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        太陽(yáng)能電池埋柵電極制造新技術(shù)

        2010-03-26 06:38:18靳志強(qiáng)
        關(guān)鍵詞:銅層鍍鎳硅片

        歐 萌,靳志強(qiáng)

        (中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第二研究所,山西太源030024)

        自工業(yè)大發(fā)展以來(lái),人們對(duì)能源的追求就從未中斷過(guò),而地球上的各種能源均是直接或間接的來(lái)源于太陽(yáng)。光伏現(xiàn)象被發(fā)現(xiàn)后,太陽(yáng)能發(fā)電的研究就成為最具發(fā)展的研究領(lǐng)域。太陽(yáng)能電池的研制和開(kāi)發(fā)進(jìn)展神速,其中硅太陽(yáng)能電池制造技術(shù)最為成熟,已實(shí)現(xiàn)大規(guī)模的生產(chǎn)及應(yīng)用。

        我國(guó)自20世紀(jì)五、六十年代開(kāi)始發(fā)展光伏行業(yè)以來(lái),通過(guò)四十多年的努力,在工藝技術(shù)和產(chǎn)能上都有了長(zhǎng)足的進(jìn)步,特別是近年來(lái)“光明工程”、“送電到鄉(xiāng)”等一些國(guó)家項(xiàng)目的啟動(dòng),以及世界光伏市場(chǎng)的有力拉動(dòng),使我國(guó)光伏發(fā)電產(chǎn)業(yè)得到了更加迅猛的發(fā)展。至2008年底太陽(yáng)能電池產(chǎn)量已突破200萬(wàn)kW,光伏企業(yè)的增加,伴隨著激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng),尤其是在去年的金融危機(jī)爆發(fā)后,全球市場(chǎng)迅速萎縮,競(jìng)爭(zhēng)加劇,對(duì)于每一個(gè)光伏企業(yè)而言,要想在如此嚴(yán)峻的形勢(shì)下繼續(xù)生存,并進(jìn)一步獲得發(fā)展,只有依靠技術(shù)的不斷創(chuàng)新。新技術(shù)的研發(fā)將決定著我國(guó)光伏企業(yè)的持續(xù)發(fā)展空間。

        目前,已有許多國(guó)外光伏企業(yè)通過(guò)電鍍法來(lái)制造硅太陽(yáng)能電池的埋柵電極,取代了常規(guī)的印刷法,這樣可有效降低柵線(xiàn)電極的制造成本,并提高太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率,本文將對(duì)這一新技術(shù)進(jìn)行相應(yīng)的介紹。

        1 與傳統(tǒng)工藝相比較

        電鍍電極工藝與絲網(wǎng)印刷電極工藝技術(shù)的對(duì)比如圖1所示。

        圖1 電鍍電極與絲網(wǎng)印刷電極工藝技術(shù)之對(duì)比

        與印刷法相比較,電鍍法的生產(chǎn)效率更高,另外其使用鎳-銅-錫組合工藝,達(dá)到了太陽(yáng)能電池柵線(xiàn)電極的技術(shù)要求,在成本上比印刷銀漿有了大幅下降。最主要的是其柵線(xiàn)電極為埋槽嵌入式,增加了與硅片的接觸面積,降低了電極與硅片的接觸電阻,同時(shí)又增大了硅片的吸光面積,從而有效提高太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)化率。印刷法電極結(jié)構(gòu)見(jiàn)圖2,埋柵電極結(jié)構(gòu)見(jiàn)圖3。

        圖2 印刷法電極結(jié)構(gòu)示意圖

        圖3 埋柵電極結(jié)構(gòu)示意圖

        2 電鍍法工藝技術(shù)流程

        硅片進(jìn)行邊緣結(jié)刻蝕后,即可轉(zhuǎn)入埋柵電極電鍍法制造流程,具體工藝流程描述如下。

        2.1 激光刻槽

        激光刻槽即按設(shè)計(jì)好的梳狀電極圖形,刻出電鍍所需的溝槽,刻槽深度要根據(jù)太陽(yáng)能電池設(shè)計(jì)工藝要求而定,如采用一次擴(kuò)散,則在電池設(shè)計(jì)上為了減小發(fā)射區(qū)表面淺層內(nèi)“死層”的厚度,降低發(fā)射區(qū)內(nèi)少子復(fù)合,提高電池短波響應(yīng)及開(kāi)路電壓等諸多關(guān)聯(lián)參數(shù),一般會(huì)采用淺結(jié)磷擴(kuò)散,因此也要求溝槽深度較淺,這樣一來(lái),就會(huì)減小電鍍電極與硅片的接觸面積,降低其結(jié)合力,不利于后期的電池片互連焊接強(qiáng)度;另外,也使磷擴(kuò)散層橫向電阻功耗率增大,將影響整個(gè)電池片的效率提高空間,雖然采取增加電極數(shù)量,可以減少橫向電阻功耗,但又會(huì)減小電池片的有效吸光面積,同樣會(huì)影響到電池的轉(zhuǎn)化效率。因此,建議最好采用二次擴(kuò)散工藝,即刻槽后,再進(jìn)行一次擴(kuò)散,這樣將能很好地解決以上諸多問(wèn)題,制造出高性能的硅太陽(yáng)電池片。

        2.2 化學(xué)鍍鎳

        刻槽后硅片經(jīng)脫脂、水洗、活化后,即可進(jìn)行化學(xué)鍍鎳打底?;瘜W(xué)鍍鎳采用堿性工藝,具體配制及操作工藝:硫酸鎳(NiSO4·7H2O)35 g/L,次亞磷酸鈉 (NaH2PO2·H2O)25 g/L,焦磷酸鈉 (Na3C6H5O7·2H2O)70 g/L,pH值9~10,溫度60℃。

        化學(xué)鍍鎳時(shí)可通過(guò)設(shè)備對(duì)硅片進(jìn)行單面操作或單面保護(hù)來(lái)進(jìn)行,通過(guò)擴(kuò)散后的硅極對(duì)堿性化學(xué)鎳有著良好的催化作用,在硅片正面無(wú)須制作鍍覆窗口,鎳金屬可有選擇性地沉積在電極溝槽內(nèi),化學(xué)鍍鎳主要是為了在硅極上沉積后續(xù)電鍍所需的導(dǎo)電層,另外,也是為了增加整個(gè)電極與硅片的結(jié)合力。堿性化學(xué)鎳的pH值,對(duì)沉積速度的均勻性有很大的影響,為了保證化學(xué)鎳的沉積質(zhì)量,需對(duì)操作過(guò)程中溶液的pH值進(jìn)行嚴(yán)格控制,可采用pH電極即時(shí)檢測(cè),再通過(guò)控制計(jì)量泵對(duì)溶液進(jìn)行在線(xiàn)自動(dòng)添加氨水來(lái)解決,另外,氨水的揮發(fā)性很大,要注意通風(fēng)。

        2.3 電鍍鎳

        化學(xué)鍍鎳后,可選擇高溫?zé)Y(jié),這樣可以大大提高電極與硅片結(jié)合力。然后再進(jìn)行電鍍鎳,具體配制及操作工藝:氨基磺酸鎳[Ni(NH2SO3)2·4H2O]300 g/L,硼酸(H3BO3)40 g/L,去應(yīng)力劑 40 m l/L,陽(yáng)極活化劑5m l/L,潤(rùn)濕劑1m l/L,pH值3.0,溫度90℃,電流密度2 A/dm2,攪拌強(qiáng)度中等。

        由于化學(xué)鍍鎳速度較慢,需要電鍍鎳進(jìn)行加厚,鍍鎳層是為了隔離銅層與硅片的接觸,因?yàn)殂~離子對(duì)硅極有著強(qiáng)烈的毒化作用。電鍍鎳采用的氨基磺酸鎳體系沉積速度快,結(jié)晶細(xì)致,鍍液分散性好,可獲得低應(yīng)力的柔韌性鍍層,廣泛應(yīng)用于電子行業(yè)中的底層電鍍。

        2.4 電鍍銅

        銅與銀一樣有著良好的介電性能,在價(jià)格上銅與銀的優(yōu)勢(shì)不言而喻,但在制作各種導(dǎo)電漿料上,銅因?yàn)楹苋菀籽趸?dǎo)電性,所以很難應(yīng)用,用電鍍法可獲得純度極高的銅層,而充分發(fā)揮其優(yōu)良的性?xún)r(jià)比,因此在各類(lèi)導(dǎo)電布線(xiàn)工藝中,電鍍銅無(wú)可替代。在硅太陽(yáng)能電池電極電鍍層結(jié)構(gòu)中,銅層的作用就是導(dǎo)電,其具體配制及操作工藝:硫酸銅(CuSO4·5H2O)200 g/L,硫酸(H2SO4)80 g/L,氯離子(Cl-)70mg/L,抑制劑 12m l/L,光亮劑 30m l/L,整平劑 20m l/L,溫度20~25℃,電流密度5 A/dm2,攪拌強(qiáng)度強(qiáng)烈。

        因?yàn)橐M(jìn)行溝槽填充電鍍,電鍍銅工藝必須具有各向異性,因此加入抑制劑,對(duì)溝槽側(cè)壁的鍍銅速度進(jìn)行相對(duì)抑制,這樣才能獲得均勻、致密的銅層。

        2.5 電鍍錫

        電鍍錫的作用,首先是對(duì)電鍍銅層起到良好的保護(hù),防止其氧化,第二是提供良好的可焊性,為電池片的連接打好基礎(chǔ)。具體配制及操作工藝:甲基磺酸錫[Sn(CH3SO3)2]110 g/L,其中金屬錫40 g/L,絡(luò)合劑 70mg/L,補(bǔ)充劑12m l/L,溫度18~25℃,電流密度2 A/dm2,攪拌強(qiáng)度中等。

        電鍍錫采用甲基磺酸工藝,該工藝是近年來(lái)才發(fā)展起來(lái)的新工藝,其相比于傳統(tǒng)的硫酸、氟硼酸體系有著明顯的特點(diǎn)。甲基磺酸屬有機(jī)酸,其鍍液性能十分穩(wěn)定,水解產(chǎn)物少,錫鹽的溶解性高,可在高濃度下進(jìn)行電鍍操作,允許高電流、高鍍速,配合相應(yīng)的添加劑,可得到平整性良好的鍍層,并且鍍液腐蝕性相對(duì)較小,對(duì)設(shè)備的腐蝕性低。

        3 結(jié)束語(yǔ)

        2009年3月我國(guó)財(cái)政部、住房和城鄉(xiāng)建設(shè)部推出“太陽(yáng)能屋頂計(jì)劃”,對(duì)50萬(wàn)kW以上的光伏發(fā)電系統(tǒng),每瓦最高可支付20元人民幣。該補(bǔ)貼的力度比較大,可抵消制造成本的30%以上,雖然用于補(bǔ)貼的資金總額并不多,但對(duì)我國(guó)光伏產(chǎn)業(yè)的影響深遠(yuǎn),體現(xiàn)了我國(guó)政府對(duì)太陽(yáng)能發(fā)電的日益重視,相信在不久的將來(lái),將一改我國(guó)光伏行業(yè)90%市場(chǎng)依賴(lài)出口的局面,使我國(guó)不僅是生產(chǎn)制造方面的大國(guó),也是使用太陽(yáng)能的巨大市場(chǎng)。技術(shù)的不斷更新,必將使我國(guó)的光伏產(chǎn)業(yè)走向世界之顛。

        參考資料:

        [1]M.A.Green,C.M.Chong,F.Zhang,A.Sproul,J.C.Zolper,and S.R.Wenham,Conference Record[A].20th IEEEPhotovoltaic Specialists Conference[C].Las Vegas,September,1988(IEEE,New York,1988),p.411.

        [2]D.Carlson.Proceedings of the 4th International Photovoltic Science and Engineering Conference[C].Sydney,February 1989(IREE,Sydney,1989),p.529.

        [3]Y.Tamaki,S.Isomae,K.Sagara,and T.Kure,J.Elec trochem[J].Soc.135,726(1988),p.67.

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