日本特許廳近日在其網(wǎng)站發(fā)布《2011年度報(bào)告》，就2010年日本工業(yè)產(chǎn)權(quán)申請(qǐng)、日本申請(qǐng)人的海外申請(qǐng)，以及該局審查/復(fù)審、授權(quán)情況等予以回顧和分析。日本發(fā)明專利申請(qǐng)量多年來(lái)維持在40萬(wàn)件左右。至2009年，日本發(fā)明專利申請(qǐng)量已大幅下降；2010年較上年則又減少1.1%，為344,598件。2010年，美國(guó)和歐洲申請(qǐng)的日本發(fā)明專利申請(qǐng)占外國(guó)申請(qǐng)總量(54,517件)的82%，達(dá)44,305件；韓國(guó)占8.9%，為4,872件；中國(guó)提交申請(qǐng)1,063件(1.9%)，較2006年激增約2倍，然而，與歐美相比依然很少。2010年，日本特許廳受理的PCT申請(qǐng)量為31,524件，較上年增長(zhǎng)7.6%。按PCT申請(qǐng)人居住國(guó)別統(tǒng)計(jì)，2010年源自日本的PCT申請(qǐng)達(dá)32,148件，增7.9%，為居美國(guó)(44,925件)后的第二位。2010年，日本特許廳發(fā)明專利平均實(shí)審周期為28.7個(gè)月，較上年少0.4個(gè)月,接近2008年的28.5個(gè)月。共完成無(wú)效復(fù)審和權(quán)利取消復(fù)審237件；復(fù)審周期9.8個(gè)月。口頭審理247件(含外觀設(shè)計(jì)和商標(biāo))。日本發(fā)明專利授權(quán)量持續(xù)大幅增長(zhǎng)，2010年高達(dá)222,693件，增15.2%。外國(guó)申請(qǐng)人獲日本發(fā)明專利授權(quán)達(dá)35,456件，增23%。其中，美國(guó)和歐洲的申請(qǐng)占83%；韓國(guó)占9.9%；中國(guó)255件，占近1.0%。