王嵩宇，劉 劍，寧潤濤

（中國電子科技集團公司第47研究所，沈陽 110032）

1 引言

掃描電子顯微鏡（SEM）誕生以來，漸已成為人們觀察和檢測各種材料的有力工具，尤其在微米、亞微米乃至納米領(lǐng)域。在20世紀(jì)90年代初，大規(guī)模特別是超大規(guī)模集成電路的研制及生產(chǎn)中，SEM是亞微米時代關(guān)鍵尺寸（CD）控制的主要儀器。SEM在獲取微觀失效證據(jù)方面作用突出，其報告在失效分析中不可替代。它是介于透鏡和光鏡之間的一種微觀形貌觀察手段，可直接利用樣品材料表面的物理特性進行微觀成像，具有較高的放大倍數(shù)，有很大的景深，成像富有立體感，可直接觀察凹凸不平表面的細(xì)微結(jié)構(gòu)。

2 原理

SEM的基本工作原理是加速陰極所發(fā)射的電子束，聚焦后形成電子束流。這束高能電子束轟擊到樣品表面激發(fā)出各種信息，經(jīng)收集、放大后，就在熒屏上得到各種相應(yīng)的圖像。掃描電鏡主要利用二次電子像來作形貌觀察，其產(chǎn)生數(shù)量隨著原子序數(shù)的變化而變化，它主要取決于表面形貌。二次電子像可以觀察芯片表面金屬引線的短路、開路，剖面各層介質(zhì)的臺階形貌，還可用來作為圖形線條的尺寸測量等。很多電子元器件、集成電路及工藝的失效分析步驟都是首先借助SEM手段，對失效模式和機制作出基本的判定；即使不能立刻作出準(zhǔn)確判斷，整體失效分析思路也會以掃描電鏡的分析結(jié)果為依托，并作為重要圖像及基本組份數(shù)據(jù)采集平臺，然后再借助于其他實驗手段確定失效模式和機理，并提出相應(yīng)的改進方法。

圖1 電子束與物質(zhì)相互作用產(chǎn)生的信息

表1 外延最大生長速度與晶向的關(guān)系

3 方法

掃描電鏡剖面分析技術(shù)應(yīng)用到集成電路的研制與生產(chǎn)中，必須根據(jù)不同的器件、不同的工藝情況，以確定相應(yīng)科學(xué)合理的樣品制備條件。下面將所應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)手段介紹如下：

首先根據(jù)要分析的位置，用金剛刀將樣品劃斷。如果在管芯中有多個重復(fù)單元，就應(yīng)該按解理方向進行解理，半導(dǎo)體樣品的斷口不僅要求準(zhǔn)確，而且還需要進行相應(yīng)的綴飾，用以暴露所需要的結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)部分，在綴飾后要將表面或斷口清洗處理干凈，其主要目的就是最大限度地呈現(xiàn)樣品的特征信息。樣品大小必須適合設(shè)備專用樣品座尺寸，一般小樣品座直徑為3mm～5mm，大的樣品座直徑為Φ30mm～50mm，后者可以分別用來放置不同大小的樣品，樣品的高度也有限制，不同的設(shè)備有不同的要求，一般在5mm～10mm左右。

掃描電鏡對樣品的基本要求是導(dǎo)電性良好，對于那些導(dǎo)電性較差的材料，需要先進行鍍膜處理，在材料表面形成一層導(dǎo)電薄膜，既可以避免電荷積累，影響圖像質(zhì)量，也可以防止試樣的熱損傷。鍍膜的方法有兩種，一是真空鍍膜，另一種是離子濺射鍍膜。離子濺射鍍膜方式裝置結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，消耗貴金屬少，每次僅約幾毫克，濺射耗時短；而真空鍍膜方式則要半個小時以上。另外對同一種鍍膜材料來說，離子濺射鍍膜方式質(zhì)量好，能形成更細(xì)顆粒、更加致密、均勻且附著力更強的膜。

4 應(yīng)用分析實例

4.1 埋層漂移

在雙極型集成電路中，為降低NPN管收集極的串聯(lián)電阻，都需要做N+埋層，而對于有縱向結(jié)構(gòu)PNP管的電路還要在N+埋層上做P型埋層。但是埋層圖形在形成外延后會產(chǎn)生漂移，這種現(xiàn)象將導(dǎo)致光刻隔離區(qū)時無法與埋層圖形對準(zhǔn)，造成“隔不透”。外延漂移主要影響是在外延隔離上，造成島與島之間擊穿電壓為零，隔離不成功。發(fā)生埋層漂移時，部分埋層可能會與隔離槽發(fā)生短路。即使在隔離工藝正常完成的條件下，N+埋層也不易被隔離的P+擴透。因此，隔離槽底部仍有N+把相鄰的隔離相連，島與島之間擊穿電壓為零，產(chǎn)生未隔離透的現(xiàn)象。另外，反應(yīng)室型式、壓力，外延生長溫度、速率、厚度、硅源等都是影響埋層圖形漂移的因素，＜100＞比＜111＞晶相圖形畸變小。我們借助SEM剖面分析，確定埋層漂移的方向及距離，在光刻時根據(jù)這個結(jié)果對版圖進行修改，采用定向、定值套偏的方法，很好地解決了這個問題，從根本上提高了產(chǎn)品的成品率及可靠性。埋層漂移見圖2。其中照片（a）為未采用套偏時埋層與隔離的相對位置，照片（b）為套偏后埋層與隔離的相對位置。如果產(chǎn)品設(shè)計時埋層與隔離之間的尺寸寬余，可不必校正，正常的隔離工藝也不會造成埋層與隔離島相連。對于埋層與隔離之間尺寸要求苛刻的電路則必須采用埋層漂移套偏，否則會造成功能失效。

圖2 SEM照片

4.2 MEMS器件

MEMS（微型機電系統(tǒng)）是在半導(dǎo)體技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一門新型科學(xué)技術(shù)，涉及各學(xué)科的交叉以及多種工藝的應(yīng)用。MEMS電路大多數(shù)都是由復(fù)合薄膜構(gòu)成，通過薄膜腐蝕及犧牲層釋放實現(xiàn)。因為在工藝過程中產(chǎn)生殘余應(yīng)力，造成結(jié)構(gòu)形狀、尺寸發(fā)生變化，過大的殘余應(yīng)力致使MEMS器件發(fā)生翹曲破壞。因此，研究MEMS器件殘余應(yīng)力是相當(dāng)重要的問題。圖3（a）是微橋電路，上部是橋面結(jié)構(gòu)，下面是電路部分，該位置同時顯示了這兩部分結(jié)構(gòu)，并且定位了因為殘余應(yīng)力斷裂開的懸臂梁，這在光學(xué)顯微鏡下是無法實現(xiàn)的。針對此問題的監(jiān)控進行了工藝改進，大大降低了去除犧牲層過程中殘余應(yīng)力的釋放，同時使懸臂梁的強度有了質(zhì)的提升，順利通過客戶驗收。對于MEMS工藝及器件的研究，SEM的高放大倍數(shù)和立體感極強的景深，是其他觀測設(shè)備無法比擬的。

4.3 PBLOCOS技術(shù)

PBLOCOS（硅局部選擇氧化法）的目的是在電路的場氧化工藝過程中減小“鳥嘴”長度，保證有源區(qū)的有效面積。隨著溝道長度的減小，器件有源區(qū)的尺寸也越來越小，用LOCOS（局部選擇氧化法）方法形成的有源區(qū)“鳥嘴”區(qū)相對太長，采用PBLOCOS工藝技術(shù)可以大幅度減小“鳥嘴”長度。在局部選擇氧化工藝中，利用氧在氮化硅中擴散緩慢，當(dāng)硅表面有一層氮化硅時，無法生成二氧化硅，只在沒有氮化硅保護的區(qū)域生長了二氧化硅層。但氮化硅薄膜沉積在硅表面時會顯出較高的應(yīng)力，因此在它下面增加了一層用來緩解應(yīng)力的預(yù)氧層，預(yù)氧層越厚，傳給硅襯底表面并會引起晶格錯位的應(yīng)力越小，但氮化硅屏蔽氧化的作用也隨之降低。因為，這時橫向氧化作用加大，有源區(qū)的“鳥嘴”就變長。在PBLOCOS技術(shù)中，用多晶硅緩沖層取代大部分二氧化硅緩沖層，并用較厚的氮化硅層作屏蔽，可以取得較好的結(jié)果。選擇等平面氧化時，通常在氮化硅與硅之間預(yù)先熱生長一層薄二氧化硅，以防止氮化硅與硅之間的應(yīng)力失配導(dǎo)致表面缺陷。但這層二氧化硅在進行選擇氧化時，會產(chǎn)生橫向氧化，二氧化硅越厚，橫向產(chǎn)生的“鳥嘴”就越大。高壓低溫氧化能夠縮短氧化時間，降低氧化溫度，有利于減小“鳥嘴”。我們則是通過降低氮化硅厚度，或在氮化硅與預(yù)氧化層之間加一層多晶硅等方法，達到上述目的。參見圖3（b）、（c）。PBLOCOS技術(shù)與CMOS工藝兼容，完全可以應(yīng)用在CMOS工藝流程中。

圖3 SEM照片2

5 結(jié)束語

隨著集成電路工業(yè)的發(fā)展，半導(dǎo)體元器件的可靠性問題已越來越引起人們的重視。對于科研生產(chǎn)來說，工藝及產(chǎn)品的失效分析具有非常重要的意義，SEM則是其中重要的技術(shù)手段，尤其在線檢測更是物盡其用。SEM常與其他分析技術(shù)結(jié)合使用，如EDX、FIB。可以大膽地設(shè)想，隨著IC加工水平向90nm、65nm乃至量子器件的邁進，整合SEM、TEM、FIB功能的半導(dǎo)體加工設(shè)備一定會在不久的將來出現(xiàn)。積累SEM技術(shù)在IC元器件微觀結(jié)構(gòu)和失效機理方面的經(jīng)驗，在隱患的缺陷演變?yōu)閱栴}之前就加以解決，最大程度避免大規(guī)模的分析調(diào)查；可為產(chǎn)品設(shè)計、工藝控制等提供科學(xué)依據(jù)，對于提高成品率、可靠性具有重要的意義。

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