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        晶片定位原理與算法

        2012-08-08 10:23:06耿博耘李春龍周傳月
        電子工業(yè)專用設(shè)備 2012年1期
        關(guān)鍵詞:晶片圓心輪廓

        呂 菲,耿博耘,李春龍,莫 宇,周傳月

        (中國電子科技集團公司第四十六研究所,天津 300220)

        在半導(dǎo)體材料的加工過程中,為了提高生產(chǎn)效率,大部分設(shè)備都使用自動傳片系統(tǒng),自動化程度高的設(shè)備往往實現(xiàn)片盒到片盒的傳輸。這類設(shè)備的工作過程大致相似,即進片、定位、機械手傳遞、加工、機械手傳遞、出片。由此可見定位在加工過程中占據(jù)了非常重要的位置,只有能夠?qū)崿F(xiàn)精確定位,才能很好地完成加工過程,保證晶片的加工精度[1]。自動化設(shè)備應(yīng)用較多的工序有倒角、激光打標(biāo)、光刻等。

        目前晶片定位技術(shù)主要有兩種:電子定位、電子機械定位。在定位過程中,需要找到晶片的主參考面或者定位槽(對6英寸以上晶片)。對于有參考面的晶片,電子機械定位技術(shù)應(yīng)用較多,機械定位配合電傳感器,定位精度一般可以達到100 μm范圍,這樣的精度能夠滿足光刻工藝預(yù)對準(zhǔn)要求[2]。如果要同時滿足帶定位槽和帶參考面兩種晶片的定位要求,則往往采用電子定位系統(tǒng),這是本文討論的重點。

        1 晶片輪廓特點以及識別的主要數(shù)據(jù)

        對于帶定位槽的晶片(DOTCH),如圖 1所示。沿位置8和位置4通過圓心連線,其長度記為L,將晶片直徑記為準(zhǔn),定位槽的深度記為H,則H=準(zhǔn)-L。我們可以用晶片的直徑和槽的深度反映晶片的輪廓特點。

        圖1 有定位槽的晶片示意圖

        圖2 只有主參考面的晶片示意圖

        對于只有一個參考面的晶片(OF),如圖2所示,沿位置8和位置4通過圓心連線,其長度記為B,將晶片直徑記為準(zhǔn),可以用B和準(zhǔn)反映晶片的輪廓特點。對于有兩個參考面的晶片,主參考面和次參考面之間有一定的夾角,可以用B和準(zhǔn)以及夾角反映晶片的輪廓特點。

        2 數(shù)據(jù)采集方法及數(shù)據(jù)特點

        我們以單參考面晶片為例說明判斷過程與原理。

        2.1 數(shù)據(jù)采集方法

        晶片的輪廓特點和特征值在上節(jié)已經(jīng)說明。對晶片的定位就是要得到晶片的位置信息,這些信息需要由大量數(shù)據(jù)經(jīng)過處理得到。經(jīng)過機械手傳片后,晶片進入設(shè)備坐標(biāo)系中。如圖3所示,其中B點是設(shè)備中固定位置,傳感器的位置也是固定的,只要得到晶片圓心位置A的信息、參考面EF的信息,就完成了晶片的精確定位。通過機械手將定位后的晶片精確傳送到加工工位,即可以進行晶片的精密加工[3-4]。

        圖3 晶片的數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

        在圖3所示的數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)中,固定點B是承片臺的中心,晶片由真空吸附在承片臺上[5],承片臺以一定角度旋轉(zhuǎn),同時由傳感器讀取晶片邊緣的位置信息,完成數(shù)據(jù)采集。

        2.2 數(shù)據(jù)特點

        在晶片定位中,我們需要的是晶片圓心和參考面信息,如圖3所示,通過A和B兩點做一直線,與圓相交于B1和B2,除參考面外,圖形沿AB直線對稱,參考面上任意一點與B之間的連線都比線段B B2短。

        3 數(shù)據(jù)分析及處理

        數(shù)據(jù)采集是分步進行,以承片臺旋轉(zhuǎn)一定角度獲取位置信息,信息量和數(shù)據(jù)處理精度取決于旋轉(zhuǎn)角度大小。以旋轉(zhuǎn)角為0.0036°,則完成360°采集數(shù)據(jù)量為100000。處理方法:

        輪廓識別軟件對數(shù)據(jù)處理后,得到最大值Lmax=BB2和最小值Lmin=BB1,同時記錄得到最大值和最小值旋轉(zhuǎn)角度,進而得到晶片圓心線和偏移值Δ=AB的信息。采集到的數(shù)據(jù)中,用得到最小(大)值時的旋轉(zhuǎn)角度加或減90°,就得到晶片邊緣位置對應(yīng)的距離,記為:L1=BD=BC,晶片半徑為R,,則:

        其中:L是Lmax=BB2或最小值Lmin=BB1

        同樣的數(shù)據(jù)處理,可以得到BE和BF的長度,及它們之間的夾角α=∠EBF。對三角形△EBF做垂線 BG,β1=∠EBG,β2=∠GBF,則 α=β1+β2,參考面長度 LEF=LBE×sin β1+LBF×sin β2,且 LBE×cos β1=LBF×cosβ2

        通過計算可以得到 LEF,以及 β1和 β2,進而得到B值。至此得出晶片定位需要的所有信息:R、B、Δ、∠GBA[6,7]。

        同樣的處理方法可適用于次參考面。

        4 定位系統(tǒng)組成

        要完成上述數(shù)據(jù)采集與數(shù)據(jù)處理,需要如下部件:計算機系統(tǒng)、承片臺步進電機、驅(qū)動器、位置傳感器等。位置傳感器的選擇有多種方案,列出以下兩種方案供參考:

        1)位置傳感器使用光電傳感器,該傳感器由步進電機驅(qū)動,在承片臺轉(zhuǎn)動一定角度后,步進驅(qū)動光電傳感器,由傳感器狀態(tài)記錄驅(qū)動傳感器電機的數(shù)據(jù),進而得到位置信息。

        2)采用專用傳感器以及驅(qū)動器:KEYENCE LS-7000 MICROMETER以及LS-7030傳感器。

        5 結(jié) 論

        定位系統(tǒng)是設(shè)備的一部分,在實際使用過程中,選擇的定位方法與設(shè)備要求的精度有關(guān),還要考慮設(shè)備常量以及晶片進入設(shè)備坐標(biāo)系的容差值。對于與數(shù)據(jù)處理相關(guān)的輪廓識別軟件,在實際應(yīng)用中要考慮其響應(yīng)速度、數(shù)據(jù)處理速度、軟件容錯性等多種因素。

        [1] 王學(xué)軍.對硅片自動定位方法及軟件控制原理的探討[J].電子工業(yè)專用設(shè)備,2004,33(12):63-65.

        [2] DECLERCKG.Material,processandapplication research formore moore and more than moore atIMEC[C]..ISTC/CSTIC 2009中國國際半導(dǎo)體技術(shù)研討會.上海,中國,2009:32-41.

        [3] SKUNANICHA,YAMARTINOJ,MUID,etal.Process optimizationandcontrolbasedontoo-lleveldata:advanced etch applications[J].SST,2004,47(6):104-112.

        [4] GASSER B.The future of process control systems in high performance Si based nanotechnology[C]..AEC/APC Symp.Osaka,Japan,2003.

        [5] MUI D,SASANO H,LIU W,et al.Integrated optical metrology controls pos-t etch CDs[J].Semiconductor International,2002,25(6):83-90.

        [6] 徐品烈.高速粘片機晶片工作臺的電機選型計算與運動控制[J].電子工業(yè)專用設(shè)備,2007,144(1):66-70.

        [7] 張林.DMC運動控制卡在硅片倒角機中的應(yīng)用[J].電子工業(yè)專用設(shè)備,2006,137(7):49-51.

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