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        N離子注入非晶碳膜的CN成鍵研究

        2005-04-29 00:00:00林景波李俊杰李哲奎顧廣瑞蓋同祥胡超權(quán)呂憲義金曾孫

        在新型薄膜材料的合成技術(shù)中,離子注入方法作為一種非平衡工藝,能控制添加不同的離子而獲得所需的表面特性,同時(shí)可以誘導(dǎo)一些新的亞穩(wěn)定相的形成;離子注入能夠?qū)w材料進(jìn)行表面改性而不改變體材料特性,從而解決了涂層附著力的問題;此外,通過變化注入?yún)?shù)(如注入離子能量、劑量、襯底溫度等)或通過注入后的退火工藝形成近理想配比的薄表面膜,Markwitz等人成功地利用此種方法合成了近理想配比的β-Si3N4.

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