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        基于MEMS技術(shù)的微型閥研究

        2010-10-15 09:59:56張晰哲唐周強(qiáng)韓先偉管海兵
        火箭推進(jìn) 2010年1期
        關(guān)鍵詞:閥座膜片工質(zhì)

        張晰哲,唐周強(qiáng),韓先偉,管海兵,宦 飛

        (1西安航天動(dòng)力研究所,陜西西安710100;2上海交通大學(xué)信息安全工程學(xué)院,上海200041)

        0 引言

        基于MEMS的微型閥主要用于微推進(jìn)系統(tǒng),它是微型航天器的重要組成部分。其主要優(yōu)點(diǎn)有:尺寸及結(jié)構(gòu)質(zhì)量小、耗能低、具有集成化與大批量生產(chǎn)的可能性。將微型閥、微型泵、微推力器等集成在一起,形成微推進(jìn)系統(tǒng),可以大大減小微推進(jìn)系統(tǒng)的尺寸、降低結(jié)構(gòu)質(zhì)量、提高性能和控制精度。微型閥與微推進(jìn)系統(tǒng)配合可實(shí)現(xiàn)推進(jìn)劑的精確輸出,從而保證精確的推力,幫助微型航天器實(shí)現(xiàn)更好的姿態(tài)控制、位置保持等,為微/納航天器的進(jìn)一步應(yīng)用打下良好的基礎(chǔ)。

        表1 MEMS微型閥的技術(shù)評(píng)估Tab.1 Technical evaluation of MEMS microvalve

        根據(jù)工作原理,微型閥可以分為許多種,包括熱氣動(dòng)閥、雙金屬片致動(dòng)閥、形狀記憶合金(SMA)閥、靜電致動(dòng)閥、壓電致動(dòng)閥以及電磁致動(dòng)閥等。針對(duì)微型航天器推進(jìn)系統(tǒng)的應(yīng)用指標(biāo),表1中對(duì)各種微型閥的性能進(jìn)行了大體評(píng)估??梢钥闯?,大部分閥門(mén)在減少重量、體積和供電功率的方面容易做到。其中熱氣動(dòng)閥、雙金屬片閥以及形狀記憶合金閥的激勵(lì)時(shí)間較長(zhǎng),導(dǎo)致微型閥響應(yīng)時(shí)間過(guò)長(zhǎng),這會(huì)使推力器的工作時(shí)間過(guò)長(zhǎng)、脈沖沖量過(guò)大,同時(shí),這些閥門(mén)還會(huì)受到環(huán)境溫度的影響,即在過(guò)高的溫度下,閥門(mén)會(huì)自動(dòng)開(kāi)啟而產(chǎn)生錯(cuò)誤的動(dòng)作。

        電磁激勵(lì)除了為磁場(chǎng)生成制作線圈占用一定的空間外,還要考慮磁路的空間,因此,它需要較大的空間;與此對(duì)比靜電激勵(lì)和壓電激勵(lì)只需考慮平面電極的大小和電場(chǎng)空間即可,且靜電和壓電微型閥響應(yīng)快,控制方便。所以,根據(jù)不同激勵(lì)形式微型閥的技術(shù)特點(diǎn)、研究現(xiàn)狀和MEMS工藝水平、以及微推進(jìn)系統(tǒng)對(duì)微型閥的技術(shù)要求,對(duì)靜電激勵(lì)和壓電激勵(lì)微型閥進(jìn)行了方案研究。

        1 靜電激勵(lì)微型閥

        1.1 工作原理與結(jié)構(gòu)特點(diǎn)

        如圖1所示,靜電激勵(lì)閥由頂、低殼體和中間的膜片組成。頂殼材料為硼硅玻璃,下面鍍有一層電極。中間層為單晶硅的膜片和閥芯,膜片的上表面鍍有一層電極,底殼為硅材料的閥座。流體從入口流入時(shí),對(duì)膜片下表面和閥芯上表面的壓力相同,閥不會(huì)打開(kāi)。給上下電極施加反向電壓,則膜片向上彎曲,閥芯抬起,流體從出口流出。該閥的加工采用光刻、刻蝕、沉積和鍵合等工藝。

        該閥門(mén)由三層硅結(jié)構(gòu)組成,在加工時(shí)需要用到多層硅-硅鍵合的技術(shù),但該項(xiàng)技術(shù)目前在國(guó)內(nèi)還很不成熟,加工成品率很低,加工質(zhì)量較差。另外,由于在硅-硅鍵合時(shí)無(wú)法施加預(yù)形變,導(dǎo)致閥芯和閥座只能依靠流體壓力相接觸,密封性能很差。所以,總的來(lái)說(shuō),靜電致動(dòng)微型閥體積小,功耗低,系統(tǒng)集成性好,但其結(jié)構(gòu)較復(fù)雜,加工困難,且密封性能差。

        1.2 系統(tǒng)計(jì)算

        如果氣體的Ma<0.3,則認(rèn)為氣體是不可壓縮的,即為不可壓流動(dòng);稀薄氣體流動(dòng)一般為高努德森數(shù) (Kn>0.1)和低馬赫數(shù) (Ma<0.3)流,因此認(rèn)為它是不可壓流動(dòng)。

        對(duì)于自由分子流,微通道內(nèi)的流速與工質(zhì)分子量的平方呈反比,即流速與工質(zhì)的種類有關(guān),見(jiàn)式(1)

        式中,v為流速,m/s;D、L分別為管路的直徑和長(zhǎng)度,m,其中D≤L≤λ;R為氣體常數(shù),J/(kg·K);pin、pout分別為入口和出口壓強(qiáng),Pa。

        對(duì)于連續(xù)流,推進(jìn)劑工質(zhì)的最大質(zhì)量流量為

        對(duì)于自由分子流(Kn>10),由推進(jìn)劑工質(zhì)的分子量,可以得到流經(jīng)膨脹縫隙的質(zhì)量流量

        式中,p為工作壓強(qiáng),Pa;m˙為質(zhì)量流量,kg/s;As為流通面積,m2;k為工質(zhì)比熱比,對(duì)于單原子分子k=1.667,雙原子分子k=1.400,多原子分子k=1.200;R為氣體常數(shù),R=287.06J/(kg·K);T為溫度,K。

        空氣中兩平行電極板之間產(chǎn)生的靜電力為

        式中,F(xiàn)為靜電力,N;ε0為真空介電常數(shù),ε0=(1/36π)×10-9F/m;εr為介電材料的相對(duì)介電常數(shù);V為電壓,V;d為間隙寬度,m;S為電極板面積,m2。

        周邊固支的方板受到均勻壓力載荷p作用時(shí),方板將發(fā)生彎曲,方板中心最大變形量為

        式中,E為材料的楊氏模量,Pa;a為方板邊長(zhǎng),m;h為方板厚度,m。負(fù)號(hào)表示方向向下。

        假定電極板尺寸為5mm×5mm,厚度30μm,間距15μm。對(duì)電極施加150V的電壓時(shí),由公式(4),(5)可求得電極的最大應(yīng)變量為10μm。

        根據(jù)微型閥的結(jié)構(gòu),閥座的位移為wdp=10μm,閥座的尺寸為5mm×5mm,可以得到微型閥的流通面積為 As=4awdp=4×5000×10×10-12=0.2mm2

        對(duì)不同工質(zhì),推進(jìn)劑的質(zhì)量流量不同。根據(jù)公式(1)、(2)、(3)可求得,對(duì)于工質(zhì)為水 (H2O),當(dāng)微型閥工作溫度為300K,工作壓強(qiáng)為0.2MPa時(shí),在連續(xù)流狀態(tài)下,微型閥的質(zhì)量流量為

        式中,ε為流量系數(shù);ρ為推進(jìn)劑密度,kg/m3;ΔP為壓降,Pa。

        對(duì)于工質(zhì)為氮?dú)猓∟2),當(dāng)微型閥工作溫度為300K,工作壓強(qiáng)為0.2MPa時(shí),在連續(xù)流狀態(tài)下,微型閥的質(zhì)量流量為

        在自由分子狀態(tài)下,微型閥的質(zhì)量流量為

        1.3 有限元分析

        用ANSYS對(duì)厚度10~40μm的閥膜片進(jìn)行有限元分析,得出結(jié)果如圖2所示。

        由圖2可以看出:

        (1)致動(dòng)電壓越高,則致動(dòng)力越大,由此造成的閥芯位移也越大,閥芯的位移與致動(dòng)電壓的2次方成正比,因此可以通過(guò)適當(dāng)?shù)奶岣唠妷簛?lái)使閥芯位移增大,從而提高微閥的輸出。但是,過(guò)高的致動(dòng)電壓可能會(huì)造成電極的擊穿,并且電壓提高會(huì)導(dǎo)致功耗增加。對(duì)于邊長(zhǎng)為5mm的正方形膜片,在工作電壓為150V,膜片厚度為10μm時(shí),最大應(yīng)力僅為364MPa,遠(yuǎn)小于硅的屈服應(yīng)力7000MPa,強(qiáng)度足可以達(dá)到要求。

        (2)在相同的致動(dòng)電壓下,膜片的撓度隨著膜片厚度的增加指數(shù)遞減。膜片越薄,閥芯輸出的位移也就越大,所以可以通過(guò)減小膜片的厚度來(lái)增加閥的輸出。但是由于受到加工工藝的限制,膜片的厚度不可能無(wú)限制的減小。所以,在微型閥的設(shè)計(jì)中,應(yīng)綜合考慮加工工藝與輸出效率的影響,選擇合理的膜片厚度。

        2 壓電激勵(lì)微型閥

        2.1 工作原理與結(jié)構(gòu)特點(diǎn)

        壓電激勵(lì)器是由壓電陶瓷片(PZT)和電極組成的,通常有塊狀或圓片狀商品壓電陶瓷供貨,采用環(huán)氧樹(shù)脂粘接在激勵(lì)器的膜片上。這種激勵(lì)器變形大 (相同驅(qū)動(dòng)條件下膜片越薄變形量越大且與驅(qū)動(dòng)電壓和頻率成比例)、響應(yīng)快、產(chǎn)生的力大(1kN)、功耗小,通常將多片疊成壓電堆或壓電塊以增加激勵(lì)力和應(yīng)變量,但驅(qū)動(dòng)電壓相對(duì)較高 (30V~150V)。

        微型閥結(jié)構(gòu)包括兩層硅結(jié)構(gòu)、外部的不銹鋼法蘭以及壓電陶瓷致動(dòng)器,圖3(a)是兩層硅片鍵合后的結(jié)構(gòu),圖3(b)是封裝后的結(jié)構(gòu)。在兩層硅結(jié)構(gòu)鍵合時(shí),為了避免閥芯和閥座粘結(jié)在一起,在其之間留有5μm的縫隙。閥門(mén)靜止時(shí),壓電陶瓷的長(zhǎng)度導(dǎo)致膜片產(chǎn)生變形,閥芯下降堵住流道。當(dāng)閥門(mén)工作時(shí),給壓電陶瓷施加電壓,壓電陶瓷發(fā)生收縮,閥芯回到原位,從而打開(kāi)流道。

        壓電激勵(lì)閥的體積比靜電激勵(lì)閥略大,但由于外部法蘭和壓電陶瓷可以壓緊閥芯,使得壓電激勵(lì)閥的密封壓力很大,密封性能也好了很多。另外,壓電激勵(lì)閥的硅基結(jié)構(gòu)也較為簡(jiǎn)單,不需過(guò)于復(fù)雜的MEMS工藝,使它的加工更加容易。

        2.2 系統(tǒng)計(jì)算

        根據(jù)壓電陶瓷材料的特性,壓電陶瓷在電場(chǎng)的作用下,將產(chǎn)生機(jī)械應(yīng)變,材料的應(yīng)變?yōu)?/p>

        式中,ε為產(chǎn)生的應(yīng)變;V是所加電場(chǎng),V/m;d33是壓電晶體壓電系數(shù)。

        根據(jù)鋯鈦酸鋇PZT的特性,選用10mm×10mm×10mm的疊堆狀 PZT,根據(jù)公式 (6)可知,當(dāng)電壓為150V時(shí),閥座的位移為wdp=7.14μm,閥座的尺寸為3mm×3mm,可以得到微型閥的流通面積為

        式中,As為流通面積,m2;dv為閥座邊長(zhǎng),m。

        對(duì)于不同的工質(zhì),推進(jìn)劑的質(zhì)量流量不同,對(duì)于工質(zhì)為水(H2O),當(dāng)微型閥工作溫度為300K,工作壓強(qiáng)為0.2MPa時(shí),在連續(xù)流狀態(tài)下,微型閥的質(zhì)量流量為

        對(duì)于工質(zhì)為氮?dú)猓∟2),當(dāng)微型閥工作溫度為300K,工作壓強(qiáng)為0.2MPa時(shí),在連續(xù)流狀態(tài)下,微型閥的質(zhì)量流量為

        在自由分子狀態(tài)下,微型閥的質(zhì)量流量為

        3 原理樣件加工試驗(yàn)

        3.1 靜電與壓電微型閥的特點(diǎn)對(duì)比

        靜電激勵(lì)微型閥體積小,功耗低,系統(tǒng)集成性好,但其致動(dòng)力小,結(jié)構(gòu)較復(fù)雜,加工困難。而且由于加工工藝對(duì)結(jié)構(gòu)的限制,靜電激勵(lì)閥的密封壓力很小,密封性能很差。

        壓電激勵(lì)微型閥體積比靜電激勵(lì)閥略大,但其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,加工相對(duì)容易一些,且致動(dòng)力大,密封性能好;壓電致動(dòng)器工藝成熟,有可供選用的產(chǎn)品,易于與電路連接;壓電激勵(lì)控制容易,響應(yīng)速度快,所以,選擇壓電激勵(lì)微型閥進(jìn)行了原理樣件的加工試驗(yàn)。

        3.2 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和工藝攻關(guān)

        多層硅-硅鍵合的工藝目前還很不成熟,所以方案中的壓電激勵(lì)閥采用了雙層硅結(jié)構(gòu)加外部不銹鋼法蘭的形式。如圖3(a)所示,在一層硅片上刻出流體入口、出口與閥座,另一層硅片上刻出薄膜與閥芯,將這兩層硅片鍵合,鍵合時(shí)在閥芯與閥座間留有5μm的空隙,以防止閥芯與閥座被鍵合在一起。鍵合完成后,安裝壓電陶瓷與不銹鋼法蘭,如圖3(b)所示,法蘭用螺栓固定,壓電陶瓷被安裝在法蘭中央的套筒里,并利用壓電陶瓷壓迫硅薄膜,使閥芯與閥座緊密結(jié)合在一起,從而關(guān)閉閥門(mén),形成密封結(jié)構(gòu)。

        該閥門(mén)的加工主要使用了光刻-刻蝕掩模-腐蝕體硅等MEMS工藝,主要流程為:沉積Si3N4掩?!ü饪蘏i3N4掩?!涛gSi3N4掩模圖形→腐蝕Si)→去除Si3N4。其中閥芯層要經(jīng)歷4次光刻→腐蝕的過(guò)程,而閥座層只需要一次雙面光刻→腐蝕即可完成。

        3.3 原理樣件的試驗(yàn)

        試驗(yàn)中觀察到下列現(xiàn)象:a)當(dāng)閥門(mén)靜止時(shí),部分樣件流道并未完全關(guān)閉,依然有工質(zhì)流出,個(gè)別樣件的側(cè)壁還出現(xiàn)了泄漏現(xiàn)象;b)當(dāng)閥門(mén)工作時(shí),幾臺(tái)樣件的流量有了不同程度的增加。

        通過(guò)分析試驗(yàn)現(xiàn)象及結(jié)果,得出如下結(jié)論:a)壓電致動(dòng)微型閥原理可行,方案合理;b)通過(guò)壓電致動(dòng)器可控制閥芯的移動(dòng),使閥門(mén)流通面積發(fā)生變化,從而實(shí)現(xiàn)閥門(mén)的開(kāi)啟、關(guān)閉和流量變化;c)閥門(mén)連接處存在泄漏,流量控制也不精確,表明加工質(zhì)量較差,閥門(mén)封裝結(jié)構(gòu)有待完善,還需開(kāi)展進(jìn)一步工藝攻關(guān)和結(jié)構(gòu)優(yōu)化設(shè)計(jì)。

        圖4為封裝前后的壓電激勵(lì)閥照片。

        4 結(jié)束語(yǔ)

        通過(guò)理論分析、數(shù)值計(jì)算和方案對(duì)比,基于MEMS技術(shù)的壓電致動(dòng)微型閥具有控制容易、密封性能好、響應(yīng)速度快、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易于加工等優(yōu)點(diǎn)。通過(guò)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、工藝攻關(guān)和試驗(yàn)檢測(cè),結(jié)果表明基于MEMS技術(shù)的壓電致動(dòng)微型閥原理可行,方案合理。進(jìn)一步的結(jié)構(gòu)優(yōu)化,逐步解決了多層鍵合和系統(tǒng)封裝等MEMS加工工藝,可以獲得高性能的微型閥;通過(guò)與推進(jìn)劑管理裝置、微型推力器、微型控制器等的集成,可以獲得高性能一體化微推進(jìn)系統(tǒng),滿足微型航天器的要求。

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