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        PBX炸藥的拉伸斷裂損傷分析*

        2011-06-20 08:21:54李俊玲譚多望盧芳云
        爆炸與沖擊 2011年6期
        關(guān)鍵詞:細(xì)觀粘結(jié)劑炸藥

        李俊玲,傅 華,譚多望,盧芳云

        (1.中國工程物理研究院流體物理研究所沖擊波物理與爆轟物理重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,四川 綿陽 621900;2.國防科技大學(xué)理學(xué)院工程物理研究所,湖南 長沙 410073)

        PBX炸藥是既具有高爆炸性能又具有低感度的含能材料,在各類武器中使用廣泛。由于PBX炸藥在生產(chǎn)、運(yùn)輸和使用過程中會(huì)意外起爆,因此其安全性研究廣受關(guān)注。PBX炸藥的損傷破壞力學(xué)響應(yīng)是發(fā)生意外爆炸的起因。損傷的存在使炸藥力學(xué)性能劣化,導(dǎo)致材料破壞甚至敏化形成“熱點(diǎn)”。PBX炸藥在拉伸應(yīng)力作用下更容易發(fā)生斷裂破壞,脆性裂紋尖端釋放的機(jī)械能可能會(huì)導(dǎo)致局部加熱升溫,或產(chǎn)生新的表面引起摩擦,這些都可能引發(fā)點(diǎn)火反應(yīng),造成意外起爆[1]。因此,研究PBX炸藥的拉伸斷裂損傷特性也是PBX炸藥安全性研究的重要內(nèi)容之一。

        由于PBX炸藥結(jié)構(gòu)復(fù)雜,加工成啞鈴狀試樣進(jìn)行直接拉伸實(shí)驗(yàn)的成功率不高,也無法對(duì)啞鈴狀試樣側(cè)面進(jìn)行光學(xué)制備,以便在光學(xué)顯微鏡下觀察損傷形貌。巴西實(shí)驗(yàn)是沿徑向在圓柱形試樣的側(cè)面進(jìn)行加載,使試樣受垂直于加載方向的拉伸應(yīng)力作用直至破壞,從而達(dá)到分析研究材料的強(qiáng)度以及拉伸斷裂損傷特性的目的。自20世紀(jì)70年代以來,該實(shí)驗(yàn)就由于試樣制備要求簡單,節(jié)省材料及實(shí)驗(yàn)成本低等優(yōu)點(diǎn)得到了廣泛應(yīng)用[2]。S.J.P.Palmer[3]等早在1993年就采用巴西實(shí)驗(yàn)對(duì)多種PBX炸藥的損傷特性進(jìn)行研究,分析了材料組分對(duì)其整體力學(xué)性能及損傷特征的影響。陳鵬萬[4]也開展了PBXN-5和模擬材料的巴西實(shí)驗(yàn),證實(shí)了巴西實(shí)驗(yàn)用于炸藥材料研究的有效性和實(shí)用性。

        本文中,開展準(zhǔn)靜態(tài)巴西實(shí)驗(yàn),結(jié)合高速攝影技術(shù)和數(shù)字相關(guān)分析技術(shù),獲得巴西實(shí)驗(yàn)過程中的應(yīng)變場(chǎng)分布。對(duì)回收試樣的細(xì)觀損傷形貌進(jìn)行光學(xué)顯微觀測(cè),應(yīng)用損傷斷裂理論對(duì)某PBX炸藥的斷裂損傷特性進(jìn)行相關(guān)分析。

        1 實(shí) 驗(yàn)

        1.1 PBX炸藥的光學(xué)制備

        為獲得試樣的損傷形貌,在巴西實(shí)驗(yàn)前還需要對(duì)試樣進(jìn)行光學(xué)制備。C.B.Skidmore等[5]和P.J.Jae等[6]通過特殊的試樣生產(chǎn)和制備技術(shù),用視頻顯微鏡或偏光顯微鏡觀察能獲得較好的試樣細(xì)觀形貌。目前,國內(nèi)對(duì)PBX炸藥的細(xì)觀形貌觀察多采用掃描電鏡或者X-射線衍射技術(shù)等,這些方法雖然可以獲得一定的細(xì)觀結(jié)構(gòu)信息,但尚未能得到壓裝成型后高清晰度的晶體形貌以及與粘結(jié)劑的包覆特征。

        由于試樣是多相材料,各相的結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能差異較大,且各相的強(qiáng)度都比較低,用常規(guī)磨拋方法不但很難獲得清晰的表面形貌,而且材料表面容易受損,強(qiáng)度降低。為克服試樣結(jié)構(gòu)復(fù)雜性為磨拋工作帶來的困難,采用不同顆粒度的拋光劑與粗絨布、細(xì)絨布和精拋絨逐次配合使用的方法對(duì)試樣進(jìn)行拋光,獲得了比較清晰的炸藥細(xì)觀形貌。

        圖1為PBX炸藥的細(xì)觀形貌,從圖中可以看出,PBX炸藥晶體顆粒大小不一,形狀各異,多邊形特征比較突出。圖1(a)中的大晶體邊界非常清晰,但內(nèi)有空洞損傷,周圍分布著較小的顆粒??斩粗辆w左下角的一片區(qū)域形狀規(guī)整,顏色和邊界與主晶體不一致,可能是晶體生成過程中晶格方向發(fā)生了改變,或是壓制過程中其他晶體的嵌入所致。圖1(b)中的右下角有1個(gè)典型的孿晶炸藥晶體顆粒,旁邊還有2個(gè)完全接觸的晶體。說明壓制過程中有些晶體并未被粘結(jié)劑完全包覆,存在直接接觸。

        圖1 PBX炸藥的細(xì)觀形貌Fig.1Micro-structures of the PBX

        1.2 巴西實(shí)驗(yàn)

        根據(jù)彈性力學(xué)分析,巴西實(shí)驗(yàn)中的壓縮載荷在垂直于加載軸的各面產(chǎn)生均勻的拉伸應(yīng)力,當(dāng)該拉伸應(yīng)力超過材料的拉伸強(qiáng)度時(shí),圓盤中心會(huì)產(chǎn)生一條豎直裂紋,試樣被劈裂成兩半(見圖2)??紤]接觸的寬度,拉伸應(yīng)力可寫為[7]

        式中:P為加載于試樣上的力,L和D分別是試樣的厚度和直徑。這里,D=20mm,L=4mm,k≈1,b為接觸面的半寬,可通過對(duì)回收試樣的接觸面進(jìn)行測(cè)量獲得,b=2mm。

        用MTS試驗(yàn)機(jī)對(duì)磨拋好的試樣進(jìn)行準(zhǔn)靜態(tài)巴西實(shí)驗(yàn),為便于回收劈裂后的試樣,利用材料靜態(tài)試驗(yàn)機(jī)的加載位移速度(0.1和0.2mm/min)來控制加載。采用高速攝影技術(shù)記錄巴西實(shí)驗(yàn)過程,拍攝幅頻為3 000s-1,圖像大小為256×640像素。結(jié)合數(shù)字相關(guān)技術(shù)獲得了各個(gè)時(shí)段的應(yīng)變場(chǎng)分布。

        在不同應(yīng)力率條件下,試樣破壞時(shí)的中心拉伸應(yīng)力分別為2.91和2.82MPa(見圖3)。試樣被加載到一定程度時(shí),內(nèi)部會(huì)產(chǎn)生損傷,材料強(qiáng)度會(huì)降低。對(duì)回收試樣進(jìn)行二次加載,應(yīng)力僅為2.50MPa時(shí)試樣就出現(xiàn)了拉伸破壞(見圖3)。這說明初次加載試樣雖未出現(xiàn)宏觀損傷斷裂,但內(nèi)部存在微觀結(jié)構(gòu)的損傷,導(dǎo)致二次加載時(shí)強(qiáng)度降低。該P(yáng)BX炸藥拉伸強(qiáng)度(小于3MPa)很低,受到輕微的外界刺激即可能產(chǎn)生損傷,這就對(duì)它在生產(chǎn)運(yùn)輸中的保護(hù)提出了更高的要求。

        宏觀裂紋的演化發(fā)展過程如圖4所示,表征加載中的4個(gè)特征時(shí)段:加載前、微損傷累積、圓盤中心宏觀裂紋出現(xiàn)、裂紋擴(kuò)張。外載荷P沿y方向從圓盤頂部進(jìn)行加載。圖4(b)~(d)的時(shí)間間隔僅為0.33ms。在宏觀裂紋可見之前,試樣無明顯的宏觀變形跡象;裂紋在圓盤中心出現(xiàn),表明試樣確實(shí)是由中心拉伸導(dǎo)致破壞;一旦出現(xiàn)了宏觀裂紋,試樣會(huì)立即劈裂。

        圖5給出了各特征時(shí)段的應(yīng)變場(chǎng)分布。為獲得更多應(yīng)變信息,增加圖5(a)的等應(yīng)變曲線數(shù)目,圖中試樣破壞前中心應(yīng)變只有3×10-4,其上下左右各方均有大于1.2×10-3的區(qū)域,還有部分小區(qū)域呈壓縮狀態(tài),尚未完全形成對(duì)徑劈裂的應(yīng)變分布。裂紋出現(xiàn)后,中心應(yīng)變急劇增大到3.9×10-2,裂紋附近的顆粒加速向兩側(cè)運(yùn)動(dòng),形成一個(gè)相對(duì)的壓縮區(qū)域。于是,在x方向形成了對(duì)稱的“拉-壓-拉-壓-拉”分布(見圖5(b))。隨著裂紋繼續(xù)擴(kuò)張,端部也因應(yīng)力集中效應(yīng)出現(xiàn)小裂紋,拉伸和壓縮區(qū)域的應(yīng)變都進(jìn)一步增大(見圖5(c))。

        圖2 巴西實(shí)驗(yàn)原理示意圖Fig.2Brazilian test geometry

        圖3 拉伸應(yīng)力歷史Fig.3Tensile stress history

        圖4 裂紋演化過程Fig.4The process of the evolution of crack

        裂紋瞬時(shí)出現(xiàn)并立即擴(kuò)張,即使將拍攝幅頻提高到105s-1也很難觀測(cè)裂紋的起裂和擴(kuò)展過程。說明圓盤試樣在沿加載的直徑方向拉伸應(yīng)力分布均勻,裂紋在拉伸時(shí)有很多地方同時(shí)成核并匯聚,導(dǎo)致試樣最終劈裂,符合巴西實(shí)驗(yàn)原理的應(yīng)力分布。應(yīng)變場(chǎng)的不均勻性則體現(xiàn)了PBX炸藥的離散介質(zhì)特性。當(dāng)試樣受到加載時(shí),內(nèi)部的粘結(jié)劑小顆粒首先會(huì)通過自身的大量變形,甚至帶動(dòng)晶體顆粒的剛性運(yùn)動(dòng)以填補(bǔ)空隙等方式抵抗外界加載,形成內(nèi)部不均勻的挪移運(yùn)動(dòng)狀態(tài);裂紋出現(xiàn)后不同區(qū)域的顆粒運(yùn)動(dòng)速度不均,形成了拉-壓-拉的應(yīng)變分布。

        1.3 PBX炸藥的細(xì)觀損傷觀測(cè)

        通過光學(xué)顯微鏡對(duì)回收試樣進(jìn)行觀察,獲得以下微/宏觀裂紋的斷裂形貌特征。

        (1)試樣在應(yīng)力強(qiáng)度較小時(shí)即出現(xiàn)微裂紋,沿晶斷裂是主要的裂紋形式(見圖6(a))。圖6(b)中的裂紋左側(cè)的高亮區(qū)域表明大多數(shù)晶體已經(jīng)破碎,但微裂紋沒有從碎晶區(qū)域中穿過,說明裂紋傾向于沿著大顆粒晶體的直界面擴(kuò)展。

        圖5 x方向的應(yīng)變場(chǎng)Fig.5Strain fields along the xdirection

        (2)HMX在受壓時(shí)可通過改變晶格方向,產(chǎn)生孿晶來防止形變過大而斷裂。孿晶晶體的形成會(huì)降低晶體的強(qiáng)度,微裂紋能直接穿過晶體傳播(見圖7(a))。試樣受載后產(chǎn)生的微裂紋有可能會(huì)閉合(圖7(b)中裂紋間距變?。⒀貙\晶方向產(chǎn)生了次生裂紋(圖7(b)中箭頭所示)。在外界應(yīng)力的擠壓下微裂紋面之間會(huì)產(chǎn)生摩擦,加上次生裂紋形成釋放的能量,易導(dǎo)致局部溫升。

        圖6 微裂紋的擴(kuò)展路徑Fig.6Extension path of micro-cracks

        圖7 微裂紋閉合及次生裂紋產(chǎn)生Fig.7Close of micro-cracks and emergence of sub-cracks

        (3)顆粒直徑較大或具有初始損傷的晶體容易發(fā)生穿晶斷裂(見圖8),顆粒較小的晶體則表現(xiàn)為界面間斷裂。圖8(a)為宏觀裂紋接近末端的部位。根據(jù)考慮了接觸平臺(tái)的巴西實(shí)驗(yàn)圓盤拉伸應(yīng)力分布結(jié)果[4],該位置的應(yīng)力為中心處拉伸應(yīng)力的70%~90%,裂紋擴(kuò)展的能量相對(duì)較低,穿過晶體傳播相對(duì)困難,于是出現(xiàn)鋸齒型的穿晶路徑。而在裂紋中心附近,裂紋經(jīng)過晶體的路徑幾乎為直線(見圖8(b))。

        (4)裂紋在傳播過程中可能會(huì)產(chǎn)生分叉,出現(xiàn)斷裂橋的模式(見圖9(a))。圖9(a)上方為粘結(jié)劑受到拉伸作用變形后產(chǎn)生脫粘的拉絲現(xiàn)象(放大圖見圖9(b))。由于該P(yáng)BX炸藥的粘結(jié)劑含量較少,且模量較高,具有相對(duì)脆性,并未出現(xiàn)大量的粘結(jié)劑脫粘的現(xiàn)象[8]。

        圖8 宏觀裂紋形貌特征Fig.8Micro-features of macro-cracks

        圖9 其他裂紋擴(kuò)展現(xiàn)象Fig.9Other phenomena of cracks

        回收試樣的光學(xué)顯微觀察結(jié)果表明:在應(yīng)力較小試樣未發(fā)生劈裂時(shí)微裂紋即會(huì)出現(xiàn);穿晶斷裂路徑的曲直與外界拉伸應(yīng)力的大小有關(guān);宏觀裂紋形貌可概括為大尺寸晶體顆粒容易發(fā)生穿晶斷裂,小尺寸顆粒一般只發(fā)生界面脫粘。

        2 PBX炸藥的拉伸斷裂破壞模式分析

        目前發(fā)現(xiàn)的拉伸斷裂主要有晶體斷裂、晶體與粘結(jié)劑之間的界面脫粘、孔洞的擴(kuò)張甚至粘結(jié)劑斷裂。通常粘結(jié)劑的斷裂表面能約102J/m2[9],因此粘結(jié)劑斷裂需要外界提供很大能量,一般情況下不會(huì)發(fā)生粘結(jié)劑斷裂??锥葱纬伤璧耐饨鐟?yīng)力較低,約為基體模量的1/4[3],但孔洞擴(kuò)張卻需要較高的外界應(yīng)力支持,最終還是以裂紋的形式擴(kuò)展。下面主要分析PBX炸藥的界面脫粘斷裂和穿晶斷裂模式。

        (1)晶體斷裂

        假設(shè)晶體為均勻彈性介質(zhì),則可利用Griffith斷裂理論估算炸藥晶體發(fā)生斷裂的臨界應(yīng)力

        炸藥晶體β-HMX的斷裂韌性為62kN·m-3/2[10],c為裂紋長度的1/2。考慮極端條件,取c為最大的顆粒半徑。該炸藥的顆粒尺寸從幾微米到幾百微米不等,成β-分布,最大顆粒晶體半徑r≈200μm,得到其臨界應(yīng)力強(qiáng)度為2.47MPa。晶體穿晶斷裂的臨界應(yīng)力值與實(shí)測(cè)的試樣拉伸強(qiáng)度較為接近,試樣的宏觀破壞可能是由晶體斷裂造成的。

        (2)界面脫粘

        晶體模量比基體模量大至少3個(gè)量級(jí),臨界脫粘應(yīng)力可簡化為將彈性基體中的剛性球從基體脫離出來所需的外界應(yīng)力。D.W.Nicholson[11]利用能量守恒,預(yù)測(cè)了脫粘會(huì)在徑向拉伸達(dá)到σd的地方發(fā)生

        式中:γ為界面粘著力作功,T.Rivera等[12]研究了TATB炸藥晶體與粘結(jié)劑之間的粘著力做功在57.8~67.1mJ/m2。目前尚未發(fā)現(xiàn)對(duì)HMX的相關(guān)研究,鑒于朱偉等[13]的分子動(dòng)力學(xué)研究結(jié)果,TATB晶體與該P(yáng)BX炸藥中粘結(jié)劑的結(jié)合能大于HMX,本文中暫取γ≈50mJ/m2,v為基體的泊松比,v≈0.5,基體拉伸模量E取1.73MPa[14],對(duì)于最大顆粒半徑r≈200μm的炸藥晶體邊界,σd僅為0.034MPa。

        該P(yáng)BX炸藥的顆粒含量較高,應(yīng)采用PBX炸藥復(fù)合材料的有效模量和泊松比來代替粘結(jié)劑的彈性參數(shù)。含能晶體的模量比基體的模量大3個(gè)量級(jí),可視晶體顆粒相的楊氏模量為無窮大,臨界脫粘應(yīng)力則表示為[3]

        式中:Eb為基體彈性模量,φ為晶體顆粒體積分?jǐn)?shù)。該P(yáng)BX炸藥顆粒相體積分?jǐn)?shù)為94.15%,則得到顆粒半徑r=200μm,炸藥晶體臨界邊界脫粘為0.218MPa。可見,脫粘斷裂可在很小應(yīng)力條件下發(fā)生。

        將理論分析結(jié)果與實(shí)驗(yàn)結(jié)果結(jié)合來看,當(dāng)該P(yáng)BX炸藥受到拉伸加載時(shí),界面脫粘所需的外界應(yīng)力很小,沿晶斷裂是該P(yáng)BX炸藥的首要斷裂方式;隨著外載荷的增加,尺寸較大的晶體顆粒承受的拉伸應(yīng)力達(dá)到其臨界斷裂應(yīng)力,晶體顆粒開始發(fā)生穿晶斷裂;穿晶斷裂裂紋沿加載方向迅速傳播,試樣瞬間發(fā)生宏觀破壞。利用Griffith斷裂理論能較好預(yù)測(cè)該P(yáng)BX炸藥的斷裂行為。

        3 結(jié) 論

        (1)對(duì)某PBX炸藥進(jìn)行了巴西實(shí)驗(yàn),獲得其拉伸強(qiáng)度低于3MPa。采用高速攝影技術(shù)和數(shù)字相關(guān)技術(shù),獲得了試樣的變形及裂紋的演化過程。

        (2)發(fā)展了試樣的光學(xué)制備技術(shù),獲得了清晰的某PBX炸藥的細(xì)觀形貌。將回收的試樣進(jìn)行光學(xué)顯微觀察,得到了試樣細(xì)觀斷裂損傷的形貌特征。結(jié)果表明粗大的晶體顆粒會(huì)斷裂,細(xì)小的晶體顆粒發(fā)生界面脫粘。

        (3)用晶體穿晶斷裂和臨界脫粘理論對(duì)某PBX炸藥的斷裂模式進(jìn)行了相應(yīng)分析,能較好地預(yù)測(cè)晶體的斷裂行為。微裂紋成核在加載早期即可能成核,而穿晶斷裂可能才是造成試樣宏觀破壞的主要原因。目前還只能對(duì)晶體顆粒尺寸的影響進(jìn)行定性分析,還需要對(duì)粘結(jié)劑與晶體顆粒間的相互作用進(jìn)行更深入的研究,定量地判斷試樣的斷裂模式。

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