朱 立,呂 平,黃微波
(1.青島理工大學功能材料研究所,山東青島 266033;2.寧波交通工程建設集團有限公司,浙江寧波 315000)
作為聚脲工程相配套的基材處理劑,是連接混凝土基層與聚脲防水層的中間層,起到承上啟下的作用。不僅需具備與基材優(yōu)異的附著力,且能夠與聚脲起到良好的黏接效果,同時還需具備修補基材表面缺陷等優(yōu)異的施工效果[1]。
環(huán)氧類基材處理劑由于附著力性能高等特點而被廣泛使用,也成為聚脲施工的主要處理劑。然而,其冬季施工效果不佳、熱應力較大,導致冬季聚脲涂層大面積脫落[2-3]。為此,本文提出一種基于聚氨酯類的基材處理劑(QTECH-112),其物理性能指標在符合《京滬高速鐵路橋混凝土橋面噴涂聚脲防水層暫行技術條件》的前提下[4],研究基材處理層平面熱應力變化情況,采用靜態(tài)應變儀,測試其常溫、低溫下的主應變變化規(guī)律。
采用在抗折強度、抗壓強度等物理性能及泊松比、彈性模量及熱膨脹性系數上相接近的天然大理石板模擬C50高性能混凝土。在400 mm×300 mm大理石上刮涂QTECH-112類基材處理劑。表1為主要的實驗設備。
表1 主要試驗設備
涂層平面應變測試,采用靜態(tài)應變儀,使用四分之一橋路連接,大理石板中心點采取三片5 mm×30 mm應變片貼直角應變花的方式,采用摩爾應變圓計算公式,得出最大主應變ε1、最小主應變ε2和最大主應變與0°應變片(11號)水平方向線(簡稱x軸)的夾角ψ;四角采用5 mm×3 mm應變片的方式,其中1號、4號、5號、8號為橫向布置,其余為豎向布置。如圖1所示,測試在常溫20℃ ~23℃和低溫-20℃ ~18℃時,QTECH-112平面涂層應變情況,研究涂層中心點與四周的聯(lián)系與區(qū)別。
圖1 電阻應變片的平面布置圖
2.1.1 中心點主應變
20℃常溫下QTECH-112基材處理層中心點主應變變化規(guī)律如圖2所示。圖2(a)是20℃常溫下QTECH-112最大主應變ε1隨時間發(fā)展的變化規(guī)律。從圖中看到,最大主應變ε1表現(xiàn)為相對緩慢增長,微應變從0增加到15×10-6。圖2(b)是最小主應變ε2的變化規(guī)律。從中看到,隨著時間的增加,最小主應變ε2保持相對穩(wěn)定,微應變維持在-1×10-6。圖2(c)是最大主應力與x軸的夾角變化規(guī)律。圖2(c)表明最大主應力方向與x軸夾角ψ維持在-20°±2°左右。從圖2可以看出,在常溫下聚氨酯類基材處理劑維持在較低的微應變,其產生的應力忽略不計。文中或圖中相對時間0.5 s等于實際時間5 s。
圖2 常溫下QTECH-112基材處理層中心點主應變變化規(guī)律
2.1.2 四角微應變
圖3是常溫20℃下大理石板四角的微應變變化規(guī)律。從圖3可以看出2號、4號、6號應變變化不大,其余則隨測試時間增加而相應增長,這是由于不同測點存在差異,受到邊界條件的制約不大,常溫下邊角應變呈拉伸微應變,大致保持在30×10-6,其應力應變略高于中心點。根據文獻[5-7],各點變化規(guī)律可能與所測各點自身涂層的厚度等有關。
根據以上研究結果推斷,常溫下聚氨酯類基材處理劑熱應力對于聚脲附著力幾乎不產生影響。
2.2.1 中心主應變
圖3 常溫下四角QTECH-112基材處理層應變變化規(guī)律
圖4是QTECH-112類基材處理劑在-20℃低溫條件下中心的主應變變化規(guī)律。圖4(a)是最大主應變ε1的變化規(guī)律,由圖4(a)可見,8 h內ε1在100×10-6~250 ×10-6區(qū)間波動,波動幅度大致為75 ×10-6左右,且隨持續(xù)時間的增加而增長,增加速率不大,QTECH-112基材處理劑表現(xiàn)為拉伸應變。圖4(b)為QTECH-112中心點最小主應變ε2的變化規(guī)律,8 h內一直維持在-60×10-6~0的區(qū)間波動,幅度大致為60 ×10-6,平均值為 -30 ×10-6。圖4(c)是最大主應變ε1與x軸夾角ψ的變化規(guī)律,從中可以看到40 min(相對時間120 s)后,ψ 維持在 -44°±1°范圍內,0~25 min保持在45°±1°范圍內,25~40 min在44°±1°與-44°±1°交替,可能由于前25 min基材處理劑與環(huán)境溫度未平衡有關。
圖4 低溫下QTECH-112類基材處理層中心點主應變變化規(guī)律
2.2.2 四角微應變
表2是-20℃條件下8 h后大理石四角微應變。由表2可見,8 h后四角微應變仍維持在-25×10-6~30×10-6區(qū)間內,表明四角微應變不大,這與中心點呈收縮應變和受大理石邊界條件制約,二者因素共同作用有關。
表2 大理石板四角1號~8號低溫8 h后微應變
低溫條件下,QTECH-112基材處理劑之所以呈拉伸應變狀態(tài),是因為作為一種聚氨酯類彈性體材料,自身具有大量線性柔性部分,呈無規(guī)則卷曲狀態(tài),同時其玻璃化轉變溫度低于室溫,在降溫過程中,越過玻璃化溫度轉化區(qū)時,相對于環(huán)氧體系脆性的特點,有一段應力松弛時間,能夠很好地緩解環(huán)境溫度變化所帶來的應力應變,故而其應變小于大理石基材的收縮應變[7-8],在低溫下對于聚脲的附著力影響不大。
常溫(20℃)下,聚氨酯類基材處理劑應變不大,主應變維持在0~20×10-6區(qū)間內,由此產生的熱應力較小,對聚脲附著力沒有影響。低溫(-20℃)下,8 h后,QTECH-112 基材處理劑:ε1為 245 ×10-6,ε2平均為 -29.80×10-6,1號 ~8號 ε平均值為 -57×10-6;在8 h內最大主應變從100×10-6緩慢上升到250×10-6,且 ψ 值在 40 min后,一直維持在 -44°±1°范圍內,這是因為QTECH-112作為一種彈性材料,在降溫過程中,越過玻璃化溫度轉化區(qū)時,有一段應力松弛時間,從而很好地抵消了低溫引起的熱應力。結構因素是影響基材處理劑應變的一個重要因素,在實際應用中,結構設計時應加以考慮,避免產生較大的應力應變。
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