的綜合性能[1],李春麗[11],李則林等[12]在檸檬酸鍍液電沉積得到Pb-Zn鍍層 .然而,Pb-Zn電極作為陰極電極材料電合成丁二酸至今未有報(bào)道.多孔電極與平板電極相比,具有很高的反應(yīng)表面,有利于化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行,因而得到了廣泛的研究[13].本文通過(guò)電沉積得到Pb-Zn鍍層,利用H2SO4將Zn溶出后,得到多孔Pb-Zn鍍層,并表征了電極的結(jié)構(gòu)、電化學(xué)特性,以及電化學(xué)合成丁二酸的工藝條件.

        1 實(shí)驗(yàn)部分

        1.1 鍍液和電解液

        1)Pb-Zn電沉積鍍液 .0.060mol·L-1PbCO3,0.16mol·L-1(CH3COO)2Zn·2H2O,80mL·L-1質(zhì)量分?jǐn)?shù)70%的甲磺酸.2)基礎(chǔ)電解液.0.090mol·L-1EDTA-2Na·2H2O,0.300mol·L-1C6H5O7·H2O,0.20g·L-1明膠,0.20g·L-1氨基乙酸.

        1.2 主要儀器

        S-3500型掃描電子顯微鏡(日本Hitach公司),INCA型X射線能譜儀(英國(guó)牛津公司),D/max-rc型轉(zhuǎn)靶X射線衍射儀(日本理學(xué)公司),CHI660D型電化學(xué)工作站(上海辰華公司).

        1.3 多孔Pb-Zn電極的制備

        采用電沉積方法獲得Pb-Zn鍍層 .以鉛板為陽(yáng)極(規(guī)格:7.0cm×3.5cm×0.7cm),在室溫下進(jìn)行電鍍,控制陰極電流密度i為10~20mA·cm-2,鍍液的pH值為5.4,用質(zhì)量分?jǐn)?shù)10%的NaOH水溶液和體積分?jǐn)?shù)10%的甲磺酸調(diào)節(jié)鍍液的pH值.Pb-Zn合金鍍層經(jīng)體積分?jǐn)?shù)10%的硫酸浸泡,將Zn從鍍層中溶出,可得到多孔Pb-Zn鍍層.

        1.4 測(cè)試方法

        1)用INCA型X射線能譜儀進(jìn)行鍍層組成分析,所用基體為1.2cm×0.8cm×0.1cm的紫銅片,沉積時(shí)間約為10min.

        2)X射線衍射(XRD)實(shí)驗(yàn)在D/max-rc型轉(zhuǎn)靶X射線衍射儀上進(jìn)行,掃描速率6°·min-1,Cu的Kα射線,所用基體為1.7cm×1.7cm×0.2cm黃銅片,沉積時(shí)間約1.5h.

        3)電化學(xué)性能測(cè)試采用CHI660D型電化學(xué)工作站,參考文獻(xiàn)[13]方法進(jìn)行.在三電極體系中,以多孔1.0cm2的Pb-Zn電極和純Pb電極為工作電極,6.0cm2的Pt電極為輔助電極,飽和甘汞電極(SCE)為參比電極,電解液為1.0mol·L-1順丁烯二酸+1.0mol·L-1H2SO4溶液,溫度為40℃.

        1.5 電還原順丁烯二酸

        電還原順丁烯二酸采用1.7cm×1.7cm的多孔Pb-Zn電極為陰極,面積為2.0cm×3.0cm的鈦電極為陽(yáng)極,電解液為100mL順丁烯二酸+H2SO4溶液 .在不同的條件下采用無(wú)膜法進(jìn)行恒電流電解,電解結(jié)束后將陰極電解液冷卻,經(jīng)結(jié)晶可分離得到產(chǎn)物丁二酸,測(cè)定其熔點(diǎn)并計(jì)算電流效率.

        2 結(jié)果與討論

        2.1 多孔Pb-Zn電極的表面形貌和結(jié)構(gòu)

        在鍍液pH值為5.4和陰極電流密度為16mA·cm-2時(shí)所得Pb-Zn鍍層的表面形貌,以及Pb-Zn鍍層用體積分?jǐn)?shù)為10%的H2SO4腐蝕后相應(yīng)的表面形貌圖,分別如圖1(a),(b)所示 .從圖1(a)可知:未腐蝕前的鍍層均勻、致密.

        圖1 Pb-Zn鍍層的SEM圖Fig.1 SEM micrographs of the Pb-Zn

        在鍍液pH值為5.4和陰極電流密度為16mA·cm-2時(shí)所得Pb-Zn鍍層的表面形貌,以及Pb-Zn鍍層用體積分?jǐn)?shù)為10%的H2SO4腐蝕后相應(yīng)相應(yīng)的XRD譜圖,如圖2中譜圖a,b所示 .圖2中譜圖a只出現(xiàn)了Pb的面心立方結(jié)構(gòu)(Fm3m)和Zn的密集六方結(jié)構(gòu)(P63/mmc)的衍射峰,表明Pb-Zn鍍層是由Pb和Zn的混合物組成.圖2中譜圖b表明:腐蝕后鍍層中Pb各晶面衍射峰強(qiáng)度下降,Zn的各晶面衍射峰幾乎消失,說(shuō)明鍍層中的Zn大部分從鍍層溶出.由X射線能譜分析(EDS)表明:腐蝕前后鍍層中的Zn摩爾分?jǐn)?shù)從30%下降到5.6%.

        圖2 Pb-Zn鍍層的XRD圖Fig.2 XRD patterns of the Pb-Zn

        2.2 多孔Pb-Zn電極的電催化性能

        2.2.1 陰極極化行為分析 圖3為多孔Pb-Zn電極上的陰極極化曲線 .圖3中:曲線a,b分別為多孔Pb-Zn電極在1.0mol·L-1順丁烯二酸+1.0mol·L-1H2SO4混合溶液和空白鍍液1.0mol·L-1H2SO4溶液中的陰極極化行為;掃描速率均為1mV·s-1.無(wú)膜法電還原順丁烯二酸陰極主反應(yīng)為

        主要副反應(yīng)為析氫反應(yīng),即

        由于析氫副反應(yīng)的競(jìng)爭(zhēng),引起生成丁二酸的電流效率下降.

        通過(guò)比較可以看出:圖3中曲線a相對(duì)于曲線b在-0.360V(vs.SCE,以下相同)開(kāi)始起峰,且峰電流較高,峰電位為-0.528V,說(shuō)明多孔Pb-Zn電極在較低的陰極電位下即能對(duì)順丁烯二酸的還原具有電催化活性,且活性較高;而空白溶液在整個(gè)電位掃描范圍的還原電流很小,表明析氫副反應(yīng)幾乎沒(méi)有發(fā)生.

        圖3 多孔Pb-Zn電極上的陰極極化曲線Fig.3 Cathodic polarization curves of the Pb-Zn porous electrode

        2.2.2 小幅度恒電位階躍實(shí)驗(yàn)分析 由于電極反應(yīng)是在與電解液直接接觸的電極表面上進(jìn)行,因此電化學(xué)比表面積大小對(duì)電極反應(yīng)具有重要的影響.通過(guò)測(cè)定Pb電極和多孔Pb-Zn電極在1.0mol·L-1硫酸溶液中的小幅度恒電位階躍[13]行為,求得兩種電極的電化學(xué)表面積.在測(cè)試過(guò)程中,分別將Pb電極和多孔Pb-Zn電極在平衡電位下極化5min,然后使電極電位階躍至Δφ=-0.01V,階躍持續(xù)時(shí)間為10s,結(jié)果如圖4所示.

        圖4 小幅度恒電位階躍曲線Fig.4 Step curve of small amplitude constant potential

        根據(jù)電極表面的電量計(jì)算式Q=∫idt和電極雙電層電容計(jì)算式C=∫Q/Δφ,可以求得Pb電極和多孔Pb-Zn電極上的雙電層電容分別為32.2和52.4μF.其中:Q為電極表面的電量;i為電位階躍后響應(yīng)電流;t為電位階躍時(shí)間;C為電極雙電層電容;Δφ為階躍電位.

        以純汞的光滑表面作為基準(zhǔn),其單位面積上的微分電容C*為20μF·cm-2.由電化學(xué)面積計(jì)算式S=Cd/C*(其中Cd為雙電層電容),求得Pb電極和多孔Pb-Zn電極的電化學(xué)面積分別為1.61和2.62 cm2,表明多孔Pb-Zn電極比Pb電極具有更高的比電化學(xué)面積.即較大的電化學(xué)面積有利于降低電極的極化、電子的轉(zhuǎn)移和順丁烯二酸的電催化還原.

        2.3 電合成丁二酸的工藝條件

        2.3.1 電流密度對(duì)電流效率的影響 在反應(yīng)溫度為40℃、初始順丁烯二酸的濃度為1.5mol·L-1、硫酸濃度為1.0mol·L-1情況下,考察電流密度(ρ)對(duì)電流效率(η)的影響,結(jié)果如表1所示.

        表1 電流密度對(duì)電流效率的影響Tab.1 Effect of current density on current efficiency

        電流密度對(duì)電流效率的影響比較復(fù)雜,一般來(lái)說(shuō),增大電流密度,過(guò)電位較高的反應(yīng)電流密度增大程度較大,過(guò)電位較小的反應(yīng)電流密度增加的程度較小.隨著電流密度增加,析氫副反應(yīng)加劇,電流效率呈下降趨勢(shì).研究發(fā)現(xiàn),陰極電流密度為100mA·cm-2為宜.

        2.3.2 硫酸濃度對(duì)電流效率的影響 在反應(yīng)溫度為40℃、初始順丁烯二酸的濃度為1.5mol·L-1、電流密度為100mA·cm-2情況下,考察硫酸濃度(CH2SO4)對(duì)電流效率(η)的影響,結(jié)果如表2所示.

        從溶液微觀結(jié)構(gòu)看,硫酸濃度增大,順丁烯二酸周?chē)腍+及HSO-4數(shù)量增加,這些離子的包裹使順丁烯二酸傳遞至電極表面的阻力增加,導(dǎo)致陰極表面的反應(yīng)層中順丁烯二酸根減少,更多H+參加放電反應(yīng)(析氫反應(yīng)),結(jié)果是陰極電流效率降低.較低的酸度對(duì)陰極電流效率有利,但并非酸度越低越好.若電解質(zhì)的酸度偏小導(dǎo)致提供H+的太少無(wú)法滿足還原反應(yīng)所需的,使電解速度變慢,因此必須維持適當(dāng)?shù)乃岫?.研究結(jié)果表明:隨著硫酸濃度上升,電流效率逐漸減小,但硫酸濃度不可過(guò)低,否則將無(wú)法滿足陰極所需的H+,造成槽電壓過(guò)高 .硫酸的適宜濃度為1.0mol·L-1,若溶液中硫酸濃度大于1.0 mol·L-1,會(huì)導(dǎo)致H+濃度太高,析氫副反應(yīng)加劇,電流效率下降.

        2.3.3 順丁烯二酸濃度對(duì)電流效率的影響 在反應(yīng)溫度為40℃、電流密度為100mA·cm-2、硫酸濃度為1.0mol·L-1情況下,考察初始順丁烯二酸濃度(C0)對(duì)電流效率(η)的影響,結(jié)果如表3所示.

        原料濃度對(duì)電流效率有較大的影響 .從表3可知:隨著順丁烯二酸濃度的上升,溶液粘度增大,傳質(zhì)變的困難,使電流效率逐漸減小;但原料濃度不能過(guò)低,否則不利于主反應(yīng)(析氫副反應(yīng)加?。?實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:初始順丁烯二酸的濃度在1.0~1.5mol·L-1為最宜.

        表3 原料濃度對(duì)電流效率的影響Tab.3 Effect of initial cis-butenedioic acid concentration on current efficiency

        2.3.4 溫度對(duì)電流效率的影響 在電流密度為100mA·cm-2、原料初始濃度為1.5mol·L-1、硫酸濃度為1.0mol·L-1情況下,考察反應(yīng)溫度(θ)對(duì)電流密度(η)的影響,結(jié)果如表4所示.

        電化學(xué)反應(yīng)是在雙電層或在電極表面發(fā)生,溫度對(duì)電化學(xué)反應(yīng)顯示了特別的效果.溫度對(duì)反應(yīng)物和生成物的吸附速度、吸附平衡、擴(kuò)散速度都有影響,溫度每上升1℃,活性物質(zhì)擴(kuò)散速度增加2%.電流依賴于活性物的擴(kuò)散速度,主要是電解液粘度降低、氣泡易于上升引起湍動(dòng).因此,溫度升高可以提高電流效率;但溫度過(guò)高對(duì)反應(yīng)設(shè)備有不良影響.因此,溫度應(yīng)保持在一定范圍內(nèi),通過(guò)實(shí)驗(yàn)分析得到合適的溫度為50~60℃.

        表4 溫度對(duì)電流效率的影響Tab.4 Effect of temperature on current efficiency

        3 結(jié)論

        1)通過(guò)掃描電鏡(SEM)和X射線衍射(XRD)實(shí)驗(yàn)表明:甲磺酸鍍液中電沉積得到Pb-Zn鍍層是由鉛(Fm3m)和鋅(P63/mmc)的混合物組成 .用體積分?jǐn)?shù)為10%的H2SO4腐蝕后,鍍層中Zn溶出,形成了多孔Pb-Zn鍍層.

        2)通過(guò)陰極極化曲線表明:多孔Pb-Zn電極對(duì)順丁烯二酸的電還原具有很好的電催化活性 .由小幅度恒電位階躍求得多孔Pb-Zn電極的電化學(xué)比表面積為2.62cm2,該多孔Pb-Zn電極比純Pb電極有較大的比表面積.

        3)實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:合適的陰極電解條件為硫酸濃度1.0mol·L-1、初始順丁烯二酸濃度1.0~1.5 mol·L-1、電流密度為100mA·cm-2、反應(yīng)溫度為50~60℃,在該條件下電合成丁二酸的電流效率超過(guò)88%.

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        Electrocatalytic Reduction of Butanedioic Acid on the Porous Pb-Zn Electrode

        WANG Sen-lin,LI Cai-cai

        (College of Materials Science and Engineering,Huaqiao University,Xiamen 361021,China)

        The Pb-Zn coating was electro-plated from methyisulfonic acid bath.Then,the coating was corroded by volume fraction 10%H2SO4solution to dissolve zinc.Thus,the Pb-Zn porous electrode was prepared.Electrochemical performance of the Pb-Zn porous electrode was investigated by linear sweep voltammetry and constant potential step experiments.The obtained results show that the Pb-Zn porous electrode has an excellent electrocatalytic activity for reduction of cis-butenedioic acid to succinic acid.The electrochemical synthesis of succinic-acid technique with non-membrane cell was studied.The influence of sulphuric acid concentration,current density,initial cis-butenedicic concentration and temperature to current efficiency were discussed and the available eletrolysis conditions were obtained.The current efficiency is over 88%under the condition of 1.0mol·L-1H2SO4solution,1.0~1.5mol·L-1cis-butenedioic acid,temperature 50~60℃and the cathodic current density 100mA·cm-2.

        Pb-Zn porous electrode;cis-butenedioic acid;succinic acid;electro-reduction

        王森林,李彩彩

        (華僑大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院,福建 廈門(mén) 361021)

        O 645.54;TQ 225.152

        A

        1000-5013(2012)03-0280-05

        2011-11-19

        王森林(1962-),男,教授,主要從事電化學(xué)與新型金屬功能材料的研究.E-mail:slwang@hqu.edu.cn.

        (責(zé)任編輯:黃曉楠 英文審校:熊興泉)

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